一种低辐射玻璃的制作方法技术

本发明专利技术公开了一种低辐射玻璃的制作方法,其特征在于包括以下步骤：A、交流中频电源溅射陶瓷钛靶，在玻璃基板上磁控溅射TiO2介质层；B、直流电源溅射铬平面靶，在TiO2介质层上磁控溅射CrNx阻挡层；C、交流电源溅射掺铝氧化锌陶瓷旋转靶，在TiO2介质层上磁控溅射AZO平整层；D、直流电源溅射银平面靶，在AZO平整层上磁控溅射Ag功能层；E、直流电源溅射，在Ag功能层上磁控溅射(NiCr)xOy层；F、交流中频电源溅射锡靶，在(NiCr)xOy层上磁控溅射SnO2保护层；G、直流电流溅射石墨靶，在步SnO2保护层上磁控溅射C层。本发明专利技术的目的提供一种工艺简单，操作方便，生产成本相对较低的低辐射玻璃的制作方法。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了,其特征在于包括以下步骤：A、交流中频电源溅射陶瓷钛靶，在玻璃基板上磁控溅射TiO2介质层；B、直流电源溅射铬平面靶，在TiO2介质层上磁控溅射CrNx阻挡层；C、交流电源溅射掺铝氧化锌陶瓷旋转靶，在TiO2介质层上磁控溅射AZO平整层；D、直流电源溅射银平面靶，在AZO平整层上磁控溅射Ag功能层；E、直流电源溅射，在Ag功能层上磁控溅射(NiCr)xOy层；F、交流中频电源溅射锡靶，在(NiCr)xOy层上磁控溅射SnO2保护层；G、直流电流溅射石墨靶，在步SnO2保护层上磁控溅射C层。本专利技术的目的提供一种工艺简单，操作方便，生产成本相对较低的低辐射玻璃的制作方法。【专利说明】
本专利技术涉及。
技术介绍
低辐射玻璃是指对红外辐射具有高反射率，对可见光具有良好透射率的平板镀膜玻璃。低辐射玻璃具有良好的透光、保温、隔热性能，广泛应用于窗户、炉门、冷藏柜门等地方。现有的低辐射玻璃其强度不够很容易遭受损坏，影响正常的使用，不能满足使用者的需求，故此，现有的低辐射玻璃有待于进步完善。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了克服现有技术中的不足之处，提供本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：魏佳坤，
申请(专利权)人：揭阳市宏光镀膜玻璃有限公司，
类型：发明
国别省市：