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本发明公开了一种低辐射玻璃的制作方法,其特征在于包括以下步骤：A、交流中频电源溅射陶瓷钛靶，在玻璃基板上磁控溅射TiO2介质层；B、直流电源溅射铬平面靶，在TiO2介质层上磁控溅射CrNx阻挡层；C、交流电源溅射掺铝氧化锌陶瓷旋转靶，在Ti...
该专利属于揭阳市宏光镀膜玻璃有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过揭阳市宏光镀膜玻璃有限公司授权不得商用。

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