本发明的课题在于提供一种与现有的方法相比低成本地评价润湿性的方法。本发明的优选的一个方面是一种润湿性评价装置，其特征在于，具有：导入第一介质和第二介质的流路；测量在导入所述第一介质和所述第二介质时流过所述流路的电流值的测量器；以及基于所...

在利用了圆偏振波的等离子处理装置中，为了能减少反射波的影响从而将圆偏振波效率良好地利用在等离子处理中，等离子处理装置具备：产生微波的微波源；使用通过该微波而产生的等离子来对设置于内部的被处理物进行处理的等离子处理室；和具备与微波源连接的...

本发明提供一种实现磁性粒子的捕集率的增大的试样分析装置。试样分析装置具备：流路，其将包含与特定物质结合后的磁性粒子的试样液导入捕捉区域；供给单元，其向所述流路供给所述试样液；捕捉单元，其具有产生磁场的磁场构造并利用所述磁场使所述磁性粒子...

本发明具备：输送注射器(10)、送液阀(40)，其分注填充于比较电极液瓶(5)、碱性洗涤剂瓶(39)的消耗品试剂；液面检测部(38)，其探测比较电极液瓶(5)、碱性洗涤剂瓶(39)内的消耗品试剂的液面；以及控制装置(29)，其基于输送注...

具备用于检体的分析的一个以上的机构、覆盖机构中的一个以上的主罩(21)、试剂罩(22)、检体罩(23)、以及检测主罩(21)、试剂罩(22)、检体罩(23)的开闭的开闭传感器(21a、22a、23a)，在开闭传感器(21a、22a、23...

提供如下的等离子处理方法的技术：其是简单的工艺，且在抑制图案表面的杂质污染的同时实施侧壁保护膜的形成和除去工序，能抑制弯曲形成等而将钌图案加工成所期望的截面形状。在通过等离子对钌膜进行蚀刻的等离子处理方法中，具有：第一工序，通过使用氧气...

为了容易地进行液相色谱仪质量分析装置的异常检测，具有：具有多个流路的液相色谱仪；质量分析装置(110)；以及从质量分析装置(110)取得作为物质的测定结果的信号强度的处理装置(2)，多个流路分别具备分离柱(105)，并且多个流路以相互并...

在搬运载玻片的技术中，以简单的结构提供一种特别是能够保持载置于载玻片上的液体并搬运载玻片的载玻片搬运装置。载玻片搬运装置具备：把持部，其能够把持和放开载玻片；以及驱动部，其能够移动把持部。在此，把持部具有：至少三个以上的多个指部(3)；...

本发明提供能够提取图像内的重要的特征量并进行映射的图像分类装置及其方法。本发明具备：特征量提取部(101)，其生成对图像组所包含的图像中的相同的图像赋予不同的噪声而生成的第一图像组和由不同的图像构成的第二图像组，以使从第一图像组得到的特...

本公开的目的是提供一种在使用细孔的生物试料分析技术中无论在生物试料浓度较高的情况下还是较低的情况下都以适当的通过频率测量试料的技术。本公开的生物试料分析装置包括经由具有细孔的基板相对配置的第一腔室和第二腔室，所述第一腔室被分隔成第一分区...

在分别对从多根毛细管发出的荧光进行分光并使用图像传感器一并进行荧光测量的装置中，将投影有各荧光的规定波段成分的图像传感器上的合并区域的像素数设为B<subgt;m</subgt;，将硬合并的像素数设为B<subgt;h...

本发明为了高效地使试剂保冷库干燥，而提供一种试剂保冷库(1)，其特征在于，具有：试剂盘(101)，其形成保持试剂容器的空间即试剂容器保持部(102)；内壁(103)，其设置为与试剂盘(101)保持预定的距离；以及盖(150)，其将试剂保...

本发明提供一种电解质测定结构，能够降低试样液的滞留对测定值的影响，进行准确的测定，并且能够顺利地进行离子选择性电极的更换作业。一种电解质测定用结构，具有能够经由密封材料与其他电解质测定用结构连接且具备贯通的流路(401a)的主体(401...

本发明提供一种具有管理用户对检体信息的阅览的信息泄漏对策功能的自动分析装置。为此，计算机在登录的用户使显示装置显示针对规定的检体ID的检体信息时，参照针对用户的用户ID按每个分析项目设定的参照权限信息和针对规定的检体ID的检体ID数据的...

一种图像处理装置，具备：图像输入部(201)，其接受输入图像；图像生成部(202)，其从所述输入图像生成用于特征量提取的图像；特征量提取部(203)，其从所述图像生成部生成的生成图像提取特征量；识别部(205)，其使用所述特征量提取部输...

提供一种等离子处理装置，控制微波电力的第一输出期间的长度和所述第二输出期间的长度，以使得成为所期望的晶片ER分布。在利用通过脉冲调制了的高频电力生成的等离子进行等离子处理的等离子处理装置中，特征在于，脉冲调制的一周期具有：微波输出的第一...

本发明的目的在于，提供一种等离子体处理方法，该处理方法抑制保护膜在与基板表面平行的方向上堆积而阻塞掩模图案的开口部的情况，即使是狭小的空间，也可以改善图案加工。本发明的等离子体处理方法使用形成于掩模的保护膜对被蚀刻膜进行等离子体蚀刻，该...

提供减少在等离子处理装置的维护后产生的异物从而能在短时间内实现能产品开工的状态的等离子处理方法。对样品进行等离子处理的等离子处理方法在对所述样品进行等离子处理的处理室的维护后具有：扫出工序，扫出异物；沉积工序，在扫出工序后，使沉积膜沉积...

在光声物性测量装置中，为了能够比较轻松地应对由测定对象物的配置状态、光声单元与测定对象物的间隙的状态等引起的共振频率的变化，能够在不降低检测灵敏度的情况下以较短的时间测量对象物的物性，将光声物性测量装置构成为具备：光照射部，其向对象物照...

本发明提供一种自动分析装置，能够在不影响分析动作的情况下持续监视自动分析装置的倾斜量。为此，自动分析装置具备：多个调节脚(37)，其设置于框架底面(72a)，支承框架(70)；机构基座(35)，其被框架上表面(72b)支承；倾斜传感器(...