株式会社日立高新技术专利技术

株式会社日立高新技术共有2367项专利

  • 本发明提供一种显示面板模块装配装置,现有显示面板模块装配装置存在如下课题:显示面板的输送和处理作业时的定位动作需要的机构复杂,显示面板的输送、定位等所消耗的时间相对于处理作业时间长。在各处理作业时间上产生时间差,因此一部分处理作业装置的...
  • 本发明提供如下电子部件安装装置,在保持必要动作过程时间的同时,可以提高设备的处理能力,在最小空间进行处理,而且可以选择对应于搭载程序的对象头。具有:供给要安装于面板的多个电子部件的电子部件供给部;将从该电子部件供给部供给的电子部件进行定...
  • 一种显示面板输送装置及显示面板模块组装装置。显示面板模块组装装置中的显示面板的输送和处理作业时的定位动作所需的机构复杂,显示面板的输送、定位等相对于处理作业时间花费的时间长。各处理作业时间不同导致一部分的处理作业装置的工作率降低。在各处...
  • 本发明提供一种不需要搭载部件偏移检查作业的处理时间,而且不需要进行搭载部件偏移检查作业的专用的处理作业装置,且具有能够缩短所述检查作业所需的处理作业装置长度的搭载部件的位置偏移检查的处理作业装置或搭载部件偏移检查方法、或者显示基板模块组...
  • 本发明提供一种当显示装置的部件搭载接合处理时能够避免显示基板的翘曲引起的部件搭载位置精度或接合可靠性下降的作业边固定底座,提供一种具有作业边固定底座的安装处理作业装置或使用了作业边固定底座的安装处理作业方法,形成为具有安装处理作业装置或...
  • 样品检查系统及其装置管理服务器的应用方法
    本发明涉及样品检查系统及其装置管理服务器的应用方法。该样品检查系统的装置管理服务器具有:基于从样品通道系统接受的检查委托数据生成的样品处理信息、具有前述样品检查线路处理时间的设备数据、基于样品处理信息和设备数据来模拟样品处理时间的模拟实...
  • 本发明提供可以缩短ACF粘贴处理作业和ACF粘贴状态的检查作业的总作业时间的、或者可以缩短在ACF粘贴中需要的处理作业装置宽度的处理作业装置或ACF粘贴状态检查方法,或者提供可以缩短显示基板模块组装的节拍时间的、或者组装线长度短的显示基...
  • 本发明提供面板处理装置及其方法。该面板处理装置中包括:ACF粘贴机构,将ACF粘贴到面板的TAB搭载部;临时压接结合机构,将分别设置于TAB搭载部和半导体电路装置的外部引线部的标记间的当前偏移量与负反馈量相加而得到的值作为新的偏移量来进...
  • 本发明提供一种盘表面缺陷检查方法以及装置。该盘表面缺陷检查方法包括以下步骤:从斜方向对旋转的盘基板表面照射激光的步骤;检测来自微小的凹凸缺陷的低角度散射光的强度和高角度散射光的强度的步骤;在所述低角度散射光的强度和高角度散射光的强度的比...
  • 掩膜构件的清洗装置及清洗方法以及有机EL显示器,当清洗进行了真空蒸镀后的掩膜构件时,将对清洗时的掩膜构件及清洗装置的负荷抑制到最小限度。将掩膜构件(1)在干洗涤台(11)中保持成铅直状态,使激光光线的脉冲从激光振荡器(22)经扫描光学系...
  • 本发明的课题是在液晶曝光装置中提供组装平台时容易定位的构造。本发明提供一种液晶曝光装置,具有:搭载工件的工件台、具有该工件台的移动机构的可动平台、具有该可动平台的移动机构的固定平台、和支持对所述工件台上的工件曝光掩膜图形的曝光单元的门架...
  • 本发明提供一种正确地测定加压头温度且可靠性高的FPD用的ACF热压接装置。在使用被加热的压接刀刃对ACF进行加压,将上述ACF固定在FPD基板上的ACF热压接装置中,其特征在于,具有用加热器对上述压接刀刃进行加热的加热器块、设置在上述加...
  • 本发明提供一种抑制伴随着放电处理的树脂的低分子量化的同时,还具有稳定的亲水性的改性表面的分光测光用树脂制池。其解决手段为,在相对的两个电极间配置高分子树脂制池,在大气压附近的压力氛围下,在氮氛围下,对所述相对电极间施加电场,产生放电后,...
  • 本发明的目的在于提供高可靠性电子部件安装装置或安装方法。本发明的其他目的在于提供降低保护膜恶化的电子部件安装装置及安装方法。本发明的另一个目的在于提供可实现保护膜高寿命化的电子部件安装装置或安装方法。加热的加压构件和保护膜贴紧的状态下装...
  • 本发明提供6价铬的分析方法和分析装置,其不使用分光光度计就可以简便地对6价铬进行测定,并且能够得到客观的定量结果。该分析方法为,向液体试样中加入络合物形成用试剂,使6价铬的有色络合物生成后,使该液体试样与吸附体接触,测定着色后的吸附体层...
  • 本发明涉及试剂盒及使用该试剂盒的自动分析装置在临床检验室用的自动分析装置的试剂容器中,本发明可提供符合每个设备的检验数量的适当容量的试剂容器,同时可提供能够简单地进行试剂设定的环境。在由试样分注、试剂分注、反应容器等构成的自动分析装置中...
  • 本发明提供即使对于将来被极微量化的反应液量,也能同时抑制气泡附着和降低残留液、保持稳定的分析性能的反应单元、使用该反应单元的自动分析装置、反应单元的亲水化处理方法。具备插入反应单元的内侧的第1电极和配置于反应单元的底侧的第2电极,通过在...
  • 本发明提供一种自动分析装置,其对于进行了异常处理的检测体,记录异常处理的过程,确保追踪性。此外,当在分析过程中产生了由检测体或试剂引起的异常时,可以简单地执行针对异常的处置、处置后的再次测定委托、结果的确认这样的一连串的过程。具备进行了...
  • 本发明提供一种自动分析装置。在使用磁性体微粒的分析中,在反应过程的数分钟期间,即使是比重1.3g/ml程度的比重较小的粒子,也难免发生沉淀,在之后的工艺中想要仅利用一部分时,根据进行抽吸的位置、抽吸量或抽吸时的容器中的流动的不同,有可能...
  • 本发明提供一种自动分析装置。利用基于由反应过程数据得到的化学反应的理论数式的近似式,提供可在连续或者独立的检查中自动检查装置异常、试剂劣化、精度管理的指标。本发明的特征为:将自动分析装置测量反应的吸光度与时间的关系得到的反应过程数据通过...