本发明提供晶片温度控制装置、晶片温度控制方法和存储介质。在通过调整热传递气体的压力来控制晶片的温度的晶片温度控制装置中，能以足够的精度推定晶片温度并将晶片温度控制在目标温度，晶片温度控制装置包括：压力调整器(43)，调整热传递气体的压力...

本发明在流体控制装置的阀控制中降低喷嘴的影响并且提高响应性能，是对流体控制装置(100)的阀(3)进行控制的阀控制方法，其中，对所输入的流量设定值(Q<subgt;set</subgt;)乘以目标响应传递函数(F)而生成目标...

本发明提供一种气体分析装置、流体控制系统、存储有气体分析用程序的存储介质、气体分析方法。气体分析装置具备：第一浓度计算部，计算工艺气的浓度；第二浓度计算部，计算至少在与生成工艺气的主反应不同的反应即副反应中生成的副产气体的浓度；比较部，...

为了提供一种即便在对冷却器输入的冷却操作量受到变更的情况下也可以以充分的精度来推测晶圆温度并将晶圆温度控制为目标温度的晶圆温度控制装置，而包括：加热器(1)，根据所输入的加热操作量来对晶圆(W)进行加热；冷却器(2)，根据所输入的冷却操...

提供了一种混合流量比率控制器系统，其包括：被配置为接收总的入口流体流量的入口以及三个以上分配通道。三个以上分配通道中的每个分配通道都具有相应的可变流量控制阀并且输送总的入口流体流量的相应的部分。混合流量比率控制器还包括可操作地连接到相应...

本发明提供流体阻力元件、流体控制装置和流体阻力元件的制造方法。为了能够在享受陶瓷制的流体阻力元件带来的优点的同时，将该流体阻力元件固定于流路，流体阻力元件具备：具有1个或多个阻力流路(10a)的陶瓷制的流路形成部件(10)；以及覆盖流路...

本发明提供一种流体控制阀和流体控制装置。本发明通过减小包含阀芯的磁路的磁阻，从而能够以更小的电流或电压来进行流体控制。流体控制阀包括：流道块(2)，形成有内部流道(2R)；节流器(5)，固定于流道块(2)，具有阀座面(5a)；由磁体形成...

本发明提供一种用于进行阴离子聚合的聚合装置，其包括：原料容器，收容原料；反应容器，借助原料供给配管连接于所述原料容器，使被供给的所述原料进行阴离子聚合；以及开闭阀，设置于所述原料供给配管，开闭所述原料供给配管，使用金属衬垫对所述原料供给...

本发明提供一种高精度地监测针对被处理物的处理量的分析装置、分析方法及计算机可读的存储介质，所述分析装置具有测定部及运算部，所述测定部具有：激光光源，其对包含反应生成物的测定对象气体照射激光；光检测器，其检测透过测定对象气体的激光；以及信...

一种气体分析装置100，其为了减少以安装部位等为支点产生的重力方向上的力矩，尽可能地抑制光轴偏移，通过对气体照射激光，并且检测透过该气体的激光，从而对气体中所含的测定对象成分进行分析，并具备：气体单元1，其安装于供气体流动的配管H而导入...

本发明降低在四极质谱仪中由变压器所引起的温度影响，并具备：离子化部(21)，其将试样离子化；四极部(23)，其具有使由离子化部(21)所产生的离子选择性地通过的两组相向电极(23P)；电压施加部(32)，其向两组相向电极(23P)分别施...

本发明提供一种气体分析装置，其具备：气室，其被导入气体；温度调节块，其对气室进行温度调节；以及压力传感器，其测定气室内部的压力，压力传感器内置于温度调节块和/或气室。压力传感器内置于温度调节块和/或气室。压力传感器内置于温度调节块和/或...

本发明提供流体控制装置、流体控制方法及记录介质，在阀完全关闭的状态下提高流量的测量精度，流体控制装置具备：流体阻力元件，设置在流道上；上游侧压力传感器，检测流体阻力元件的上游侧压力；下游侧压力传感器，检测流体阻力元件的下游侧压力；流量计...

本发明提供光学测定用池、光学分析装置、窗形成部件及光学测定用池的制造方法。在通过原子扩散接合制造满足气密性和/或耐热性等所要求的各种性能的光学测定用池的基础上，为了防止窗体构件的破裂，光学测定用池(2)具有供光透过的透光窗(W1、W2)...

本发明提供流体控制装置、汽化系统和压电致动器，防止发生压电元件的裂纹并且降低对控制基板的热影响，所述流体控制装置具备：流体控制阀(3)，由压电致动器(32)驱动；流体传感器(4)，测量流体的压力或流量；控制基板(5)，根据由流体传感器(...

本发明的流量控制装置、方法和记录介质与设定流量的大小无关地始终将流体阻力的下游侧的压力保持在担保流量精度的低压、将测量出的阻力流量的精度持续保持为高精度、在流量变化的过渡状态下也难以受到噪声影响，具备：阻力流量计算器，根据第一压力传感器...

本发明提供一种静电夹头装置，通过静电力吸附对象物，其具备：具有吸附所述对象物的吸附面的吸附板、向所述吸附面与所述对象物的被吸附面之间的间隙供给热传导性气体的供气管道、以及计算所述间隙中的所述热传导性气体的压力的压力计算部，在所述供气管道...

本发明提供汽化装置及其控制方法、存储介质、流体控制装置，汽化装置(100)具备：控制阀(2)，设置在液体材料流动的流道上；汽化部(3)，通过减压或加热使所述液体材料汽化；液体流量传感器(1)，测量流过流道的液体材料的流量；以及阀控制器(...

本发明提供流体控制装置、流体控制系统和流体控制方法。流体控制装置包括：主体，在内部形成有流道；流体控制阀，安装于所述主体，控制流过所述流道的流体；以及外壳，以收容所述流体控制阀的方式安装于所述主体，在所述外壳中的作为朝向与所述主体相反侧...

本发明提供一种液体材料气化装置，不设置用于加热液体材料供给管的供给管用加热机构就能够加热液体材料供给管，所述液体材料气化装置具备：气液混合部(2)，将液体材料与气体混合，生成气液混合体；液体材料供给管(4)，向气液混合部(2)供给液体材...