本发明涉及光学加工驻留时间解算技术领域，尤其涉及一种基于小波基拟合的驻留时间算法。包括：通过干涉仪测量待加工工件的面形，获得面形残差；选择加工工艺并定点加工测量，获得去除函数；根据待加工工件的面形采样尺寸设置抛光轨迹类型和抛光轨迹参数；...

本发明涉及一种氮化镓基红光外延片结构及其制备方法，属于半导体技术领域。本发明的氮化镓基红光外延片结构，包括：衬底；生长在所述衬底上的InGaN过渡层，所述InGaN过渡层包含第一过渡层、第二过渡层和第三过渡层；以及，生长在所述InGaN...

本申请提供的表面等离激元增强AlGaN基LED，包括衬底、AlN缓冲层、高Al组分的n型Al<subgt;n</subgt;Ga<subgt;1‑n</subgt;N电子注入层、Al<subgt;x<...

本申请涉及畸变校正技术领域，揭示了一种远心镜头畸变校正方法、装置、设备及存储介质，所述方法包括：获取棋盘格图像；提取棋盘格图像中各个棋盘格角点各自的亚像素角点坐标，基于亚像素角点坐标，对棋盘格图像中的每个棋盘格角点进行编号；基于编号后的...

本发明涉及电机控制技术领域，具体涉及一种永磁同步电机的转速环的扰动抑制方法。该方法包括：通过电流环控制器基于q轴参考电流及测量电流计算出参考电压；信号转换模块对参考电压进行信号转换处理，生成开关信号；基于开关信号，逆变器驱动永磁同步电机...

本发明涉及光谱成像技术领域，尤其涉及一种中长波红外光谱调制快照成像光谱仪及图谱重建方法，目标光场经望远系统、孔径光阑和成像物镜进入由超表面单元组成的红外光谱调制器件中进行中长波红外波段的光谱调制；红外光谱调制器件的出射光经过分色镜被分为...

本发明涉及光学件加工技术领域，公开了一种面向批量操作的反射镜翻转工装，面向批量操作的反射镜翻转工装通过设置反射镜装载车以及翻转工装，在设置对应的夹持以及翻转结构，使得可以不通过大型吊具就能实现尺寸较大、质量较重的反射镜的翻转，从而解决了...

本申请提供的同质集成器件，包括：衬底；图案化介电层掩膜；缓冲层；n型掺杂层；多量子阱层；p型掺杂层；n型接触电极；p型接触电极；光波导结构；本申请提供的同质集成器件，选取LED发光波长最短的区域制作LED器件，选择In组分较高的区域制作...

基于二维材料异质结的多信号触发突触器件的制备方法涉及探测器技术领域，解决了现有触发突触器件制备难度大、质量控制难、成本高、不能同时响应两种及以上的信号的问题，包括：在基底上制备第一材料层；制备第二材料层，第二材料层和第一材料层构成异质结...

本发明涉及平面电机技术领域，尤其涉及一种静磁补偿线圈及基于静磁补偿的动圈式电机。静磁补偿线圈包括线圈导电单元、密封树脂层和高绝缘层；高绝缘层相对设置于导电单元的上、下表面；在两个高绝缘层的空隙处设有密封树脂层。动圈式电机包括：动子、定子...

本发明涉及平行度检测技术领域，公开了一种平行度检测装置，平行度检测装置包括第一安装件、第二安装件、第三安装件、第一调整件以及第一检测件，通过将第三安装件与第二安装件平行设置于第一安装件的同一侧，以在第一安装件、第二安装件以及第三安装件之...

本发明提供一种大口径望远镜拼接主镜的曲率半径调控方法，包括：在拼接主镜的理想曲率中心处的前后位置分别放置探测器；利用标准点光源发出理想球面波投射到拼接主镜之上，并通过两个探测器分别采集得到焦前与焦后离焦图；对焦前与焦后离焦图进行线性差值...

本发明涉及相机标定技术领域，尤其涉及一种基于圆柱标定体的环状多相机外参标定方法。包括：使用圆柱标定体作为基准，所述圆柱标定体表面分布多个Aruco二维码；围绕所述圆柱标定体设置多部待标定相机，标定过程中所述多部待标定相机均对所述圆柱标定...

本发明涉及光谱成像技术领域，具体提供一种阵列化集成芯片式偏振成像光谱仪及偏振图谱重建方法；目标光场经望远系统进入偏振调制系统中，通过调整偏振调制系统中两个高阶相位延迟器的快轴方向与偏振片的透光轴方向实现对目标光场的斯托克斯偏振参量的调制...

本发明涉及光谱成像技术领域，尤其涉及一种基于偏振光栅分光的偏振成像光谱仪及偏振图谱重建方法，基于偏振光栅分光的偏振成像光谱仪包括望远系统、第一消色差偏振光栅、第二消色差偏振光栅、四通道成像物镜和成像光谱芯片，基于超表面的第一消色差偏振光...

本发明涉及大视场观测领域，具体涉及一种基于超表面的快照偏振成像光谱仪及偏振图谱重建方法；快照偏振成像光谱仪包括望远系统、消色差偏振光栅、成像物镜和成像光谱芯片，基于超表面的消色差偏振光栅进行入射光场偏振态的分光，采用基于超表面的成像光谱...

本申请提供的发光探测同质集成器件及其制备方法，在衬底上加入的牺牲层，通过腐蚀牺牲在所述缓冲层(3)与衬底(1)之间形成空气腔(11)，得益于空气腔的存在，外延层中应力会减小，量子阱中的量子限制斯塔克效应相应的减少，LED的辐射复合效率会...

本发明涉及光电平台目标定位技术领域，具体涉及一种光电平台的目标脱靶量与框架角度的同步方法及系统。该方法及装置包括：基于附带有计数器值的目标脱靶量信息及光电平台框架角度进行目标定位算法，查找与附带的计数器值相同的光电平台框架角度，从而得到...

本发明涉及复合材料技术领域，具体提供一种金刚石/碳化硅复合材料的制备装置、制备方法以及该复合材料；制备装置包括炉体、加热体、烧结区、气体流量计、进气口、初始气压控制单元、气源阀、充气阀、恒定气压控制单元、出气口、抽空阀、真空泵系统、放气...

本发明涉及光学加工技术领域，尤其涉及一种基于混联机器人磁流变光学加工设备的加工能力评价方法，在搭建基于混联机器人的磁流变光学加工设备并完成磁流变液漏液检测和加工覆盖能力测试后，根据理论加工轨迹对实验件进行加工获得对应的去除函数和实际加工...