本技术公开了一种研磨抛光快速上下片的游星轮结构，包括游星轮和游星轮内设置的产品安置孔，所述游星轮上表面附有一片吸附树脂板，吸附树脂板附在游星轮一面的表面上粘附有一层抛光皮，抛光皮吸附安置在产品安置孔内的待加工产品。该研磨抛光快速上下片的...

本发明公开了一种水晶光轴角加工工艺。工艺步骤包括调分工序、平面磨、立磨、再次平面磨、线切割、分选工序和铣磨修角度这七部分工序。其中分选工序采用对线切割后的水晶用抛光机对表面进行磨平处理，再通过晶片测角机对每一个水晶测量，测量后进行分选，...

本发明公开了一种改善射频芯片薄膜膜厚精度和均匀性的工艺，确保改善后的射频芯片参数能精确匹配设计值，从而提高性能和可靠性，提升制程稳定性和良率。本发明通过离子修平后，同一晶圆膜厚均匀性可以控制在0.5nm以内；极大的提高了后制程的合格率；...

本发明提供一种阵列波导片表面纳米级凸起的处理方法，对CNC加工后的阵列波导片抛光，对抛光后的阵列波导片进行修平和/或修频即可，本发明实现了将抛光后的波导片表面纳米级凸起的去除，波导片可实现精准的光折射控制，显著优化成像效果，尤其是AR眼...

本发明公开了一种射频芯片铌酸锂衬底

本实用新型公开了一种

本发明公开了一种提高特殊材质原材料块晶片切割良率的工艺方法。其工艺方法步骤流程包括保护环取圆、产品与保护环粘合、产品整体粘贴至粘料基板、线切割和脱胶。本发明将产品放入保护环材料块中并与保护环材料块粘合后整体一起线切割，完成后脱胶，将线切...

本实用新型公开了一种SOT焊线压板，包括上夹具和下夹具，下夹具底部中心设置真空吸附口连通真空吸附设备，下夹具表面中心对应SOT封装框架的焊线位置均匀设置多个真空吸附孔，真空吸附孔通过真空吸附通道连通真空吸附口，上夹具表面中心对应封装框架...

本实用新型提供一种RGB

本发明提供一种RGB

本发明公开了一种F PAD腐蚀新型处理工艺。本发明只处理PAD表面凸起腐蚀异物，不会造成PAD表面损伤，不会削减PAD厚度，且有效区得到有效保护。相比而言国际上流行使用EKC清洗方式去除F PAD，是通过不断削减PAD厚度原理去除F P...

本实用新型公开了一种圆形切割平台，包括圆形平台，圆形平台表面上设置有一方形的吸附区，吸附区内中心设置有吸附口，吸附区内由吸附区中心向外均匀设置有多道内凹的环形吸附槽，吸附区内对角线方向分别设置有内凹的直线形吸附槽，将多道环形吸附槽与中心...

本实用新型公开了一种大尺寸抛光机修正用的组合式金刚石修正轮组，安装于双面抛光机上，双面抛光机的上盘和下盘上分别安装有外齿圈和内齿圈，上盘上放置有金刚石修正轮，修正轮的外环面上设有轮齿，金刚石修正轮环绕内齿圈均设有多个，其两侧分别与内齿圈...

本发明涉及滤光片技术领域，且公开了一种红外三波峰膜系结构，其特征在于：包括基板、第一匹配膜系、主膜膜系、第二匹配膜系；所述主膜膜系依次由第一多层膜通带、耦合层、多层膜长波通带、耦合层、第二多层膜通带、第三多层膜通带组成。本发明公开了一种...

本实用新型公开了一种镀膜机穴状坩埚盘清扫装置，包括打磨机机体和枪头，枪头上设置有上端连接机体的机体连接部和中间拧紧部，枪头底端设置有底端连接部，底端连接部内设置有内螺纹孔，内螺纹孔上螺纹连接有紧固螺栓，紧固螺栓上套有软质打磨片，紧固螺栓...

本实用新型公开了一种用于转运及清洗镀膜机分子泵防护百叶窗的提篮，包括提篮本体，提篮本体由不锈钢条固定形成框架结构，提篮本体包括由下到上依次设置的下层、限位层和上层，下层包括方形框架和方形框架内纵向分布的至少一根托杆，上层包括方形框架和方...

本实用新型公开了一种清洗镀膜机工件盘防护罩的提篮，包括提篮本体，提篮本体包括防护罩放置区和防护板放置区，防护罩放置区由上下两层组成，上层中间中空，上层两端分别向内斜向上设置有一排隔条，一排隔条间形成上层的防护罩格栅，下层中间设置有多排托...

本发明公开了一种方形片的抛光工艺。本发明抛光工艺减少了一次抛光的时间，减少一次抛光的加工厚度，用一次抛光对方形片毛坯快速抛光，得到半成品；增加二次抛光的时间及加工量，配合组合式游星轮对方形片进行TTV的改善；添加三次抛光，在不影响TTV...

本发明公开了一种陶瓷基板粘蜡切割工艺。该陶瓷基板粘蜡切割工艺通过粘蜡在陶瓷基板和UV膜中间放一个保护玻璃介质，且保护玻璃与陶瓷基板的分离除蜡，不留有残物，同时保护玻璃与陶瓷基板的清洗只需无腐蚀性的清洗剂，并且能将产品清洗干净，生产质量高...

本实用新型公开了一种陶瓷基板清洗治具，包括箱体，箱体内设置有水槽，水槽两侧边间转动连接有一排转轴，转轴分别上固定连接有滚筒，转轴末端分别固定连接有从动齿轮，箱体内设置有旋转电机，旋转电机输出端固定连接旋转轴，旋转轴上沿轴向对应均匀固定连...