一种RGB-IRP膜组及用于制备RGB-IRP膜组的装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种RGB

【技术实现步骤摘要】
一种RGB
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IRP膜组及用于制备RGB
‑
IRP膜组的装置


[0001]本技术涉及膜组制备
，具体涉及一种RGB
‑
IRP膜组及用于制备RGB
‑
IRP膜组的装置。

技术介绍

[0002]黄光制程是通过对涂覆在玻璃表面的光敏性物质(又称为光刻胶)，经曝光、显影后留下的部分对底层起保护作用，然后进行蚀刻脱膜并最终获得永久性图形的过程。这种图案化的红绿蓝像素通常使用彩色光刻胶进行制造。这种工艺带来的问题有：
[0003](1)综合透过率较低，普遍在30
‑
40％左右，但是该指标对于成品后的性能影响极大。
[0004](2)如果是加镀IRC的话，需要增加一整道黄光镀膜制程，成本要提高25％，且如果采用加装IRC滤光片的话，对于整个模组的厚度会有很大的增加，厚度在0.9mm以上，成本也会有所上升。

技术实现思路

[0005]为了克服现有技术中存在的不足，本技术提供一种RGB
‑
IRP膜组及用于制备RGB
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IRP膜组的装置。
[0006]为实现上述目的，本技术提供一种RGB
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IRP膜组，其包括玻璃基板，所述玻璃基板上有R膜、G膜、B膜或IRP膜中的一种或几种镀膜，不包括IRC膜和/或IRC滤光片，所述R膜、G膜、B膜或IRP膜均直接与玻璃基板接触，所述镀膜的材料包括TIO2、TA2O5、HFO2、SIO2、AL2O3中一种或几种。r/>[0007]优选的，厚度为0.6
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0.8mm。
[0008]优选的，R膜、G膜、B膜和IRP膜的透光波段分别为400nm
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500nm、500nm
‑
600nm、600nm
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710nm和大于800nm。
[0009]优选的，R膜、G膜、B膜和IRP膜的厚度均为3
‑
6μm。
[0010]优选的，R膜、G膜、B膜、IRP膜的任意相接处设置黑膜，进行遮蔽。
[0011]本技术还提供一种用于制备RGB
‑
IRP膜组的装置，其包括用于给R膜、G膜、B膜或IRP膜空出预设镀膜区域的光刻机，用于镀膜的蒸发机或溅射机，用于去除非预设镀膜区域镀膜的槽式浸泡式去胶设备。
[0012]优选的，用于对玻璃基板前处理的旋涂设备和烘干设备。
[0013]优选的，所述烘干设备为热板。
[0014]本技术的有益效果如下：
[0015](1)镀膜的成品透过率相较采用(RGB+IRP)胶接近翻倍的提升。
[0016](2)本技术膜组透过率极高，直上直下型曲线可以有效增加光通量，更利于提高最终亮度，且以纵坐标0处代表可截止，本图不同膜层对应曲线状态更利于截止，曲线之间几乎不交叉即基本无光交叉区域。由于镀膜曲线可以针对不需要的波段进行截止，就无
需IRC膜或者IRC滤光片，有效减少了组合后的厚度，且斜率较大，可以让带宽变大，有效增加了通光量。
[0017](3)镀膜方式存在较大的定制空间，可以根据需求对带宽，中心波长，截止深度，透过率等等进行定制，且更改效率快，1
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2天即可完成更改。
附图说明
[0018]图1为本技术提供的膜组整体结构示意图；
[0019]图2为本技术提供的膜组制备的涂胶工艺结构变动示意图；
[0020]图3为本技术提供的膜组制备的光刻显影工艺结构变动示意图；
[0021]图4为本技术提供的膜组制备的镀G膜工艺结构变动示意图；
[0022]图5为本技术提供的膜组制备的去胶、留下G膜工艺结构变动示意图；
[0023]图6为本技术提供的膜组制备的涂胶工艺结构变动示意图；
[0024]图7为本技术提供的膜组制备的光刻显影工艺结构变动示意图；
[0025]图8为本技术提供的膜组制备的镀R膜工艺结构变动示意图；
[0026]图9为本技术提供的膜组制备的去胶工艺结构变动示意图；
[0027]图10为本技术提供的膜组制备的重复2次分别镀上B膜、IRP膜工艺结构变动示意图；
[0028]图11为本技术提供的膜组的RGB透过率检测结果。
[0029]其中：
[0030]1‑
玻璃基板，2
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R膜，3
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G膜，4
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B膜，5
‑
IRP膜。
具体实施方式
[0031]为更好的说明本技术的目的、技术方案和优点，下面将结合具体实施例对本申请作进一步说明。
[0032]实施例1：
[0033]本实施例提供一种RGB
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IRP膜组，该膜组包括玻璃基板1，玻璃基板上有R膜2、G膜3、B膜4或IRP膜5中的一种或几种镀膜，不包括IRC膜和/或IRC滤光片，R膜2、G膜3、B膜4或IRP膜5均直接与玻璃基板接触。R膜2、G膜3、B膜4或IRP膜5的透光波段分别为400nm
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500nm、500nm
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600nm、600nm
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710nm和大于800nm。膜组厚度为0.6
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0.8mm，R膜2、G膜3、B膜4或IRP膜5的厚度均为3
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6μm。镀膜的材料包括TIO2、TA2O5、HFO2、SIO2、AL2O3中一种或几种，根据镀膜的实际要求和行业常规设计选择即可。R膜、G膜、B膜、IRP膜的任意相接处可以通过设置黑膜实现遮蔽。
[0034]制备本技术膜组时，采用的装置包括用于给R膜2、G膜3、B膜4或IRP膜5空出预设镀膜区域的光刻机、用于镀膜的蒸发机或溅射机和用于去除非预设镀膜区域镀膜的槽式浸泡式去胶设备，以及用于对玻璃基板前处理的旋涂设备和烘干设备(热板)。
[0035]本实施例采用如下工艺获得：
[0036]涂胶：通过旋涂的方式，在基板表面涂覆6
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15um厚度的光刻胶，再用热板设定特定的温度及时间进行烘烤，将光刻胶烘干。
[0037]光刻显影：采用步进式光刻机设定特定的能量及焦点进行光刻，然后采用悬覆式
显影，涂覆显影液显影5
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10min形成图案，将要镀膜区域的光刻胶去除掉露出基板，不镀膜的区域光刻胶保留。
[0038]镀R/G/B膜：在前道完成基础上，使用蒸发机或溅射机进行镀膜，工艺膜厚控制在3
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6um。常见镀膜材料为TIO2/TA2O5/HFO2/SIO2/AL2O3，其中550nm波长下的折射率，高折射率材料为：折射率N：1.9
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2.5、吸收率K小于0.1，低折射率材料为：折射率N小于1.7，吸收率K小于0.1。
[0039]本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种RGB
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IRP膜组，其特征在于：包括玻璃基板，所述玻璃基板上有R膜、G膜、B膜或IRP膜中的一种或几种镀膜，不包括IRC膜和/或IRC滤光片，所述R膜、G膜、B膜或IRP膜均直接与玻璃基板接触。2.根据权利要求1所述的RGB
‑
IRP膜组，其特征在于：厚度为0.6
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0.8mm。3.根据权利要求1所述的RGB
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IRP膜组，其特征在于：R膜、G膜、B膜和IRP膜的透光波段分别为400nm
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500nm、500nm
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600nm、600nm
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710nm和大于800nm。4.根据权利要求1所述的RGB<...

【专利技术属性】
技术研发人员：翁钦盛，王刚，叶炜昊，
申请(专利权)人：浙江美迪凯光学半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：