本申请提供一种金属桥结构、触摸屏及电子设备，用于搭接电极，以使顶层电极跨过底层电极，该金属桥包括第一绝缘层和导电金属层，导电金属层设置在第一绝缘层上，导电金属层用于搭接顶层电极；第一绝缘层设置在导电金属层和底层电极之间，以起到绝缘作用，...

本实用新型涉及触控显示屏技术领域，公开了一种触控显示屏，包括有触控模组，触控模组包括基材层，基材层上依次设置有第一绝缘层、第一电极层、第二绝缘层、第二电极层和第三绝缘层，第一电极层和第二电极层为金属网格材料层，第一绝缘层和第二绝缘层的结...

本实用新型涉及触控显示基板运输技术领域，公开了一种基板装片装置，包括有框架主体，框架主体内部限定出容纳腔，容纳腔内设置有至少两个定位架，多个定位架沿竖直方向依次设置于容纳腔内，且相邻设置的两个定位架之间在竖直方向上具有第一高度差和第二高...

本实用新型涉及抛光机技术领域，公开了一种抛光机，包括有主体、抛光盘和定位盘，主体包括底座、控制系统和驱动系统，抛光盘连接于驱动系统，抛光盘包括有上转动盘，上转动盘远离驱动系统的一侧表面依次设置有保护膜和上胶垫，定位盘设置于底座上，定位盘...

本实用新型涉及玻璃加工领域，公开了一种玻璃分割装置，包括切割机构和分片机构，切割机构包括有底座、主传送带、切片组件和控制器，底座设置有载片区域，底座上设置有定位件、传送带保护件和检测件，主传送带设置于底座内部且其表面与载片区域位于同一平...

本实用新型提供一种基板装片装置，所述基板装片装置为框体结构，底面具有限位杆，至少在相对的两个侧面具有框架结构，顶面具有限位杆。另外两个侧面可为板状结构，也可以为框架结构，在此不做限制。各个面之间通过限位杆、框架结构或板状结构相互固定连接...

本申请适用于显示设备领域，提出一种汽车盖板及电子装置，所述汽车盖板，其包括基底和膜层结构，所述基底具有第一表面和第二表面，第一表面为镀膜面，第二表面为与外界空气接触面。所述膜层结构设于所述基底的第一表面上，所述膜层结构包括光学膜，所述光...

本申请适用于显示设备领域，提出一种汽车盖板及电子装置，所述汽车盖板，包括基底和颜色膜，所述基底具有第一表面和第二表面，第一表面为光学膜层面，第二表面为贴合触摸屏面。所述基底的第一表面为颜色膜，所述颜色膜为SiO2层和Ti3O5膜层交替重...

本实用新型提供一种基板装片系统，包括插框、底座与定位机构。所述插框为框体结构，底面具有限位杆，至少在相对的两个侧面具有框架结构。所述底座包括底板、滑槽与缓冲条。所述底座上设有缓冲条，可以在保证基板装片稳定的条件下，避免基板崩边、碎裂，有...

本实用新型提供一种基板清洁装置，包括清洗台、洗液槽、第一管道，所述清洗台上设有多条传动辊和至少一个清洗滚刷，所述第一管道前端连接洗液槽，末端设有喷淋机构，在平板清洗机前端对抛光后基板表面残余的抛光粉、凝胶残留进行有效地去除，提升原有的平...

本发明属于基板加工技术领域，更具体地说，是涉及一种基板扫边处理系统及基板扫边处理方法。通过控制待扫边基板进行旋转运动，同时，控制抛光轮沿单一直线上的来回方向进行往复运动完成每次扫边动作，更容易控制抛光轮每次扫边切入待处理基板的切入量相同...

本实用新型提供一种真空镀膜装置,包括真空镀膜的腔体、磁钢、靶材、中心加热器与镀膜小车，所述腔体构造出一立方体空间，所述靶材、中心加热器与镀膜小车均设置于所述立方体空间内，所述磁钢设置于所述腔体的外壁上，所述靶材设置于所述腔体的内壁的侧壁...

本实用新型提供一种真空镀膜装置，包括真空镀膜的腔体、磁钢、靶材、中心加热器与镀膜小车，所述腔体构造出一立方体空间，所述靶材、中心加热器与镀膜小车均设置于所述立方体空间内，所述磁钢设置于所述腔体的外壁上，所述靶材设置于所述腔体的内壁的侧壁...

本实用新型提供一种玻璃厚度检测装置，包括一上料模块、一底座、一支架、一厚度检测仪与一下料模块，所述底座前段连接上料模块，所述底座后段连接下料模块，底座上方分为中间区域与外围区域，所述中间区域设有一基片承载平台，所述承载平台连接有升降机构...

本实用新型提供一种膜层厚度均匀的真空镀膜装置，包括真空镀膜的腔体、磁钢、靶材、靶罩与基片，所述腔体构造出一立方体空间，所述靶材、靶罩与基片均设置于所述立方体空间内，所述磁钢设置于所述腔体的外壁上，所述靶材设置于所述腔体的内壁上，所述靶罩...

本实用新型提供一种玻璃研磨水循环过滤系统，包括水箱、磨边机、上传送带、下传送带、玻璃基片、水泵、导流管与过滤板。所述水箱内盛有冷却水，所述过滤板位于所述水箱中将水箱分成两块区域，分别为第一区域与第二区域。所述磨边机、上传送带、下传送带、...

本实用新型提供一种基于平衡磁场的溅射镀膜装置，包括水平设置的阴极靶材，所述阴极靶材为长方形板状结构，阴极靶材上方50‑100mm的范围内设有基片，阴极靶材下方设置有磁钢，所述磁钢包括磁钢座与磁极。通过磁钢的磁极间的作用，在阴极靶材上表面...

本实用新型提供一种温控抛光装置,包括抛光上盘、抛光下盘、抛光桶、温控机构与主轴。所述抛光上盘与抛光下盘相对设置，所述抛光下盘位于所述抛光桶内，下端连有所述主轴，通过所述主轴固定支撑所述抛光下盘稳定设于所述抛光桶中的固定位置。所述抛光桶内...

本发明提供一种膜层厚度均匀的真空镀膜装置，包括真空镀膜的腔体、磁钢、靶材、靶罩与基片，所述腔体构造出一立方体空间，所述靶材、靶罩与基片均设置于所述立方体空间内，所述磁钢设置于所述腔体的外壁上，所述靶材设置于所述腔体的内壁上，所述靶罩设置...

本发明提供一种基于平衡磁场的溅射镀膜装置，包括水平设置的阴极靶材，所述阴极靶材为长方形板状结构，阴极靶材上方50‑100mm的范围内设有基片，阴极靶材下方设置有磁钢，所述磁钢包括磁钢座与磁极。通过磁钢的磁极间的作用，在阴极靶材上表面形成...