【技术实现步骤摘要】
一种真空镀膜装置
本技术属于真空镀膜领域，尤其涉及一种膜层厚度均匀性的真空镀膜装置。
技术介绍
真空镀膜是平板显示用透明导电玻璃制备的主流技术，通过磁场与电场的交互作用，把二次电子束缚在靶表面特定区域来增强惰性工艺气体的电离效率，增加离子密度和能量，所产生的离子在电场作用下轰击靶面实现靶材的溅射，从而在基片上实现靶材的高速率成膜，被广泛应用于制备金属、半导体、绝缘体等多种材料的溅射成膜制备。随着平板显示行业的发展和人类生活水平的提高，人们对显示技术和显示产品的要求也不断提高，平板显示器件及相关零组件也不断向轻、薄、节能、高精度等方向发展，对平板显示器器件和相关零组件生产设备、产品的精度和性能要求也越来越高，因此对应用于平板显示器件的透明导电玻璃的精度和性能要求也是越来越高，膜厚均匀性的精度控制就是其中重要的一个指标。对于透明导电玻璃的膜厚均匀性不良，主要体现在如下方面：⑴单片产品的膜厚均匀性偏差，即在单片玻璃表面上的膜厚均匀性偏差；⑵同一批产品的膜厚均匀性偏差；⑶同一规格产品，不同批次产品的膜厚均匀性偏差。膜...
【技术保护点】
1.一种真空镀膜装置，包括：包括真空镀膜的腔体(4)、磁钢(3)、靶材(2)、靶罩(1)与基片(5)，所述腔体(4)构造出一立方体空间，所述靶材(2)、靶罩(1)与基片(5)均设置于所述立方体空间内，所述磁钢(3)设置于所述腔体(4)的外壁上，所述靶材(2)设置于所述腔体(4)的内壁上，所述靶罩(1)设置于所靶材(2)上方和侧面，形成一门型，将所述靶材(2)覆盖于所述靶罩(1)内，同时在靶罩(1)的上方设有一开口(11)，所述开口(11)与靶材(2)在腔体(4)上的投影相一致，所述基片(5)设置于所述靶材(2)上方50-100mm的范围内；/n其特征在于，所述真空镀膜装置在...
【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜装置，包括：包括真空镀膜的腔体(4)、磁钢(3)、靶材(2)、靶罩(1)与基片(5)，所述腔体(4)构造出一立方体空间，所述靶材(2)、靶罩(1)与基片(5)均设置于所述立方体空间内，所述磁钢(3)设置于所述腔体(4)的外壁上，所述靶材(2)设置于所述腔体(4)的内壁上，所述靶罩(1)设置于所靶材(2)上方和侧面，形成一门型，将所述靶材(2)覆盖于所述靶罩(1)内，同时在靶罩(1)的上方设有一开口(11)，所述开口(11)与靶材(2)在腔体(4)上的投影相一致，所述基片(5)设置于所述靶材(2)上方50-100mm的范围内；
其特征在于，所述真空镀膜装置在靶罩(1)上设置有挡块(6)，所述挡块(6)外部连接有一旋钮(7)，所述旋钮(7)上设有一把手(71)，所述把手(71)位于所述腔体(4)的外侧，所述旋钮(7)上还设有一调拨机构，通过旋转所述旋钮(7)的腔体(4)外部的把手(71)，带动所述调拨机构运动，所述调拨机构调拨挡块(6)在平行于靶面的水平面上来回移动，进而打开或者遮挡部分开口(11)。
2.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述挡块(6)有2块，在靶罩(1)的两侧分别设置有1块挡块(6)，所述挡块(6)均连有所述旋钮(7)。
3.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，...
【专利技术属性】
技术研发人员：申屠江民，祝宇，龚阳，
申请(专利权)人：浙江莱宝科技有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江;33
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