本发明是一种自旋波激发检测结构体的制造方法，其为制造激发并检测自旋波的自旋波激发检测结构体的方法，其具有：在供体基板上形成绝缘磁体膜的工序；通过经由导体膜将所述供体基板上的所述绝缘磁体膜的表面与支撑基板的表面贴合而制作贴合基板的工序；从...

本发明是一种自旋波激发检测结构体，其为激发并检测自旋波的自旋波激发检测结构体，其具备：支撑基板；设置于该支撑基板上的导体膜；设置于该导体膜上的绝缘磁体膜；以及设置于该绝缘磁体膜上的导体线。由此，提供一种结构强度高、并且可激发的自旋波强度...

本发明涉及含金属的膜形成用化合物和组成物、图案形成方法及半导体光致抗蚀剂材料。本发明提供对比于已知的抗蚀剂下层膜材料具有优良的干蚀刻耐性，而且兼顾高程度的填埋/平坦化特性的含金属的膜形成用化合物、使用了该化合物的含金属的膜形成用组成物、...

本发明提供转移装置、转移方法、掩膜和显示器的制造方法。在保持高转移位置精度的同时实现转移装置的受体基板的大型化、精细化和缩短节拍时间。在以保持放置有转移对象物的供体基板和/或光束整形光学系统以及缩小投影光学系统的状态移动的各台组、以及保...

本发明涉及聚合物、抗蚀剂组成物、及图案形成方法。本发明的课题是提供：尤其在电子束及波长13.5nm的极紫外线(EUV)中，为高感度、高分辨率、高对比度，且可形成LWR及CDU小的图案，同时蚀刻耐性优良的抗蚀剂组成物中所含有的聚合物、含有...

本发明中，通过扫描型缩小投影光学系统将供体基板上的微小元件以高的位置精度向相向的受体基板上进行激光诱导向前转移，所述扫描型缩小投影光学系统将横多模的脉冲激光光经由透镜阵列型的缩放匀光器、阵列掩模10、扫描镜4、光掩模6、远心投影透镜8在...

本发明涉及化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题是提供可形成能形成具有极高的分辨率、LER小、矩形性优良、显影负载的影响及显影残渣缺陷受到抑制的图案的抗蚀剂膜的化学增幅正型抗蚀剂组成物，以及提供使用该化学增幅正型抗蚀...

本发明提供低粘度、低温固化、高粘合性且在密封前后维持钙钛矿型太阳能电池的发电性能的高可靠性环氧树脂系粘合剂组合物及膜状密封材料。该粘合剂组合物含有：(A)通式(2)所示的双官能型环氧树脂、通式(3)所示的3官能以上的环氧树脂及通式(4)...

本发明的反射型掩模坯料包括：基板10；设置在所述基板10的一个面上且至少反射EUV光的多层反射膜20；以及设置在所述基板10的另一个面上的背面导电膜30。所述背面导电膜30具有：膜厚为50nm以上且小于80nm、且含有钽(Ta)、硅(S...

本发明提供一种兼顾导热性与低弹性化的有机硅组合物，其含有：(A‑1)由(R11R22SiO1/2)a(R23SiO1/2)b(R22SiO2/2)c(R2SiO3/2)d(SiO4/2)e表示的支链状聚硅氧烷，其中，R1为烯基，R2为烷...

本发明提供保护氟橡胶系的导热性片材的两面免受异物等的影响、发热构件与散热构件之间的安装作业性优异的导热性片材制品及其制造方法。本发明涉及在由导热性含氟固化性组合物的固化物构成的导热性片材的两面粘贴了电绝缘性膜的导热性片材制品，所述导热性...

本发明提供一种控制在硅氧烷序列中的二苯基甲硅烷氧基单元的序列，并将含有二苯基甲硅烷氧基单元的硅氧烷连续的序列的比例抑制在低水平的有机聚硅氧烷及其制造方法。所述有机聚硅氧烷中重均分子量700以下的低分子硅氧烷的含有率为10质量％以下，且，...

本发明提供一种太阳能电池及其制造方法、太阳能电池模块和发电系统。该太阳能电池的制造方法具有：在具有第一导电型的半导体基板的两主表面形成凹凸的步骤，在半导体基板的第一主表面，形成基底层的步骤，在基底层上形成扩散屏蔽的步骤，将扩散屏蔽图案状...

课题：本发明的目的在于提供在室温下可用液状的油剂溶解、在使油剂挥发后时在室温下成为液状、树胶状或者固体状的交联型有机硅树脂和其制造方法。进而，目的在于提供涂布性、丰富感优异、使用感良好、成为高含水且清新、经时稳定性良好的乳化物的化妆品，...

本发明为一种一氧化硅的制造方法，其为制造一氧化硅的方法，其具有：以包含氧气与非活性气体的第一混合气体为载体，将作为原料的金属硅粉末或金属硅粉末与二氧化硅粉末的混合粉供给至燃烧装置的操作A；及对所述燃烧装置供给包含可燃性气体、氧气及非活性...

本发明涉及鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成物、及图案形成方法。本发明的目的在于提供于使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优异、高感度、高对比度、曝光余裕度、线宽粗糙度等光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物使用的鎓盐、含有该鎓盐作为光酸产生剂的化学...

本发明涉及鎓盐、酸扩散控制剂、抗蚀剂组成物、及图案形成方法。本发明的课题是提供在光刻中，为高感度且分辨度优良，可改善LWR(粗糙度)、CDU(尺寸均匀性)，且可抑制抗蚀剂图案的崩塌的抗蚀剂组成物所使用的鎓盐。该课题的解决手段为一种鎓盐，...

本发明涉及密合膜形成用组成物、图案形成方法、及密合膜的形成方法。本发明的课题为提供密合膜形成用组成物、使用该组成物的图案形成方法、及密合膜的形成方法，该密合膜形成用组成物提供于半导体装置制造步骤中微细图案化处理中，得到良好的图案形状，同...

本发明提供一种糊状有机硅组合物，其特征在于，其含有：(A)交联型有机聚硅氧烷及(B)25℃下为液状的油剂，其中所述(A)交联型有机聚硅氧烷由(A‑1)一分子中具有2个以上键合于硅原子的氢原子的有机氢聚硅氧烷、(A‑2)一分子中具有2个以...

本发明涉及晶圆边缘保护膜形成方法、图案形成方法、及晶圆边缘保护膜形成用组成物。本发明的目的为提供一种晶圆边缘保护膜，对比已知的晶圆边缘保护膜，具有优良的干蚀刻耐性，且即使是难被覆的晶圆边缘部也具有优良的成膜性。一种晶圆边缘保护膜形成方法...