信越化学工业株式会社专利技术

信越化学工业株式会社共有3967项专利

  • 本发明是为了提供具有高度可靠性的固化紫外可固化树脂的方法,用于利用该固化方法制备平板的方法,以及廉价、低电能消耗、具有长的寿命和紧凑的紫外辐照设备。一种用于通过用来自一个或者多个发光二极管的紫外线辐照紫外可固化树脂来固化紫外可固化树脂的...
  • 如果用于双层型垂直磁记录介质的软磁层由电镀形成,那么会产生在组成软磁层的电镀膜表面上几毫米至几厘米范围内在特定方向上被磁化的大量磁畴,且在这些磁畴的边缘上产生磁畴壁。如果包含这些磁畴壁的软磁层用于双层垂直磁记录介质,那么由于已知为尖锋噪...
  • 本发明提供一种磁记录介质用衬底,优选提供一种具有不大于65mm直径的小直径衬底,其在物理特性和成本方面都具有优势。更具体地,本发明提供一种使用了之前经历过至少一次加热和/或腐蚀的单晶硅晶片的磁记录介质用衬底。此外,本发明提供一种制造磁记...
  • 提供了一种用于制造磁记录介质的优选为小直径衬底的高效方法。更具体地说,提供了一种用于制造磁记录介质的衬底的方法,包括:取芯步骤,以从其直径至少为150mm至多为300mm的单晶硅晶片获得其外径至多为65mm的多个环形衬底,其中,内径和外...
  • 本发明提供了一种用于改善取芯步骤产率的方法。更具体地说,本发明提供了一种用于制造用作磁记录介质衬底的衬底的方法,其包括:取芯步骤,以从具有至少150mm和至多300mm直径的单晶硅晶片获得具有至多55mm直径的多个环形衬底,其中,取芯的...
  • 一种用于磁记录介质的经表面处理的衬底和包含记录层的磁记录介质,其中经表面处理的衬底可包含具有足够强的粘合力的厚膜,能够承受调平加工,如在硅衬底上成膜过程中的抛光。一种用于磁记录介质的经表面处理的衬底,其包括Si衬底及位于Si衬底上的底镀...
  • 本发明提供一种经表面处理的磁记录介质用衬底,其在无磁性衬底上方具有均匀的成膜性并且可含有厚膜,以及提供包括记录层的磁记录介质。更具体的,本发明提供包括无磁性衬底以及位于无磁性衬底上的底镀层的经表面处理的磁记录介质用衬底是有效的,其中无磁...
  • 本发明提供的是表面经过处理的衬底,其中,衬底的表面的粗糙度可以被控制。这种表面经过处理的衬底能够形成磁记录介质,其中,记录头浮动稳定性得到了保证,而且其具有能够实现高记录密度的磁膜。还提供了一种粗化衬底的表面的方法。更具体的说,提供了用...
  • 本发明提供一种单晶Si基片,在其上形成和Si单晶基片具有良好粘附性的一个或多个金属膜,使得粘附性得到保证。更为具体的说,提供表面处理的基片,该基片包括具有1-100Ω.cm的体电阻系数的单晶Si基片,以及在单晶Si基片上的至少一个金属电...
  • 提供了一种紫外线可固化的有机聚硅氧烷凝胶组合物,其对于各种紫外光辐射强度显示出良好的可固化性并且提供了在深层部分的良好的可固化性,并且也提供了一种用于光学拾波器的阻尼材料。一种紫外线可固化的凝胶组合物,该组合物含有(A)100质量份数的...
  • 本发明涉及磁记录介质用硅衬底及其制造方法。在粗研磨后的多晶硅衬底表面涂布含有硅酮类材料或有机二氧化硅的液剂,得到遮蔽台阶或晶粒间界的平滑薄膜之后,在适当的温度下对该薄膜进行热处理而使有机成分气化挥散,由此形成SiO↓[2]膜,对该SiO...
  • 通过在电子照相感光体的电荷传输层粘合剂树脂中使用包含下式(1)表示的结构单元,粘均分子量为12000~100000,具有接枝状聚硅氧烷的新聚碳酸酯树脂,从而能提供滑动性和耐磨损性优异的电子照相感光体。(R↓[1]~R↓[5]是氢、氟、氯...
  • 提供表面用硅烷处理的球形二氧化硅-二氧化钛基细颗粒。细颗粒钛原子含量为0.001-5wt%,与铁粉的摩擦带电为-100--300μC/g,堆积密度为0.2-0.4g/ml,粒径为0.01-5μm。颗粒可用作静电充电图象显影调色剂用外加剂...
  • 本发明提供一种生产率优异、可以形成均一且微细的孔结构、并且毒性少的高连泡率聚硅氧烷海绵组合物,其中,海绵可以不考虑橡胶的交联速度的控制或发泡气体速度的微细的平衡而通过常温热气加硫作成。另外,所述高连泡率硅橡胶组合物含有:(A)下述平均组...
  • 定影辊或定影带用绝缘性硅橡胶组合物,其含有:一分子中含有至少2个与硅原子结合的链烯基的有机聚硅氧烷100质量份、使该有机聚硅氧烷固化的固化剂的有效固化量、和抗静电剂0.001~2质量份。本发明的绝缘性硅橡胶组合物可赋予抗静电性能好,并且...
  • 本发明涉及一种含有硅橡胶层的热定影辊或带,硅橡胶层通过硫化硅橡胶组合物形成,组合物包含(A)100重量份有机聚硅氧烷,其每分子含至少两个与硅相连的链烯基,(B)20至500重量份平均粒度至多达100μm的金属硅粉,和(C)有效量的硫化剂...
  • 提供了一种具有高开孔率的硅氧烷海绵,它表现出优异的生产性能,具有均匀和细微的孔结构,能通过常压热空气硫化(HAV)制备,而无需小心考虑橡胶交联速度的控制与发泡气体产生速度间的准确平衡。通过发泡和硫化一种硅氧烷橡胶组合物获得具有20%或更...
  • 本发明涉及静电印刷装置用半导体硅橡胶构件的制备方法,以及含有所述硅橡胶构件的静电印刷装置用辊和带。该方法使得能制备其中低分子量硅氧烷组分数量大大降低的静电印刷装置用硅橡胶构件。该方法包括以下步骤:通过模塑和固化包含以下组分的硅橡胶组合物...
  • 本发明的目的在于提供一种优异的防护薄膜框架,其能防止因为防护薄膜张力或使用处理所造成的框架歪曲,并能防止因为黏贴防护薄膜组件所造成的光罩歪曲。为达成上述目的,在半导体平板印刷所使用的防护薄膜框架中,用弹性系数不同的2种以上的材料接合制成...
  • 一种含有聚合物的化学放大负性抗蚀剂组合物,所述聚合物包含重复的羟基苯乙烯单元和其上具有吸电子取代基的重复苯乙烯单元。在形成一种具有小于0.1μm微细特征尺寸的图案中,组合物表现出高的分辨率,由组合物形成的抗蚀涂层可以处理成这种微细尺寸图...