本发明的目的在于提供一种防护薄膜组件，其具备实用的ＥＵＶ用防护薄膜，该薄膜具有优异的高透光性与化学安定性。本发明之防护薄膜组件１０，使用对１３．５ｎｍ波长的光的吸收系数在０．００５／ｎｍ以下的硅结晶膜作为防护薄膜１１。因为硅结晶膜是间接...

一种用于容纳形成光掩模的合成石英玻璃衬底的存储容器，其包括面向玻璃衬底的前和后表面的内壁，和提供在容器内壁上用于收纳用以吸附来自容器的释气成分的吸附剂的贮存器。比率Ａ／Ｂ在１．０－１２０ｍ↑［２］／ｃｍ↑［２］范围内，设Ａ是吸附剂的ＢＥ...

本发明的目的在于提供一种防护薄膜组件、收纳防护薄膜组件用的防护薄膜组件收纳容器、及将防护薄膜组件保存于防护薄膜组件收纳容器内的方法，特别是在大型防护薄膜组件中，可不使用隔离部而将防护薄膜组件保存于防护薄膜组件收纳容器内。为达成上述目的，...

公开一种大尺寸衬底，它具有不小于５００ｍｍ的对角线长度和不大于６．０×１０＃＋［－６］的平面度／对角线长度比率。通过把按照本发明的大尺寸衬底用于曝光，曝光精度被提高，特别是对齐精度和分辨率，因此可能获得大尺寸面板的高精度曝光。通过使用按...

一种适用于曝光的大尺寸基板，其为具有５００－２０００ｍｍ对角线长度或直径、１－２０ｍｍ厚度且有０．０５－０．４μｍ粗糙度的周边表面的板形形状。清洗期间从基板释放的微粒数最小，导致清洗步骤中提高产量。能够手工操作基板，无需操作机构实现了基...

本发明提供一种具有实用性的光刻用掩模护层，其对于例如２００至３００纳米的远紫外线，尤其是２００纳米以下的真空紫外线的短波长的光具有高透光率及耐旋光性。光刻用掩模护层是至少具有掩模护层膜、张贴该掩模护层膜的护层框，以及设于该掩模层框的另一...

一种包含式（１）、（２）、（３）和（４）的重复单元的聚合物，其在碱性显影剂中，在酸的作用提高了溶解速率，Ｒ↑［１］、Ｒ↑［２］、Ｒ↑［３］和Ｒ↑［６］是Ｈ或ＣＨ↓［３］，Ｒ↑［４］和Ｒ↑［５］是Ｈ或ＯＨ，Ｘ是具有双环［２．２．１］庚烷框...

半透明叠层膜１２具有第１半透明膜１３和第２半透明膜１４的叠层结构，对上述半透明膜的膜厚ｄ、对曝光光的折射率ｎ及消光系数ｋ进行设计，使其一为相位超前膜，另一为相位滞后膜。使相位超前膜的膜厚（ｎｍ）为ｄ↑［（＋）］、折射率为ｎ↑［（＋）］、...

本发明提供了一种负型抗蚀剂组合物，其包含一种包含具有式（１）的重复单元的聚合物、一种光致酸生成剂和一种交联剂。在式（１）中，Ｘ是烷基或烷氧基，Ｒ↑［１］和Ｒ↑［２］是Ｈ、ＯＨ、烷基、可取代的烷氧基或卤素，Ｒ↑［３］和Ｒ↑［４］是Ｈ或ＣＨ...

本发明提供贴附于光罩后很容易即可剥离的防护胶膜框架、及利用该防护胶膜框架的照相平版印刷用防护胶膜组件。本发明的防护胶膜框架的特征为，框架的长边长度为５００ｍｍ以上的大型防护胶膜组件时，角部（１２）的５０ｍｍ以内的外侧面至少设有１处凹部（...

在对曝光光线透明的基板（１）上设置层合２层由金属硅化物的化合物（２ａ、２ｂ）组成的层的相位偏移多层膜（２）。而且，在表面侧的金属硅化物的化合物（２ｂ）表面上形成氧化稳定化层（２ｃ）。相位偏移多层膜（２）中基板侧（下面）的层（２ａ）是金属...

在由石英或类似物制成用作光掩模基板的透明基板（１１）的一个主平面上形成用于曝光光的遮光膜（１２）。遮光膜（１２）不仅用作所谓的“遮光膜”，而且还用作抗反射膜。另外，遮光膜具有１００ｎｍ或更小的总厚度，而且对于波长为４５０ｎｍ的光，具有每...

本发明涉及一种光掩模坯料及光掩模，其是形成在透明基板上设置了具有对曝光光透明的区域和实效上不透明的区域的掩模图案的光掩模的原材料，是在透明基板上，经过或不经过其它的膜（Ａ）形成１层或２层以上的遮光膜，构成上述遮光膜的层的至少１层（Ｂ）作...

本发明提供一种防护薄膜框架，在贴附到光掩模之后，可容易地进行剥离；进一步提供一种装置，可将光掩模所贴附的防护薄膜组件加以无损伤地剥离。本发明的防护薄膜组件的特征为：至少一边的边长在３００ｍｍ以上的防护薄膜组件，且在贴附在光掩模２的状态中...

一种光掩模基板，其包括透明衬底、沉积在衬底上并包含易于氟干法蚀刻的金属或金属化合物的光屏蔽膜、以及沉积在该光屏蔽膜上并包含耐氟干法蚀刻的另一金属或金属化合物的蚀刻掩模膜。当对光屏蔽膜进行干法蚀刻以形成图案时，由图案密度的依赖性所引起的图...

本发明的目的在于提供一种防护薄膜组件，其能减少水中可溶离子，且能减少释放气体，并能抑制基于硫酸铵所产生的雾霭。为达成上述目的，而提供一种防护薄膜组件，其包含表面上有聚合物包覆膜的铝合金制防护薄膜框架，以及张设于该框架上的防护薄膜，其特征...

本发明涉及一种光掩模坯，光掩模坯具有一层光屏蔽膜和一层或多层铬基材料膜，光屏蔽膜由一个单独的层或多个层构成，一个单独的层由含有过渡金属、硅以及氮的材料制成，多个层中包括至少一层由含有过渡金属、硅以及氮的材料制成。高的过渡金属含量确保了电...

本发明旨在不取决于防护膜框架之端面的平滑度而实现贴附有防护膜组件之掩模表面的平滑性。依本发明，于半导体光蚀刻制程所使用之防护膜组件中，其特征为：供作将防护膜组件贴附到掩模之掩模粘接剂的厚度在０．４ｍｍ以上。

本发明提供一种外观良好之接合剂层的形成方法，其可在宽度较大的防护薄膜框架上平均涂布适量的接合剂，而不会发生未涂布或溢出的情况。在本发明之对防护薄膜框架端面涂布膜接合剂的方法中，系以一面从吐出口连续滴下膜接合剂一面使吐出口移动的方式进行涂...

具有图案化的遮光膜的用过的大尺寸光掩模基板通过以下步骤被重复利用：（ｉ）从用过的基板去除遮光膜以提供光掩模形成玻璃基板原料，（ｉｉ）通过喷砂对玻璃基板原料进行表面重修，（ｉｉｉ）对表面重修的玻璃基板原料再抛光以产生再生的玻璃基板原料，（...