具有图案化的遮光膜的用过的大尺寸光掩模基板通过以下步骤被重复利用：（ｉ）从用过的基板去除遮光膜以提供光掩模形成玻璃基板原料，（ｉｉ）通过喷砂对玻璃基板原料进行表面重修，（ｉｉｉ）对表面重修的玻璃基板原料再抛光以产生再生的玻璃基板原料，（ｉｖ）将遮光膜施加到再生的玻璃基板原料上应用以产生再生的光掩模形成毛坯，以及（ｖ）加工该毛坯的遮光膜成与所期望的母玻璃曝光相对应的图案，从而产生再生的光掩模基板。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及重复利用(recycling)用作在TFT液晶面板的阵列侧或者滤 色器侧的光掩^仗的;UC寸iyil^^的方法。背景狄通常,TFT液晶面;febi通过在其中置有TFT装置的阵列侧^gL^承栽滤 色器的差淑之间填充液晶来构造的。它们M于有源矩阵寻址方案，在该寻 址方案中，TFT;^a控制电压以控制液晶排列。迄今为止，液晶面板已从VGA至SVGA、XGA、 SXGA、UXGA和QXGA ^Jl到较高的^f率。可以相信的是，从每英寸100像素(ppi)级至加0ppi 级范围内的^率M，W沐必要，这与扩大的膝光范围相结合，强行要求严 格的膝絲度，特别是重W度。在阵列Mi^的制造中，通过被称为;UC寸ife^模的其Ji^有电路图案 的原版(original)重复膝光，图案以多层形^^诸如非威I4J^璃的母玻璃上。 另一方面，滤色器侧^ii过称为染料浸没工艺的光刻工艺来制造。在阵列 侧和滤色器侧结构两者的制造中，；UC寸的光掩^M:必需的。为了高精 度地膝光，如此;UU"的^y^^i^典型地由以低线'tiJi胀系^特征的合 ^US英玻璃制成。有些面板^^J称为低温多晶硅的技术来制造。在该情况中，已经研究了 在面板4象素以外、玻璃的周边部分上烧固(bake)驱动电路等，其需要更高 賴率的膝光.为了完成更高精度的膝光，基仗的平坦JUi重要的，需要在4Mit^中 即^^撑于膝光设备中时呈现出较高平坦度的;tA寸;5y^模形^J^。在另一方面，由合^5英制成的;UC寸iy^yi^昂贵的。 一旦用作！^变得无用或者浪费。如果用过的^i^t迚晓固另一个掩模图 案来再生，将获得4艮大的经^^。然而，为了#^^);^寸 ^^1，它们必须再被抛光以除去在持续 膝光、顿、除去薄膜及其^f k^ft期间不慎引入的损伤和污点，因为玻璃受 图^^入的热影响，所以它具有留在块体内的热应变，这导致在抛ife^Ji 的局部差异。结果，抛光可使石英玻璃带有台阶表面。因此，选##光* 以4^除去最少量材料时有M消除逸样的应变淑艮重要。;UC寸^^模形^J^bi通itiL论河时其被再抛iW减小其厚度的方式 M理以用于再^吏用。！^:UC寸;3y^模形^J^变得更薄，它在7jc平方位 (attitude)通过其自重^受更多挠曲(deflection)。于是，在光掩^fcl 和用作TFT液晶面板中阵列侧或滤色器侧基板的母玻璘之间的邻近间隙内产 生^变化。ii^终l^f氐了膝光的精度。针对这些问题，专利技术A^JP-A 2003-292346和JP-A 2004-359544中提出 了一种用于改善至少具有500mm对角线M的;^寸3^璃iyi的平坦度的 方法，获得4，8xl0-5或更小的平坦^/对角线长度和水平方位50]Lim或更小的 平行度。然而，没有在;UC寸:^^^SL的有效重复利用方面进行过研究，在该 有效重复利用中，选##光条降以俊在除去最少量材料时有放地消除上述应 力等。
技术实现思路
本专利技术的目的是m种重复利用方法，在该方法中，当减少除去的材 付时，将用过的;UCti^^li^高效率胁工成再生的:U^寸; y^微 板。M免用过的;^A寸3y^^yi的诸如表面形态和;^度变^tt^些结构因 素的影响并减少除去的材 的同时，专利技术"功^W用过的;UC寸; fe^模 ^^工成再生的狄;^i^，使得当再生的itMyi^被安絲膝光设备 中时，其呈现出高平坦度.更特别地，当再生的it^^^b!K平地W^在膝光设备中时，絲夹紧 手段包括其中吸力在;S^Lh4面上沿着边^^作用的^i^Lt侧支撑(四侧或者两侧支撑)，和其中jjfci^:在与^i下表面沿着边^^触的楔形支撑上的基板下侧支撑(通常两侧支撑)。无，一种手段^^^平地^M^^i^， ^y^ii4^通过其自重而挠曲和变形。这种变形因^y^^1^ 尺寸上变得更大而变得夸大。这样的挠曲/变形增大了; y^^i^N^在光掩^板下用于膝光的母玻璃之间的邻近空隙的变化，对膝iblt度带;M^著 负面影响。在贿技术中，采用了用于减小邻近空隙变化的方法。在利用吸力的基a侧支撑翻絲膝光设备中支撑iy^^^i的情况下，胁一力以便使 !^o^面ii^向上和向外位移，以减小^ti^中心的挠曲。在基仗下侧支 撑,4^啄光设备中支撑;jy^^^的情况下，对^支撑位置^卜的边^>向下的力，以类似地减小^^L中心的挠曲'然而，这种在膝光设备 中支撑^SL的装置被设计为用棘膝光设4HWt出妙以减小邻近空隙变化的方法具有难以和不便控制胁于絲的力的缺点。絲iy^^^尺寸 上变得更大，则需要更大的力，使得控制更难.当^^i^玻璃J^尺寸上增;tJ^角线长^L^少为500min，特 定地至少为800mm，特别是至少为1，800mm时，另一种4^在垂直方位已 被平坦化的玻璃基tl (用于形成;5y^^板)的方法表见不佳。对于;U^寸玻璃1^，其对角线长度至少为500mm，特定地至少为 800mm，特别;L^少为1，800mm, JL^其形成TFT液晶面板中的阵列侧或 滤色器侧iy^j^L，用于测量这样基仗的前面和背面的平坦度和平行度的 公知方法包^i十数干涉条紋数量的光学干涉技^M^UUi移测量计在邻i^ 板前面和背面的地方运行以用于扫描的^y3描技术。在测量期间^#1^ 的方法传统上是垂直^#，然而在实际使用中，^L^常^tK平^M争。当前 面和背面的平坦度和平行度被测量时1^被垂直保持的理由是，当基板以其 自重在水平方位挠曲时，难以测量精度，在膝光设备中运用有多种不同方法 以水平i4^Mt基仗，JJ舉于在与实际使用相同的条fr下测量平坦度。因为基 板的挠曲与基^f度的立方成良比，从挠曲方面而言，厚度i^尺寸增加而 增加这一J^UCt增大的倾向Bf^了一种可能性即使当按通常在垂直方位测量的^i^i平坦度小于几十nm时，在实际膝光中，^i^Mm过其自重变形几十到几百jim。如^4测量^^^L前面和背面的平坦度和平行度的精度时 同，则没有这^:问题出现。然而，-在现实情况中，没有开发出^^1相^基板,方式精确测量1^前面和背面的平坦度和平行度的方法。于是，M 前面和背面的平坦度和平行度的测量不得不诉诸于对处于垂直方位的基&的测量方法.然而，由这种测量方法得到的平坦^L^上不同于这样的^A寸iyi^i^膝光设备中旨时的平坦度。例如，参考作为用于TFT爆光的;UC寸iy^^llWt可用的玻璃^ 的平坦度。当具有450x550mm尺寸和5mm厚度的^4垂直方位测量呈现 出达(upto) 6xl0^的平坦^/对角线长度(平坦度"jim)时，假i5Jl种絲 被水平的四侧简单支撑所保持，则其将通过其自重而承受对应于由材料强度. 计算而估计得到的4.7xl0-s平坦^/对角线长度(平坦度 34jim)的挠曲。于 是，在水平方位实际使用期间，平坦度大约为34jtm。并且当具有 1^220xl，400mm尺寸和13mm厚度的^L在垂直方位测量呈现达6x10"的平 坦;l/对角线长度(平坦度 llfim)时，假i^il种^i4l^D!lC平的四侧简单支撑 ##，则^t过其自重而承受对应于由材料强度计算而估计得到的13x104 平坦本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种重复利用大尺寸光掩模基板的方法，包括以下步骤： （ｉ）从用过的大尺寸光掩模基板除去图案化的遮光膜，以提供要再生的大尺寸光掩模形成玻璃基板原料， （ｉｉ）使用喷砂的加工工具对玻璃基板原料进行表面重修， （ｉｉｉ）对表面重修的玻璃基板原料再抛光以产生再生的玻璃基板原料， （ｉｖ）将遮光膜施加到再生的玻璃基板原料上以产生再生的大尺寸光掩模形成毛坯，以及 （ｖ）将毛坯的遮光膜加工成与所期望的母玻璃曝光相对应的图案，从而产生再生的光掩模基板。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：上田修平，柴野由纪夫，
申请(专利权)人：信越化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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