本发明公开了涉及基于PID控制电磁磁力的载板停止系统，属于半导体生产设备领域。本发明系统结构简单、节省成本、且提高了工作的效率；其中，通过PID控制磁力大小，提高了载板停止的精度，另一方面，通过本发明的载板停止系统，不需要考虑速度过快而...

本发明公开了一种利用射频电源进行气氛补偿的蒸发镀膜装置，属于射频离子镀膜技术领域。通过设置射频电源气氛补偿部件，弥补更多的离子化的氧含量，在维持电子束系统不变的情况下，原离子源处替换成石英管，再配合RF射频电源，将氩气和氧气混合后通入石...

本实用新型提供的一种板式真空设备用工艺腔体气路系统，通过主气路管道实现抽真空操作，确保能够快速实现反应腔体内腔快速实现真空状态；通过设置精准调整气路管道，基于高精度调节气阀，实现对工艺气体的抽离操作，通过对高精度调节气阀抽出工艺气体的抽...

本发明公开了一种真空传送机器人，属于工业机器人技术领域。该机器人包括固定托板、移动机构和旋转升降机构，所述固定托板连接有主机械臂和辅助机械臂；所述移动机构与所述固定托板连接，用于驱动所述固定托板以及与所述固定托板连接的主机械臂和辅助机械...

本发明提供一种硅基太阳能电池金属电极的制备工艺，其可以实现高精度、高效率、高质量的硅基太阳能电池金属电极的制备。其包括：S1：在硅基太阳能电池片的硅基体的表面进行镀膜，得到镀膜层；S2：在镀膜层外部表面涂覆感光胶，得到感光胶掩膜层；S3...

本实用新型提供一种锂离子电池集电极膜，其可以减弱或者消除集电极膜的氧化风险，保持锂锂电池的能量密度和提高电池的使用安全性。其包括：聚合物膜，其特征在于，其还包括：依次设置的铜底膜、加厚层和保护膜；所述铜底膜设置于所述聚合物膜之上；所述保...

本实用新型提供一种真空镀膜用工件承载托盘，其可以在工序中实现对镀膜工件的快速、均匀、省能的加热。其包括：承载托盘，其特征在于，其还包括加热模块、储热层，所述加热模块、所述储热层被集成在所述承载托盘上，所述储热层被均匀地设置于所述承载托盘...

本实用新型提供一种加热器形变补偿结构，其可以克服加热器、被加热对象加热形变导致加热不均的问题，提高加热效率。其包括：柔性补偿层、滑动体，所述柔性补偿层为高耐热性的导热柔性材料；所述滑动体为低摩擦系数、高传热效率、高耐热性材料；所述柔性补...

本发明提供一种锂离子电池集电极膜的加工方法膜，其可以避免使用有环境污染的电镀技术，同时确保了产品的质量。其包括步骤：S1：将聚合物膜作为基材放置于基材运输装置上；S2：在真空环境下，基材运输装置承载着基材进入镜像磁控溅射镀膜区域，进行铜...

本发明提供一种加热器的形变补偿方法，其可以克服加热器、被加热对象加热形变导致加热不均的问题，提高加热效率。方法包括：在加热器的加热结构上设置一层形变补偿结构；所述形变补偿结构包括高耐热性的易变形的材料；所述形变补偿结构覆盖于所述加热结构...

本发明提供一种链式真空镀膜设备，其可以防止承载盘形变，同时很容易调整承载板、电极板之间距离，极大的降低了生产成本。其包括承载盘、滚轴、加热器；所述承载盘为水平设置的平板状结构，所述滚轴水平等高地、并行设置在所述承载盘底端面，所述滚轴的滚...

本实用新型提供一种抽破真空过程中防止被加工基材扰动的料腔，其可以对被加工基片进行更彻底的保护，同时不影响生产效率。其包括：料腔腔体，设置于所述料腔腔体内的基材载具承载台；其特征在于：其还包括板状的盖板，所述盖板顶部固定在所述料腔腔体的腔...

本实用新型提供一种双向镀膜磁控溅射装置，其可以提高镜像靶磁控溅射方法镀膜效率，同时提升有效产能。其包括：放置基材承载装置的成像位置、相对镜像设置的第一镜像阴极靶材、第二镜像阴极靶材，所述成像位置设置在所述第一镜像阴极靶材、所述第二镜像阴...

本实用新型提供一种高产率低损伤的磁控溅射镀膜装置，其可以在同时兼顾效率和质量。其包括基材运输结构、磁控镀膜结构，所述基材运输结构贯穿所述磁控镀膜结构内部，运送镀膜衬底材料进出所述磁控镀膜结构，其特征在于，所述磁控镀膜结构包括：在所述基材...

本发明提供一种旋转镜像靶磁控溅射设备，其大幅提升材料利用率，同时可以实现低温镀膜，扩大了衬底材料的范围。其包括：基材运输装置、磁控镀膜结构，其特征在于：所述磁控镀膜结构包括：两个具备独立磁性器件的旋转靶柱，两个所述磁性器件生成的磁场结构...

本发明提供的一种太阳能电池电极制造方法，其在太阳能电池表面沉积金属膜，然后采用精细光刻技术加工成最终的电池电极栅线，因为使用的金属成本低于银，所以电极成本降低，进而降低了整个产品的成本；最终得到的电极栅线为完整金属块，不含任何杂质，确保...

本发明提供一种双向镀膜磁控溅射方法，其可以提高镜像靶磁控溅射方法镀膜效率，同时提升有效产能；其在第一镜像阴极靶材、第二镜像阴极靶材之间的溅射粒子运动的两个方向上，都分别设置成像位置，基于本发明的镀膜设备，可以同时在两个方向对两个基材进行...

本实用新型提供基材可分离的真空镀膜设备，其可以获得更均匀的镀膜效果，确保镀膜面积内工艺性一致。其包括：放置待镀膜基片的基片承载盘，设置在所述基片承载盘下方的加热器，设置于所述基片承载盘上方的电磁场发生装置和工艺气体发生装置，所述基片承载...

本实用新型提供一种真空镀膜生产线真空腔抽气提速用真空气囊，其可以有效的缩短真空腔体抽气时间，提高工作效率，降低加工成本。其包括：内部为真空腔的气囊本体，所述气囊本体外形为矩形，所述气囊本体的侧壁上设置用于连接真空泵的预抽口。接真空泵的预...

本实用新型提供一种真空镀膜设备多路入气多级整流气路系统，即便是面对大面积的基片，其也可以使基片上的镀膜效果一致，可以明显提升整体镀膜均匀性。本实用新型技术方案中，将整流板分割为N