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万华化学集团电子材料有限公司专利技术
万华化学集团电子材料有限公司共有73项专利
一种化学机械抛光垫、制备方法及其应用技术
本发明公开了一种化学机械抛光垫、制备方法及其应用,所述的抛光垫至少包括抛光顶层、缓冲层及贴合层,所述的抛光垫内部性能包括硬度和压缩偏移量会随着抛光浆料的注入而发生变化,当酸性值达到一定程度后,所述抛光顶层的硬度及压缩偏移量表现出差异性分...
一种高亲水性抛光组合物及其制备方法和应用技术
本发明公开了一种高亲水性硅片抛光组合物及其制备方法和应用,所述高亲水性硅片抛光组合物以二氧化硅水溶胶为抛光磨料、有机碱为速率促进剂、水溶性聚合物为润湿剂、有机酸为稳定剂,并添加有与硅电负性相近的金属化合物作为润湿促进剂。本发明通过在硅片...
一种化学机械抛光垫缓冲层的制备方法、缓冲层及含其的抛光垫和应用技术
本发明提供一种化学机械抛光垫缓冲层的制备方法,包括以下步骤:a)将聚氨酯树脂、添加剂溶解在溶剂中配制成浆料;b)将浆料以一定厚度均匀涂布在无纺布上,并在第一凝固浴、第二凝固浴中分步固化成型;c)将无纺布分离并水洗烘干得到缓冲层。本发明还...
一种二氧化硅介电层化学机械抛光液及其应用制造技术
本发明公开了一种二氧化硅介电层化学机械抛光液及其应用,所述化学机械抛光液包含如下质量百分含量的组分:0.1%
一种适用于连续加料的直拉单晶硅生产装置及生产方法制造方法及图纸
本发明公开了一种适用于连续加料的直拉单晶硅生产装置及生产方法,所述生产装置包括石英坩埚、支撑坩埚、加热器、热屏、保温材料、主腔室和副室,所述石英坩埚为双坩埚,所述坩埚底部中心处为凹形结构;所述加热器包括侧边加热器和中心加热器,所述中心加...
一种减少EOE现象的钨化学机械抛光液及其应用制造技术
本发明公开了一种减少EOE现象的钨化学机械抛光液及其应用,所述钨抛光液包括二氧化硅磨料、铁盐催化剂、氧化剂、稳定剂、嵌段共聚物和水。本发明中的嵌段共聚物由两种具有特定结构的物质共聚而成,利用该嵌段共聚物可以降低钨抛光中的EOE现象,提高...
一种硅片抛光组合物及其应用制造技术
本发明公开了一种硅片抛光组合物及其应用,所述硅片抛光组合物以二氧化硅水溶胶为抛光磨料、有机碱为速率促进剂,并添加有芳基正离子化合物及水溶性改性硅油。本发明通过在硅片抛光组合物中同时加入芳基正离子化合物及水溶性改性硅油,能够快速去除硅片表...
一种带有终点检测窗口的化学机械抛光垫、制备方法及其应用技术
本发明涉及一种带有终点检测窗口的化学机械抛光垫、制备方法及其应用,所述终点检测窗在与抛光层交接处设有一个“肩部”,并且“肩部”硬度较窗口处硬度低。本发明的抛光垫窗口在抛光过程中能够避免传统带窗口的抛光垫所产生的漏液及抛光缺陷问题。产生的...
基于气凝胶的半导体晶圆夹持执行机构和晶圆检测方法和清洗方法技术
本发明公开了一种基于气凝胶的半导体晶圆夹持执行机构,包括具有上端部、下端部和侧壁的气凝胶块体以及包覆在所述气凝胶块体侧壁的外壳,所述气凝胶块体的下端部与流体供应机构相连,来自所述流体供应机构的流体从所述气凝胶块体的下端部流入、上端部溢出...
一种钨化学机械抛光液及其应用制造技术
本发明公开了一种钨化学机械抛光液,该抛光液包含研磨颗粒、催化剂、稳定剂、氧化剂、腐蚀抑制剂,还包含取代的硼酸频哪醇酯,余量为水。本发明的钨化学机械抛光液使用的取代的硼酸频哪醇酯能够增加抛光液稳定性,提高去除速率。率。
一种减少划伤的钨插塞化学机械抛光液制造技术
本发明公开了一种减少划伤的钨插塞化学机械抛光液及其应用,所述抛光液包含如下质量百分含量的组分:2%
一种钨插塞化学机械抛光液、使用方法及其应用技术
本发明公开了一种的钨插塞化学机械抛光液,所述抛光液由抛光液A和抛光液B组成,所述抛光液A包含如下质量百分含量的组分:2%
一种聚氨酯组合物及由其制造的化学机械抛光垫窗口制造技术
本发明涉及一种聚氨酯组合物,至少包含14.0
一种基于扫描液评估的硅片金属离子含量的检测方法技术
本发明公开了一种基于扫描液评估的硅片金属离子含量的检测方法,包括:1)制备指定金属浓度C0的标准硅片;2)使用扫描液收集标准片表面的金属沾污,分析回收的扫描液和试剂空白溶液,得到各元素含量C
一种抛光垫用聚合物微球的处理方法技术
本发明公开了一种抛光垫用聚合物微球的处理方法,所述方法包括:在容器中提供不互溶的多种溶剂,提供空心聚合物微球体;使得所述多个空心微球体与不互溶的溶剂接触,通过搅拌超声使微球在溶剂中浸润并分层,将作为抛光垫填料的经过溶液处理的聚合物微球从...
兆声辅助的研磨盘及研磨总成制造技术
本发明提供一种兆声辅助的研磨盘及研磨总成。兆声辅助的研磨盘包括:研磨盘本体,其第一表面开设有容纳槽;上盘,覆盖研磨盘本体的第一表面,并与研磨盘本体可拆卸连接;兆声发生器;换能器,设置于容纳槽内,并与兆声发生器电连接;匹配层,在容纳槽内与...
一种钨化学机械抛光液及其应用制造技术
本发明公开了一种含亲电亲核双功能有机硼化合物的钨化学机械抛光液,该抛光液还包含经硅烷偶联剂处理的研磨颗粒、催化剂、稳定剂、氧化剂、腐蚀抑制剂,余量为水。本发明的钨化学机械抛光液使用的亲电亲核双功能有机硼化合物可以增加体系稳定性,同时可以...
一种高精度硅片抛光组合物及其应用制造技术
本发明公开了一种高精度硅片抛光组合物及其应用,所述高精度硅片抛光组合物以二氧化硅水溶胶及有机碱为主要抛光组分,额外添加有酚类化合物、芳基含氮化合物。本发明通过在硅片抛光组合物中额外加入酚类化合物、芳基含氮化合物,可以在硅片表面形成双层保...
一种具有改善边缘效应的化学机械抛光垫、制备方法及其应用技术
本发明公开了一种具有改善抛光晶圆抛光后“边缘效应”缺陷的化学机械抛光垫的制备方法,通过在抛光层抛光轨迹区域下表面开设孔洞区,并对孔洞内部填充聚氨酯材料,固化后形成抛光层从而制得所述化学机械抛光垫。本发明还涉及制得的化学机械抛光垫及其在化...
抛光垫检测装置、系统及方法制造方法及图纸
本发明提供一种抛光垫检测装置、系统及方法,该装置包括安装座和用于检测待测抛光垫的形变的检测探针组件,安装座包括相对设置的第一安装板、第二安装板、以及可变长的连接支架,第一安装板上设有用于待测抛光垫的外边缘穿过的第一凹槽,第二安装板上设有...
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