一种物理气相沉积设备，此物理气相沉积设备是由反应室、晶圆承载基座与晶圆固定环所构成。其中晶圆承载基座配置于反应室的底部，用以承载晶圆。此外，晶圆固定环配置于晶圆承载基座上方，用以使晶圆固定于晶圆承载基座上，且晶圆固定环暴露出晶圆的沉积区...

本发明是关于一种氮化硅层的形成方法，该形成方法是先提供沉积炉管，且此沉积炉管包括外管、晶舟、气体注入器与气体均匀注入装置。其中晶舟配置在外管内部，用以承载多数个晶圆。此外，气体注入器位于外管与晶舟之间。另外，气体均匀注入装置位于外管与晶...

一种集成电路晶圆包装盒装填工具，用以将集成电路晶圆转移至一晶圆包装盒中。此装填工具由一底座与一环形侧壁组成，其中环形侧壁一体成形地设置于底座上，其中此环形侧壁的内径大于晶圆的直径，且此环形侧壁的外径小于晶圆包装盒的内径，并且在环形侧壁上...

本发明是关于一种流体排出装置及其制造方法与操作方法，其中该流体排出装置，是包括一基板、一悬臂梁以及一启动垫。基板具有一孔洞，而悬臂梁是配置在基板上方，且悬臂梁具有一固定部以及一悬臂部，其中悬臂部是对应配置于上述的孔洞的上方。另外，启动垫...

一种化学机械研磨装置的晶圆载具结构，包括一研磨头与一研磨垫调节器，其中研磨头具有一底部以及固放在底部的一晶圆边缘压覆环，用以固定一晶圆于研磨头的底部。而研磨垫调节器固定在晶圆边缘压覆环的表面，或是环绕在研磨头的侧边，或是嵌入在晶圆边缘压...

本发明是关于一种控档片自动报废与回收方法以及决定机台运作方法。该方法是在一控档片上，虚拟分割出具一预定数量的虚拟芯片，并根据虚拟芯片，测量在控档片上的瑕疵数目与瑕疵芯片数目，然后与预定规格作比较，最后根据该分析结果，由系统自动报废与回收...

一种废气处理装置，适用于处理含有污染物的废气，其特征在于，包括：　　　　一填充式洗涤塔；　　　　一进气管，连接于该填充式洗涤塔，其中，该废气由该进气管流入该填充式洗涤塔中；　　　　一超音波二相流喷雾加湿器，设置于该进气管中，用以产生细微...

一种空气过滤装置，其与一外部供水装置及一空气管路连接，其特征在于：该装置包括：　　　　一腔体，具有一进气口、一与空气管路连接的气体出口及多个设于腔体内的与外部供水装置连接的喷嘴，其中喷嘴持续向腔体内喷出水雾；以及　　　　一水幕产生器，套...

一种废水过滤装置及其控制电路。本发明通过将沙滤塔放置于原来的废水过滤装置中的过滤器（例如是滤网或滤纸）与取样泵浦之间，使废水先经由沙滤塔过滤而将废水中的大部分的悬浮粒子过滤后，再送入过滤器过滤，这样就可以大大降低过滤器的用量而避免因为检...

一种过滤装置及其过滤方法与晶片制造方法。过滤装置用以过滤气体。气体具有第一温度。过滤装置包括壳体、冷凝器及至少一个吸附元件。壳体具有进气口、排气口及冷凝室，进气口用以供气体进入冷凝室，排气口用以供气体离开冷凝室。冷凝器与壳体耦接，用以维...