一种用于在高频电磁场中连接引导流体的管道(2)和/或腔室(3)的装置(1)，其中，所述装置具有两个管道体(4、6)和波纹管(8)，这些管道体分别带有本身刚性的管道体内壁(5、7)，其中，所述管道体内壁(5、7)共同地围成用于引导流体通过...

本发明涉及用于将工艺气体可控输入真空工艺室的进气阀(1)，其中该进气阀包括：气体流通单元(2)，其具有进气口(21)、出气口(22)和自由接近所述进气口和出气口的内体积(23)，其中该气体流通单元具有在内体积中的密封面；具有调节单元(3...

本发明涉及一种用于监测销升降器装置(10)的状态的方法，其中，销升降器装置(10)被设计成在处理气氛区域(P)中移动和定位基板。销升降器装置(10)包括联接件(18)以及具有电动机的驱动单元(12)，该驱动单元被以如下方式设计并且与联接...

一种真空阀，包括：阀体(1)；封闭构件(4)；至少一个承载所述封闭构件(4)的阀杆(9)；至少一个引导块(15a、15b)，所述至少一个阀杆(9)平行于所述纵向移调方向(13)可移动地被该引导块引导；纵向行程驱动器(17)，由该纵向行程...

一种用于在加工大气区(P)中能够移动的活动元件(19)的真空调节装置(10)，其具有：联接件(18)以及驱动单元，其具有电动马达(12)并且按照使得联接件(18、38)能够从正常位置调节至活动位置并返回的方式与联接件(18)相互作用。装...

一种带有阀(1)的装置，该阀具有阀壳体(2)和安置在所述阀壳体(2)的内部空间(3)中的封闭构件(5)，所述阀(1)的阀驱动器(4)可使该封闭构件在关闭位置和打开位置之间来回运动，其中，所述封闭构件(5)在所述关闭位置关闭所述阀壳体开口...

一种用于装载和/或卸载真空腔(2)的真空阀(1)，其中，所述真空阀(1)具有封闭板(3)，其中，所述封闭板(3)在关闭位置被压靠到阀座(4)上并且封闭装载开口(5)，而在打开位置被抬离所述阀座(4)并且释放所述装载开口(5)用于装载和/...

本发明涉及一种换向阀，具有阀壳体(1)和设置在阀壳体(1)内的旋转件(9)，该阀壳体带有初级接头(3)和至少第一与第二次级接头(4、5)，该旋转件被贯通通道(11)穿过，并且可绕旋转轴线(10)旋转，用于在至少第一和第二切换位置之间移调...

一种膜片式波纹管，具有多个膜片(2)和至少一个引导部件(8)，用于在穿过所述膜片式波纹管的内部通孔的杆(6)的外表面上进行引导，或者用于在围绕所述膜片式波纹管的管(14)的内表面上进行引导。该引导部件(8)具有：保持翅片(9)，该保持翅...

本发明涉及用于基本气密关闭限定出开口轴线的开口的真空阀(10)，包括具有关闭侧的关闭件(14)和布置在与关闭侧相对的后侧的联接单元以及具有围绕开口的阀座(12a)的阀壁。该阀还包括线性驱动单元，关闭件(14)可借此沿调节轴线在基本垂直于...

本发明涉及用于提供对称流体流的真空阀。真空阀用于调整体积流或质量流且用于气密中断流路，具有：第一阀座，其具有限定出第一开口轴线的第一阀开口(11a)和围绕第一阀开口(11a)的第一密封面(12a)；第一阀盘(13a)，其具有对应于第一密...

一种销举升装置(10)且特别是销举升器，其被设计用于在可由真空处理室提供的处理气氛区域内移动和定位待处理基片特别是晶圆。销举升装置(10)包括被设计成接收适于接触并支承该基片的支承销的接头(32)以及驱动单元(12)，其被设计且与接头(...

一种用于使得真空阀的阀杆(4)与封闭件(1)连接的连接装置，具有布置在第一连接部件(10)与第二连接部件(11)之间的连接体(12)，该连接体具有通过剖切两个圆柱体而形成的斯坦梅茨体的基本形状。所述连接体(12)布置在所述第一连接部件(...

本发明涉及一种具有至少一个锁定室(10；10a；10b)的锁定装置(68；68a；68b)，特别是真空锁定装置，所述至少一个锁定室特别地可以真空密封地关闭，所述锁定装置包括至少一个可移动地安装的锁定致动元件(12；12a；12b)，用于...

销举升装置特别是销举升器被设计用于在能由真空处理室提供的工艺气氛区域(P)中移动和定位待处理的基片尤其是晶圆。该销举升装置包括接合部件(31)，其所具有的接合件(32)适于容纳被设计成接触并支承该基片的支承销，还包括具有驱动单元(12)...

根据本发明的销提升装置(10)被设计用于在处理腔室(4)中移动待处理基材并包括沿调整轴线(A)延伸的壳体(31)、布置在壳体(31)的第一端区且具有壳体开口(34)的端侧壳体封闭件(33)，布置在壳体(31)的第二端区的驱动部件(11)...

具有滑动引导件的销升降装置，尤其是销升降器，其被设计用于在可由真空处理室提供的处理大气区域中移动和定位基板。销升降装置具有联接部分，其具有形成为接收设计成接触并承载基板的支撑销的联接器，并且还具有驱动单元，其被设计成与联接器相互作用，使...

销提升装置设计用于在能由真空处理室提供的工艺气氛区域中移动和定位待处理基片，销提升装置包括：设计用于容纳支撑销(7)的联接装置(20)，支撑销配置成与基片接触并支承它；驱动单元，其与联接装置(20)合作并设计成使联接装置(20)能从降低...

一种活塞‑气缸单元，包括气缸壳体(1)和活塞(3)，该气缸壳体具有气缸内腔(2)，该活塞布置在所述气缸内腔(2)中，从该活塞伸出活塞杆(4)，该活塞杆穿过开口从所述气缸壳体(1)伸出，并且在此借助于布置在所述气缸壳体(1)上的活塞杆密封...

用于按规定处理物体的真空处理系统，具有可抽真空的真空处理空间(1)、真空阀(10)、设计用于至少部分提供规定的过程状态的外围单元(4,21‑25)和调节控制单元(11)。真空阀(10)具有限定开口轴线的阀开口和环绕阀开口的第一密封面的阀...