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销提升装置制造方法及图纸

技术编号:28217614 阅读:22 留言:0更新日期:2021-04-28 09:33
根据本发明专利技术的销提升装置(10)被设计用于在处理腔室(4)中移动待处理基材并包括沿调整轴线(A)延伸的壳体(31)、布置在壳体(31)的第一端区且具有壳体开口(34)的端侧壳体封闭件(33),布置在壳体(31)的第二端区的驱动部件(11)、具有能在壳体中沿调节轴线(A)方向运动的部件(21)的调节装置(15)、用于调节装置(15)的且在壳体(31)内侧形成于在端侧壳体封闭件(33)处的第一止挡(17a)和远离其的第二止挡(17b)之间的导向部段(17)、在壳体(31)内在端侧壳体封闭件(33)和调节装置(15)之间形成的紧密连接装置(55)以及从该导向部段(17)处的第一止挡(17a)延伸至第二止挡(17b)的连接通道(18)。即使在活动部分(21)的运动期间,连续的第二内部区域也导致第二内部区域的最小体积变化。积变化。积变化。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】销提升装置
[0001]本专利技术涉及用于借助至少一个支撑销在处理腔室内移动和定位基材的销提升装置。
[0002]也称为顶销机的销提升装置通常被设计和设置用于在处理腔室中接收和按规定定位待处理基材。它们尤其被用于集成电路、半导体、平板或基材生产领域的真空腔室系统,这样的生产必须在不存在污染颗粒的受保护气氛中进行。
[0003]这样的真空腔室系统尤其包括至少一个可抽空的真空腔室,它被设置用于接收待处理或待生产的半导体元件或基材并具有至少一个真空腔室开口,可通过该开口将半导体元件或其它基材引入和引出真空腔室。例如在用于半导体晶圆或液晶基材的生产设备中,高敏半导体或液晶元件依次经过几个处理真空腔室,位于处理真空腔室内的部件分别通过处理装置在处理真空腔室中被处理。
[0004]这样的处理腔室通常有至少一个传送阀,其横截面适配于该基材和机械手,且基材可以通过传送阀被送入真空腔室,并且如果需要可以在预期处理之后被移除。或者,例如可以设置有第二传送阀,经此可以从腔室移除处理后的基材。
[0005]基材例如晶圆通过适当设计和控制的机械臂被引导,该机械臂可以穿过由本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种销提升装置(10),所述销提升装置(10)被设计用于在能通过真空处理腔室(4)提供的处理气氛区域(P)中移动和定位待处理基材(1)特别是晶圆,所述销提升装置(10)具有:沿调节轴线(A)延伸的壳体(31);布置在所述壳体(31)的第一端区并具有壳体开口(34)的端侧壳体封闭件(33);和布置在所述壳体(31)的第二端区的驱动部件(11);具有能够在所述壳体内沿所述调节轴线(A)的方向移动的部分(21)的调节装置(15);用于所述调节装置(15)的导向部段(17),所述导向部段(17)在所述壳体(31)上在内侧形成在所述端侧壳体封闭件(33)处的第一止挡(17a)和远离所述第一止挡的第二止挡(17b)之间;从所述调节装置(15)穿过所述壳体开口(34)以承载支承销(59)的连接器(32),其特征在于,设有在所述壳体(31)内在所述端侧壳体封闭件(33)和所述调节装置(15)之间形成的紧密连接装置(55),所述紧密连接装置被形成和紧固到所述端侧壳体封闭件(33)和所述调节装置(15),使得经过所述壳体开口(34)的通路仅进入由所述紧密连接装置(55)和所述调节装置(15)封闭的第一内部区域,并且还设有从所述导向部段(17)处的所述第一止挡(17a)延伸至所述第二止挡(17b)的连接通道(18),所述连接通道确保在所述壳体(31)、所述端侧壳体封闭件(33)、所述连接装置(55)、所述调节装置(15)和所述驱动部件(11)之间的第二内部区域的连通。2.根据权利要求1所述的销提升装置(10),其特征在于,所述调节装置(15)通过导向套筒(16)在所述导向部段(17)上以可调节的方式被引导。3.根据权利要求2所述的销提升装置(10),其特征在于,所述导向套筒(16)和所述导向部段(17)具有圆柱形的接触区域。4.根据权利要求1至3中任一项所述的销提升装置(10)...

【专利技术属性】
技术研发人员:M
申请(专利权)人:VAT控股公司
类型:发明
国别省市:

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