本发明涉及涂胶显影机领域，尤其涉及一种具有平整涂胶功能的涂胶显影机。技术问题如下：不宜通过机械挤压的方式进行涂胶的固定，硅片的取放极为不便，并且通过甩胶的方式进行胶料的平整，胶料被甩到挡板上，胶料的回收处理困难。技术方案如下：一种具有平...

本发明涉及半导体生产领域，尤其涉及一种优化涂胶的显影机。本发明的技术问题为：喷涂在硅片上表面的光刻胶会流到硅片的下表面，造成硅片下表面被污染从而影响后续对硅片的处理。本发明的技术方案为：一种优化涂胶的显影机，包括有机框、移动轮和机门等；...

本发明涉及涂胶显影机领域，尤其涉及一种热处理均匀的涂胶显影机。为了解决受温度调控的影响，同一批次中不同顺序完成光刻胶涂覆工作的晶圆，其后续显影效果易存在差异性，影响显影后的成品率的技术问题。本发明提供了这样一种热处理均匀的涂胶显影机，包...

本发明公开了一种半导体基板固定装置，具体包括：固定架，该固定架四周均固定连接有固定框，所述固定框，所述固定架内壁开设有安装槽，所述安装槽侧面与固定框一侧连通；压紧装置，该压紧装置设置在固定框内部，所述压紧装置两端分别与固定框内壁两侧转动...

本发明公开了一种半导体加工设备，具体包括：吊板，该吊板底部两侧均固定连接有固定滑道，所述固定滑道内壁滑动连接有限位滑块；升降杆，该升降杆贯穿吊板并与吊板固定连接，所述升降杆顶部固定连接有吊杆；固定装置，该固定装置顶部与升降杆底部固定连接...

本发明公开了一种罩式炉内钢卷热处理温度的测温装置，涉及退火炉组件技术领域。本发明包括套壳，套壳内安装有同轴线分布的热电偶，热电偶的检测端通过套壳的一端口伸出；套壳与热电偶中间形成腔体一，热电偶靠近伸出端一侧套接有转动部，热电偶上还套接有...

本发明公开了一种罩式退火炉炉内钢卷测温用密封装置，涉及退火炉组件技术领域。本发明包括管体一和管体二，管体一的一端连接有球形壳体，球形壳体的侧面上开有与内部连通的条形槽，球形壳体内部安装有与条形槽配合的密封部一，密封部一上安装有延伸至球形...

本发明公开了一种半导体结构的刻蚀装置，包括主体，所述主体的外表面设置有限位框，且主体的外表面与限位框的内表面固定连接，所述限位框的左端设置有刻蚀装置，且主体的上表面与金属座底端固定连接，所述金属座内腔的底部设置有清理装置，本发明涉及半导...

本发明公开了一种半导体封装装置，包括设备主体，设备主体的顶部固定连接有加工框架，加工框架的内腔底部中间位置固定连接有送料架，封装装置的正面底部贯穿送料架且延伸至送料架的外部，加工框架的正面顶部固定连接有控制面板，加工框架的正面底部两侧固...

本发明公开了一种半导体浸泡装置，包括固定支架，所述固定支架的顶部固定连接有稳固基座，所述稳固基座的顶部固定连接有浸泡装置，所述浸泡装置的正面底部中间位置设置有电机，所述电机的输出轴贯穿浸泡装置且延伸至浸泡装置的内部，所述浸泡装置的右侧外...

本发明公开了一种PVC薄膜加热装置，包括安装架，安装架上端安装有升降机构，安装架两端安装有支撑柱，两个支撑柱上均设置有滑槽，支撑柱的背面通过螺母固定连接有电机，电机的输出端焊接有第一齿轮、设置在第一齿轮左端的第二齿轮，第二齿轮左端设置有...

本发明公开了一种夹持晶圆的成片台装置，包括底座、支柱、成片台底座、晶圆支撑柱和安装在晶圆支撑柱上的活动档柱和驱动电机，所述成片台底座通过支柱固定在底座上，所述晶圆支撑柱安装在成片台底座上并围成一晶圆安装圆环，所述晶圆安装圆环用于放置晶圆...

本发明公开了一种晶圆承载装置，包括晶圆承载台、用于支撑晶圆承载台的承载支柱、设置在承载支柱内的缓冲装置和预清洗装置，还包括可旋转、可竖直移动以及可水平移动的真空晶圆夹盘，真空晶圆夹盘四周还设置多个有限位夹具和驱动限位夹具相对于真空晶圆夹...

本发明公开了一种晶圆转换器，包括底座和转换开关，所述底座上设置有第一定位装置和第二定位装置，所述第一定位装置和第二定位装置上均安装有位置传感器，所述底座一端开设有凹槽结构，还包括推杆以及驱动推杆在底座一端开设的凹槽结构内左右滑动的马达，...

本发明公开了一种晶圆清洗装置，包括清洗腔体、晶圆固定设备和等离子发生装置，所述清洗腔体包括内部相对设置的上电极板和下电极板，所述等离子发生装置与上电极板和下电极板电连接，所述晶圆固定设备包括第一旋转马达、第二旋转马达、与第一旋转马达连接...

本发明公开了一种晶圆干燥装置，包括升降机构、安装在升降机构上的机械臂、驱动机械臂在升降机构上升降的第一电机，所述机械臂上安装有摇摆的摇摆臂以及驱动摇摆臂进行摇摆的第第二电机，所述摇摆臂上均匀安装有多个气体喷嘴，所述气体喷嘴包括加热单元，...

本发明公开了一种电机，包括外壳、制动器和电机端盖，所述制动器安装在外壳内部，所述制动器包括定子和绕组，所述定子上开设有安装槽，所述绕组设置在安装槽内，所述电机端盖包括设置在外壳一侧的前端盖和设置在外壳另一侧的后端盖，所述外壳上设置有多个...

本发明公开了一种氮气加热装置，包括桶体，桶体外部设置有保温层，桶体内部从上到下设置为干燥室、隔板和加热室，加热室上设置有氮气入口、进水口和出水口，还包括与氮气入口连通的环形氮气输入管，环形氮气输入管上设置有数个氮气喷射装置，氮气喷射装置...

本发明公开了一种工件传输装置，包括支撑架，支撑架上安装有加工装置和设置在加工装置一侧的传送装置，加工装置包括加工口、电控箱、旋转轴承和传送带，传送带上安装有产品稳定装置，移动装置包括安装在丝杆上的滑块、安装在滑块上的第二电机、与第二电机...

本发明公开了一种旋转烘干装置，包括烘干箱体，烘干箱体内部包括上烘干室、下烘干室和横隔板，横隔板设置在上烘干室和下烘干室之间，上烘干室内部设置有第一旋转烘干装置和热风装置，上烘干室左侧上端设置有出风管，下烘干室外壁上设置有蒸汽管，下烘干室...