一种热处理均匀的涂胶显影机制造技术

本发明专利技术涉及涂胶显影机领域，尤其涉及一种热处理均匀的涂胶显影机。为了解决受温度调控的影响，同一批次中不同顺序完成光刻胶涂覆工作的晶圆，其后续显影效果易存在差异性，影响显影后的成品率的技术问题。本发明专利技术提供了这样一种热处理均匀的涂胶显影机，包括有均胶组件和旋转机构等；旋转机构上设有均胶组件。本发明专利技术中由旋转机构间歇式带动均胶组件进行旋转，涂胶组件在每个晶圆上表面中部均滴加一份光刻胶，使晶圆上的光刻胶与空气接触的面积大幅度缩小，有效减少旋转机构在传动晶圆期间，晶圆上的光刻胶水分散发的量，之后同步带动所有晶圆快速旋转，使光刻胶在离心力下向四周扩散，并覆盖满晶圆，最后完成对晶圆的显影处理。最后完成对晶圆的显影处理。最后完成对晶圆的显影处理。

【技术实现步骤摘要】
一种热处理均匀的涂胶显影机


[0001]本专利技术涉及涂胶显影机领域，尤其涉及一种热处理均匀的涂胶显影机。

技术介绍

[0002]涂胶显影机一般由传动系统、涂胶系统、加热系统、显影系统等部分组成，集成光刻胶涂覆、加热烘干和显影功能，批量对晶圆进行自动化显影处理，完全替代微流控芯片制作过程中的手动显影环节，减少操作人员人为因素导致的显影质量问题以及硅片的损坏，提高产品质量。
[0003]涂胶显影机中温度的控制对晶圆的显影效果和成品率均具有较大的影响，专利CN215769352U公布了一种便于控温的涂胶显影机，该涂胶显影机在光刻胶涂覆之后，加热让光刻胶中的水分蒸发进行凝固期间，通过热电偶检测周围的温度变化，使得加热过程中的温度变化直观，便于对温度进行调控，然而在对晶圆涂胶过程中，涂胶显影机内需要保持温度较高的状态，由于晶圆的涂胶工作时逐个进行的，并且涂覆在晶圆表面的光刻胶厚度较薄，因此在对晶圆进行逐个涂胶工作中，先处理的晶圆其表面的光刻胶水分散发量，大于后处理的晶圆其表面的光刻胶水分散发量，因此在同步进行显影工作期间，同一批次中不同顺序完成光刻胶涂覆工作的晶圆，其显影效果存在差异性，若该差异性较大，则易影响显影后的成品率。

技术实现思路

[0004]为了克服受温度调控的影响，同一批次中不同顺序完成光刻胶涂覆工作的晶圆，其后续显影效果易存在差异性，影响显影后的成品率的缺点，本专利技术提供一种热处理均匀的涂胶显影机。
[0005]本专利技术的技术方案为：一种热处理均匀的涂胶显影机，包括有均胶组件、防溅组件、涂胶组件、底座、升降机构、顶架、显影机构、安装盘、电动转盘、旋转机构和加热件；底座的四个边角各安装有一个升降机构；四个升降机构的伸缩端之间共同固接有顶架；顶架的中部安装有显影机构；顶架的下侧四周边沿安装有若干个加热件；底座的中部固接有安装盘；安装盘的内部通过若干个连接板固接有一个环形架；安装盘的中部安装有电动转盘；安装盘与环形架之间连接有旋转机构；旋转机构间歇式带动其上侧连接的若干个均胶组件旋转，底座的左侧连接有涂胶组件，涂胶组件逐个对均胶组件上放置的晶圆滴加光刻胶；电动转盘的转动部带动齿环转动期间，升降机构带动顶架下侧设有的若干个防溅组件，分别下压相应的一个均胶组件，让齿环同步带动各个均胶组件及其携带的晶圆旋转开始匀胶工作，防溅组件收集旋转期间飞溅的光刻胶；底座的上侧开设有若干个开槽，开槽各上下对齐一个防溅组件。
[0006]作为本专利技术的一种优选技术方案，旋转机构包括有电动转环和环形滑块；安装盘的上侧连接有电动转环；环形架的上侧滑动连接有环形滑块；电动转环和环形滑块均连接所有均胶组件。
[0007]作为本专利技术的一种优选技术方案，均胶组件包括有固定块、衬套、花键轴、托盘、凸块、滚珠、第二弹簧件、直齿轮和热电偶；电动转环与环形滑块之间固接有固定块；固定块的中部转动连接有衬套；衬套的内部连接有花键轴；花键轴的上端固接有托盘；环绕托盘的边沿滑动连接有若干个滑杆；每个滑杆的外端各固接有一个凸块；每个凸块与托盘之间各固接有一个第一弹簧件，第一弹簧件套设在相邻滑杆的外表面；凸块的上侧各活动连接有一个滚珠；托盘与固定块之间固接有第二弹簧件，第二弹簧件套设在花键轴的外表面；花键轴的下侧固接有直齿轮；固定块上各安装有一个热电偶。
[0008]作为本专利技术的一种优选技术方案，花键轴的下端各固接有一个底柱；环绕底柱的下侧各开设有若干个插槽结构。
[0009]作为本专利技术的一种优选技术方案，安装盘的内底部转动连接有若干个轴套，每个轴套分别上下对齐一个底柱；环绕轴套的内部设置有若干个凸齿结构。
[0010]作为本专利技术的一种优选技术方案，连接板的中部设置为向下凹陷的结构，方便直齿轮在随电动转环旋转期间，顺利通过连接板的上方。
[0011]作为本专利技术的一种优选技术方案，防溅组件包括有固定架、电动转轴、支臂和挡板；顶架的下侧固接有固定架；固定架的下端连接有电动转轴；电动转轴的转动部固接有支臂；支臂上固接有挡板。
[0012]作为本专利技术的一种优选技术方案，挡板设置为横截面为倒U形的盖板结构。
[0013]作为本专利技术的一种优选技术方案，挡板的内下侧各可拆卸式连接有一个环形向上翘起的倒勾板。
[0014]作为本专利技术的一种优选技术方案，涂胶组件包括有电动滑块、机械臂和涂胶喷头；底座的左侧滑动连接有电动滑块；电动滑块的上侧安装有机械臂；机械臂上固接有涂胶喷头。
[0015]本专利技术的有益效果为：在本专利技术提供的技术方案中，旋转机构上设有若干个均胶组件，每个均胶组件的上方各对应设置有一个防溅组件，首先外接的机械手将晶圆逐个放置在各个均胶组件上，同时旋转机构间歇式带动其上侧连接的若干个均胶组件进行旋转，由底座左侧连接的涂胶组件，逐个对均胶组件上放置的晶圆滴加光刻胶，光刻胶被滴加在晶圆的上表面中部，随着旋转机构不停的传动各个均胶组件经过涂胶组件，每个晶圆上表面中部均滴加有一份光刻胶，在此过程中，由于晶圆上表面的光刻胶紧密聚积在一起，因此晶圆上的光刻胶与空气接触的面积大幅度缩小，有效减少旋转机构在传动晶圆期间，晶圆上的光刻胶水分散发的量，之后电动转盘带动齿环转动期间，升降机构带动顶架下侧设有的各个防溅组件，分别下压相应的一个均胶组件，让均胶组件均连接齿环，由齿环同步带动各个均胶组件及其携带的晶圆旋转开始匀胶工作，使光刻胶在快速旋转的离心力下向四周扩散，并覆盖满晶圆，同时防溅组件收集光刻胶在旋转期间向外飞溅的光刻胶，最后在显影机构的照射下完成对晶圆的显影处理。
附图说明
[0016]图1为本申请的热处理均匀的涂胶显影机的第一种立体结构示意图；图2为本申请的热处理均匀的涂胶显影机的第二种立体结构示意图；图3为本申请的涂胶组件立体结构示意图；
图4为本申请的旋转机构局部立体结构示意图；图5为本申请的热处理均匀的涂胶显影机的C区放大图；图6为本申请的均胶组件立体结构示意图；图7为本申请的均胶组件局部立体结构示意图；图8为本申请的底柱立体结构示意图；图9为本申请的防溅组件立体结构示意图；图10为本申请的挡板剖面图。
[0017]以上附图中：1
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底座，11
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开槽，2
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升降机构，3
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顶架，4
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显影机构，5
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安装盘，51
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连接板，52
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环形架，53
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轴套，531
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凸齿，6
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电动转盘，61
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齿环，71
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电动转环，72
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环形滑块，8
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加热件，101
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固定块，102
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衬套，103
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花键轴，104
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托盘，1041
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滑杆，1042
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第一弹簧件，105
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凸块，106
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种热处理均匀的涂胶显影机，包括有底座（1）、升降机构（2）、顶架（3）和显影机构（4）；底座（1）的四个边角各安装有一个升降机构（2）；四个升降机构（2）的伸缩端之间共同固接有顶架（3）；顶架（3）的中部安装有显影机构（4）；其特征在于：还包括有均胶组件、防溅组件、涂胶组件、安装盘（5）、电动转盘（6）、旋转机构和加热件（8）；顶架（3）的下侧四周边沿安装有若干个加热件（8）；底座（1）的中部固接有安装盘（5）；安装盘（5）的内部通过若干个连接板（51）固接有一个环形架（52）；安装盘（5）的中部安装有电动转盘（6）；安装盘（5）与环形架（52）之间连接有旋转机构；旋转机构间歇式带动其上侧连接的若干个均胶组件旋转，底座（1）的左侧连接有涂胶组件，涂胶组件逐个对均胶组件上放置的晶圆滴加光刻胶；电动转盘（6）的转动部带动齿环（61）转动期间，升降机构（2）带动顶架（3）下侧设有的若干个防溅组件，分别下压相应的一个均胶组件，让齿环（61）同步带动各个均胶组件及其携带的晶圆旋转开始匀胶工作，防溅组件收集旋转期间飞溅的光刻胶；底座（1）的上侧开设有若干个开槽（11），开槽（11）各上下对齐一个防溅组件。2.根据权利要求1所述的一种热处理均匀的涂胶显影机，其特征在于：旋转机构包括有电动转环（71）和环形滑块（72）；安装盘（5）的上侧连接有电动转环（71）；环形架（52）的上侧滑动连接有环形滑块（72）；电动转环（71）和环形滑块（72）均连接所有均胶组件。3.根据权利要求2所述的一种热处理均匀的涂胶显影机，其特征在于：均胶组件包括有固定块（101）、衬套（102）、花键轴（103）、托盘（104）、凸块（105）、滚珠（106）、第二弹簧件（107）、直齿轮（108）和热电偶（110）；电动转环（71）与环形滑块（72）之间固接有固定块（101）；固定块（101）的中部转动连接有衬套（102）；衬套（102）的内部连接有花键轴（103）；花键轴（103）的上端固接有托盘（104）；环绕托盘（104）的边沿滑动连接有若干个滑杆（1041）；每个滑杆（1041）的外端各固接有一个凸块（105）；每个凸块（10...

【专利技术属性】
技术研发人员：田英干，田晨阳，
申请(专利权)人：天霖张家港电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：