一种化学机械研磨机台，包括一研磨台，其沿一方向旋转。一研磨垫，其设于研磨台上。一晶片，其置于研磨垫上，此晶片具有背面与正面，而此晶片的正面与研磨垫相接触。一分送管，其置于研磨垫上方，用以输送研浆至研磨垫上。以及一滚筒，其置于研磨垫上方，...

一种化学机械研磨机台，有一履带式调节刷，其至少包括：一长轴主体结构；一履带，其上分布有多个硬颗粒及多个滚轮，履带包覆于长轴主体外侧，以一固定速率转动，滚轮轴向均平行排列，其均位于履带内侧且与履带相接触，滚轮由履带带着转动，在履带上还有多...

一种化学机械研磨机台，包括多个研磨台，呈同心圆环状配置，彼此以一间距相邻，设于旋转座上，并以同一方向旋转；在各研磨台上，装有形状相符的研磨垫；以及一分送管，置于研磨垫上方，分送管未与研磨垫相接触，分送管包括分送管柄与分送管面，分送管面上...

一种化学机械研磨装置，可应用于一化学研磨机台，此机台包括以固定方向旋转的一研磨台，且位于该研磨台上具有一研磨垫，该化学机械研磨装置至少包括：一第一调节刷、一第二调节刷以及一第三调节刷，通过三组调节刷的研磨可以将研磨垫磨平并且清洗干净，上...

一种研浆分配系统及研浆供给方法，该系统包括一第一供给站、一第二供给站、一第一回路、一第二回路、一第一阀装置以及一第二阀装置。第一回路选择性地连接于第一供给站及第二供给站，第二回路选择性地连接于第一供给站及第二供给站，第一阀装置将该第一回...

本发明揭露一种适于清洁一反应室内部表面的方法，且本发明对于将化学气相沉积室的内部表面上的氮化硅以及氧化硅残余物移除特别有效。该方法包括将三氟化氮气体与氧化亚氮气体于一等离子体中反应以产生一氧化氮与氟自由基；而由于自氧化亚氮所产生的一氧化...

一种清洁系统，适用于清洁一晶片，包括一第一滚轮座、一第一夹持滚轮、一第二滚轮座、一第二夹持滚轮、一感测夹持滚轮及一清洁组件。第一夹持滚轮连接于第一滚轮座，并具有一第一环形凹槽。第二滚轮座与第一滚轮座相对。第二夹持滚轮连接于第二滚轮座，并...

本发明是有关于一种废气处理设备，其包括一过滤装置，该过滤装置具有一滤材；一增湿液供应装置，以提供一增湿液附着于该过滤装置的该滤材；以及一气体抽送装置，该气体抽送装置连设于该过滤装置之后或之前，以抽送待过滤及待处理的气体通过该滤材。此设备...

本发明提供一种气体洁净处理设备及含悬浮分子污染物的气体的处理方法，该气体洁净处理设备包括：气体输入导管，其将含悬浮分子污染物的气体导入辐射腔；辐射源，其设置于该辐射腔，用以分解该辐射腔中含悬浮分子污染物的气体；小分子过滤膜，其连接该辐射...