本技术公开了一种涂胶显影机的涂胶装置，涉及半导体芯片技术领域，包括显影机本体，所述显影机本体的内部固定安装有安装板，所述安装板的内部开设有两个滑槽，两个所述滑槽的内部分别滑动安装有第一滑块和第二滑块，第一滑块和第二滑块的一侧均固定安装有...

本技术公开了一种光刻机用晶圆片匀胶装置，涉及晶圆片光刻技术领域，包括箱体，所述箱体的顶部转动连接有盖板，所述盖板的底部固定安装有卡块，且卡块插入到箱体的内部并与其转动连接，所述盖板的内部转动连接有转盘，所述转盘的底部两侧固定安装有刮板，...

本实用新型公开了一种光刻机用陶瓷吸盘，涉及光刻机技术领域，包括陶瓷盘和底座，所述陶瓷盘的内部开设有四个相对应的第一转动槽，所述第一转动槽的内部转动连接有转动旋钮，所述陶瓷盘的内部且位于第一转动槽的一侧开设有第二转动槽，所述第一转动槽的底...

本实用新型涉及清洁装置技术领域，且公开了一种涂胶显影机清洁装置，包括清洁箱和显影机涂胶显影硅片，所述显影机涂胶显影硅片设置在清洁箱的内部，所述清洁箱的内部设有清洁机构和定位机构，所述清洁箱左侧的下方设有排水口。本实用新型通过设有固定框和...

本发明公开了一种半导体加工用清洗装置，包括底座、烘干箱和固定盒，所述底座的顶部安装有烘干箱，所述烘干箱的一侧安装有出风口，所述烘干箱的另一侧安装有固定盒，且固定盒的一侧贯穿烘干箱的内壁，所述底座的顶部安装有固定杆，所述固定杆的顶部安装有...

一种反应腔装置及其工作方法，反应腔装置包括：反应腔主体；位于所述反应腔主体内的晶圆承载平台，所述晶圆承载平台的表面适于放置晶圆；环绕所述晶圆承载平台的缓冲环，所述缓冲环适于延长反应源粒子沿着晶圆表面向外横向运动的路径。所述反应腔装置能够...

一种缓冲腔、晶圆传送系统及其工作方法，缓冲腔包括：位于第一缓冲腔室主体中的若干层第一冷却盘，第一冷却盘包括第一晶圆接触区；位于第一晶圆接触区侧部且贯穿第一冷却盘的第一位移口；第一升降单元，第一升降单元包括位于第一支撑组件，第一支撑组件适...

一种腔内晶圆寻心系统及其工作方法，腔内晶圆寻心系统包括：主体腔；位于所述主体腔内的晶圆支撑平台；位于所述晶圆支撑平台侧部且贯穿所述主体腔的底壁的若干位移孔；分别位于所述位移孔中的顶针，所述顶针包括顶针本体和限位部；位于所述主体腔的底部的...

一种反应腔装置及其工作方法，反应腔装置包括：反应腔主体；位于所述反应腔主体内的晶圆夹持平台，所述晶圆夹持平台的表面适于放置晶圆；贯穿所述晶圆夹持平台的若干位移孔；分别位于所述位移孔中的顶针，所述顶针的顶头设置有测温探头，所述顶针适于在所...