本实用新型专利技术涉及清洁装置技术领域，且公开了一种涂胶显影机清洁装置，包括清洁箱和显影机涂胶显影硅片，所述显影机涂胶显影硅片设置在清洁箱的内部，所述清洁箱的内部设有清洁机构和定位机构，所述清洁箱左侧的下方设有排水口。本实用新型专利技术通过设有固定框和定位框的设置，可以对显影机涂胶显影硅片的上方和底部进行初步限位，并通过螺杆、推板、夹板、弹性气囊、导向杆、导向块和限位槽的配合，可将显影机涂胶显影硅片两侧的上方夹持在两个夹板之间，增加显影机涂胶显影硅片在喷淋清洗时的稳定性，并通过弹性气囊的弹性，可以减缓两个夹板夹持显影机涂胶显影硅片时的力度，防止两个夹板夹持的力度过大，对显影机涂胶显影硅片造成损坏的情况发生。的情况发生。的情况发生。
【技术实现步骤摘要】
一种涂胶显影机清洁装置
[0001]本技术涉及清洁装置
，更具体地涉及一种涂胶显影机清洁装置。
技术介绍
[0002]涂胶显影机是在光刻工序中和光刻机配套使用的机器，主要起到涂胶、烘烤和显影的作用。涂胶显影设备是集成电路生产过程中不可或缺的设备，能够直接影响到光刻工序中曝光图案的形成。涂胶显影设备主要应用在晶圆生产中的前道EUV光刻中，以及后道的封测和LED制造中，在晶圆生产中起到重要作用。
[0003]显影是指用还原剂把软片或印版上经过曝光形成的潜影显现出来的过程，其中涂胶显影机上盖的涂胶显影硅片进行清洁时，通常是由两组喷淋管向涂胶显影硅片正反面喷淋清水，以除去附着在涂胶显影硅片上的显影生成物和多余的显影液，但在对显影机涂胶显影硅片进行清洁时，不便于对涂胶显影硅片进行定位，由于在喷淋清洗时会产生一定的水压，使得在清洗时显影机涂胶显影硅片不够平稳，容易发生位置改变，进而影响清洗的效果。
技术实现思路
[0004]为了克服现有技术的上述缺陷，本技术提供了一种涂胶显影机清洁装置，以解决上述
技术介绍
中存在的问题。
[0005]本技术提供如下技术方案：一种涂胶显影机清洁装置，包括清洁箱和显影机涂胶显影硅片，所述显影机涂胶显影硅片设置在清洁箱的内部，所述清洁箱的内部设有清洁机构和定位机构，所述清洁箱左侧的下方设有排水口。
[0006]所述清洁机构包括有清洁框，所述清洁框设置在清洁箱的内腔，所述显影机涂胶显影硅片的外壁位于清洁框的内部，所述清洁框内壁的两侧对称固定连接有多个清理毛刷，所述清洁框的内壁开设有多个喷水口，所述清洁框顶部的两侧设有同步电动伸缩杆。
[0007]所述定位机构包括有固定框，所述固定框设置在清洁箱内腔的上方，所述显影机涂胶显影硅片外壁的上方位于固定框的内部，所述固定框内腔的两侧对称设有夹板，所述夹板的数量为两个，两个所述夹板的一侧均活动套接有推板，两个所述夹板内腔的一侧均固定连接有多个弹性气囊，所述弹性气囊的外壁固定连接在推板的一侧。
[0008]进一步的，所述清洁箱右侧的下方固定连接有水箱，所述水箱的内部设有清洗液，所述水箱的顶部固定连接有一号导管，所述一号导管的底端延伸至水箱内腔的下方，所述水箱的顶部安装有水泵，所述一号导管的顶端固定连接在水泵的抽水端。
[0009]进一步的，所述水泵的排水端固定连接有二号导管，所述二号导管的一端固定连接有波纹伸缩软管，所述波纹伸缩软管的一端固定连接在清洁框顶部的右侧，所述清洁框顶部的右侧开设有注水口，所述波纹伸缩软管的一端与注水口的内部相通。
[0010]进一步的，所述清洁框的内部开设有导流通道，所述注水口的一端与导流通道的内部相通，多个所述喷水口的一端与导流通道的内腔相通。
[0011]进一步的，所述清洁箱顶部的两侧固定连接有支撑架，所述支撑架的数量为两个，所述同步电动伸缩杆的数量为两个，两个所述同步电动伸缩杆的伸缩端固定连接在清洁框顶部的两侧，两个所述同步电动伸缩杆的顶端固定安装在两个支撑架底部的一侧。
[0012]进一步的，所述固定框的两侧螺纹套接有螺杆，所述螺杆的一端延伸至固定框的内腔且转动连接在推板的一侧，所述固定框的两侧活动套接有导向杆，所述导向杆的一端固定连接在推板的一侧。
[0013]进一步的，所述夹板内壁的顶部与底部对称开设有限位槽，所述推板的顶部与底部的一侧对称固定连接有导向块，所述导向块的外壁滑动连接在限位槽的内部，所述清洁箱内腔底部的中部固定连接有定位罩，所述显影机涂胶显影硅片的底端设置在定位罩的内部。
[0014]进一步的，所述固定框顶部的两侧固定连接有安装架，所述安装架固定连接在清洁箱内部的上方，所述固定框的外壁开设有多个清洗通口。
[0015]本技术的技术效果和优点：
[0016]1.本技术通过设有固定框和定位框的设置，可以对显影机涂胶显影硅片的上方和底部进行初步限位，并通过螺杆、推板、夹板、弹性气囊、导向杆、导向块和限位槽的配合，可将显影机涂胶显影硅片两侧的上方夹持在两个夹板之间，使得便于对显影机涂胶显影硅片进行固定，增加显影机涂胶显影硅片在喷淋清洗时的稳定性，并通过弹性气囊的弹性，可以减缓两个夹板夹持显影机涂胶显影硅片时的力度，防止两个夹板夹持的力度过大，对显影机涂胶显影硅片造成损坏的情况发生。
[0017]2.本技术通过设有清洁框、水箱、一号导管、水泵、二号导管、波纹伸缩软管、注水口、导流通道和喷水口的配合，便于抽出水箱内部的清洗液，并通过多个喷水口均匀的排在显影机涂胶显影硅片的外壁，便于对显影机涂胶显影硅片进行清洗，同时通过支撑架和同步电动伸缩杆的配合，便于带动清洁框垂直升降移动，使得将清洗液喷淋在显影硅片的外部，对显影硅片进行均匀的清洗，同时清洁框带动清理毛刷对显影硅片定位外壁进行洗刷，使得便于快速对显影硅片进行清洁。
附图说明
[0018]图1为本技术的整体结构示意图。
[0019]图2为本技术的清洁框结构剖视示意图。
[0020]图3为本技术的清洁框俯视结构剖视示意图。
[0021]图4为本技术的固定框结构剖视示意图。
[0022]图5为本技术的夹板结构剖视示意图。
[0023]附图标记为：1、清洁箱；2、清洁机构；3、定位机构；4、显影机涂胶显影硅片；5、排水口；21、清洁框；22、水箱；23、一号导管；24、水泵；25、二号导管；26、波纹伸缩软管；27、支撑架；28、同步电动伸缩杆；211、注水口；212、导流通道；213、喷水口；214、清理毛刷；31、固定框；311、安装架；32、螺杆；33、推板；34、夹板；35、弹性气囊；36、导向杆；37、定位罩；38、导向块；39、限位槽。
具体实施方式
[0024]下面将结合本技术中的附图，对本技术中的技术方案进行清楚、完整地描述，另外，在以下的实施方式中记载的各结构的形态只不过是例示，本技术所涉及的一种涂胶显影机清洁装置并不限定于在以下的实施方式中记载的各结构，在本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施方式都属于本技术保护的范围。
[0025]实施例一：
[0026]如图1
‑
5所示，一种涂胶显影机清洁装置，包括清洁箱1和显影机涂胶显影硅片4，显影机涂胶显影硅片4设置在清洁箱1的内部，清洁箱1的内部设有清洁机构2和定位机构3，清洁箱1左侧的下方设有排水口5，定位机构3包括有固定框31，固定框31设置在清洁箱1内腔的上方，显影机涂胶显影硅片4外壁的上方位于固定框31的内部，固定框31内腔的两侧对称设有夹板34，夹板34的数量为两个，两个夹板34的一侧均活动套接有推板33，两个夹板34内腔的一侧均固定连接有多个弹性气囊35，弹性气囊35的外壁固定连接在推板33的一侧，固定框31的两侧螺纹套接有螺杆32，螺杆32的一端延伸至固定框31的内腔且转动连接在推板33的一侧，固定框31的两侧活本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种涂胶显影机清洁装置，包括清洁箱(1)和显影机涂胶显影硅片(4)，其特征在于，所述显影机涂胶显影硅片(4)设置在清洁箱(1)的内部，所述清洁箱(1)的内部设有清洁机构(2)和定位机构(3)，所述清洁箱(1)左侧的下方设有排水口(5)；所述清洁机构(2)包括有清洁框(21)，所述清洁框(21)设置在清洁箱(1)的内腔，所述显影机涂胶显影硅片(4)的外壁位于清洁框(21)的内部，所述清洁框(21)内壁的两侧对称固定连接有多个清理毛刷(214)，所述清洁框(21)的内壁开设有多个喷水口(213)，所述清洁框(21)顶部的两侧设有同步电动伸缩杆(28)；所述定位机构(3)包括有固定框(31)，所述固定框(31)设置在清洁箱(1)内腔的上方，所述显影机涂胶显影硅片(4)外壁的上方位于固定框(31)的内部，所述固定框(31)内腔的两侧对称设有夹板(34)，所述夹板(34)的数量为两个，两个所述夹板(34)的一侧均活动套接有推板(33)，两个所述夹板(34)内腔的一侧均固定连接有多个弹性气囊(35)，所述弹性气囊(35)的外壁固定连接在推板(33)的一侧。2.根据权利要求1所述的一种涂胶显影机清洁装置，其特征在于：所述清洁箱(1)右侧的下方固定连接有水箱(22)，所述水箱(22)的内部设有清洗液，所述水箱(22)的顶部固定连接有一号导管(23)，所述一号导管(23)的底端延伸至水箱(22)内腔的下方，所述水箱(22)的顶部安装有水泵(24)，所述一号导管(23)的顶端固定连接在水泵(24)的抽水端。3.根据权利要求2所述的一种涂胶显影机清洁装置，其特征在于：所述水泵(24)的排水端固定连接有二号导管(25)，所述二号导管(25)的一端固定连接有波纹伸缩软管(26)，所述波纹伸缩软管(26)的一端固定连接在清洁框(21)顶部的右侧，所...
【专利技术属性】
技术研发人员：孙晓东，闻杰，
申请(专利权)人：上海讯颖电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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