本发明提供一种离子注入深度监控系统和方法，属于半导体领域，该系统包括：激光发射单元，用于向当前进行离子注入工艺的晶圆表面发射激光，以在所述晶圆表面产生电子空穴对；微波探测单元，用于向所述晶圆的探测区域发射连续微波，并实时获取所述微波的反...

本申请提供了一种抗等离子腐蚀涂层缺陷修复方法。该方法包括：于基体表面形成所述抗等离子腐蚀涂层；采用光致发光光谱检测技术检测该涂层的缺陷，并对缺陷种类及缺陷大小进行分类标记；基于检测到的缺陷种类及缺陷大小，采用激光对各缺陷位置进行定点重熔...

本发明提供一种涂胶显影设备的药液检测系统及方法，属于半导体设备领域，该系统包括依次连接的药液供给端、第一压力调节单元、多级过滤单元、交替供液泵组、第二压力调节单元、终端过滤单元，其中，交替供液泵组包括两个交替工作的供液泵；在药液供给端的...

本申请实施例涉及半导体设备零部件制造技术领域，公开了一种成分连续渐变式涂层及其制备方法，该成分连续渐变式涂层采用喷涂工艺形成，其特征在于，所述成分连续渐变式涂层具有掺入材料和防护材料两种材料组分；随所述成分连续渐变式涂层的厚度累积，所述...

本发明涉及新材料加工技术领域，具体涉及一种半导体刻蚀腔体部件的喷涂装夹机构及其热喷涂加工方法。装夹机构包括装夹手臂、转台及装夹工装，装夹工装具有多条环形阵列分布的夹臂，夹臂上设有固定孔和安装孔，可固定不同规格和形状的工件。针规与固定孔配...

本技术涉及保护等离子喷涂设备技术领域，尤其为一种保护等离子喷涂设备精密水平度和提升操作效率的工装，包括固定架，所述固定架内侧固定安装有升降杆，本技术中，通过设置的一种保护等离子喷涂设备精密水平度和提升操作效率的工装，利用该装置转动电机、...

本申请涉及半导体设备技术领域，提供一种绝缘镀层缺陷检测方法及检测系统，方法包括：将待检测基材的与镀层面相对的导电面与所述下电极接触形成平板电极；将待检测基材的镀层面按照预设间距与上电极相对设置；向上电极施加预设电压，使得上电极能够形成尖...

本申请涉及半导体设备技术领域，提供一种绝缘镀层孔隙率测量方法、设备、存储介质及程序产品，方法包括：提供多个样品基材；获取样品基材在低气压、均匀电场条件下的第一放电电流数据和孔隙率，建立孔隙率与第一放电电流数据相对应的映射表并存储在数据库...

本技术涉及等离子喷涂加粉技术领域，具体为一种防止漏粉的等离子喷涂加粉工装，包括送粉器主体，送粉器主体的内部设有送粉筒，送粉筒的顶端设有加粉筒，加粉筒的顶端设有盖板，加粉筒的内部设有导向板，导向管的外部设有电磁阀，加粉筒的内部设有容纳腔，...

本技术涉及等离子喷涂技术领域，具体为一种局部等离子喷涂遮护工装，包括喷头和遮护套，所述遮护套的顶部前后端安装有连接板，所述连接板的顶部安装有固定挡板，所述固定挡板相靠近的一侧安装有滑轨，所述固定挡板相靠近的一侧连接有活动挡板，本技术中，...

本技术涉及等离子喷涂技术领域，尤其为一种圆形腔体工件等离子喷涂遮护旋转工作台，包括整体装置主体，所述整体装置主体包括底座与工作台，其中底座位于整体装置主体的底部，其中工作台位于整体装置主体的顶部，所述底座的外围顶部安装有工作台，所述工作...

本技术涉及运输小车技术领域，具体为一种等离子喷涂工件运输小车，包括推车架，所述推车架的顶部表面分别开设有一号凹槽和二号凹槽，所述一号凹槽的前侧内壁固定安装有一号液压杆，所述一号液压杆的伸缩端固定安装有一号移动支块，所述一号移动支块的顶部...

本技术涉及机械工装设备技术领域，尤其为一种等离子喷枪和机械手的精确连接装置，包括等离子喷枪主体，所述等离子喷枪主体的一端通过螺纹槽连接有第一螺栓，所述第一螺栓的外侧设有固定板，所述固定板的一端固定安装有安装座，所述安装座的基面开设有滑槽...

本发明涉及等离子喷涂技术领域，尤其为一种等离子喷涂氧化钇改善均匀度行进方法，包括以下步骤：S1，对喷涂的零部件进行清洗干燥，清洗干燥完成后，对零部件喷涂以外的区域进行遮挡保护；S2，根据点云模型获得零部件的三维喷涂规划轨迹，并将得到的规...

本发明涉及等离子喷涂技术领域，尤其为一种等离子喷涂氧化钇改善粗糙度行进方法，包括以下步骤：S1，对喷涂的零部件进行清洗干燥，清洗干燥完成后，对零部件喷涂以外的区域进行遮挡保护，对需要喷涂的区域进行喷砂处理，处理完成后，喷涂机器人对零部件...

本实用新型涉及等离子喷涂风冷技术领域，尤其为一种等离子喷涂风冷装置，包括箱体，所述箱体的底部四个拐角处均安装有滑轮，所述箱体的外部较长一侧面顶部两端对称安装有散热网，所述箱体的外部较窄两侧面上对称安装有连接座，所述连接座的内侧均安装有引...

本实用新型涉及等离子喷涂装置技术领域，具体为一种等离子喷涂升降台，包括底座，所述底座的顶部中间位置连接有内连接柱，所述内连接柱的外端延伸至其上方连接有升降台，在所述升降台的左右两侧均安装有用于调节高度的升降结构，在所述升降台的内部设置有...

本实用新型涉及材料加工技术领域，尤其为一种等离子喷涂阴极结构，包括支撑体主体，所述支撑体主体的内侧开设有通孔，所述通孔的内侧开设有限位槽，所述限位槽的内侧设有第一钨头段，所述第一钨头段的顶端设有第二钨头段，所述第二钨头段的顶端设有第三钨...

本实用新型涉及反应釜设备技术领域，具体为一种蒸馏分离反应釜装置，包括釜体，釜体的外部设有支撑桶，支撑桶连接原料桶，釜体的顶部设有盖板，盖板的顶部设有电机，电机的输出端连接第一齿轮，第一齿轮的一侧设有第二齿轮，第一齿轮、第二齿轮的底部均设...

本实用新型涉及等离子喷涂技术领域，具体为一种等离子喷涂送粉机构，包括等离子喷涂嘴和送粉机构主体，所述等离子喷涂嘴的顶部设置有送粉机构主体，且送粉机构主体包括有贯通连接在等离子喷涂嘴顶部的送粉管，同时送粉管远离等离子喷涂嘴的一端贯通安装有...