本发明公开了一种可调焦式单色激光干涉终点检测装置，包括机体，可移动的设于工艺腔室的上方；连接件，设于机体的底部，且连接件具有连接通道；定位件，设于连接件并置于连接通道内；调焦镜组，包括替换壳体和透镜组；替换壳体可拆卸的设于定位件，并包括...

本申请提供了一种工艺参数优化方法、系统、原位在线检测装置、计算机设备及存储介质，本申请获取工艺参数和预设窗口内的测量数据；基于测量数据，提取表征晶圆表面生长物理状态的特征参数；将特征参数和工艺参数输入预训练的预测模型中，得到表征生长状态...

本申请提供了一种外延生长控制方法、装置、计算机设备及存储介质，本申请采用超连续谱激光光源对待测晶圆和参考照射面的表面进行照射获取反射光信号；对反射光信号进行同步扫描与滤波，以输出两路窄带光；将两路窄带光转换为电信号后进行差分运算，根据差...

本发明公开了一种晶圆刻蚀终点的激光干涉检测装置，包括承载装置，用于承载晶圆；检测单元，与所述承载装置具有间隔，用于发射检测光线，所述检测光线聚焦至所述晶圆的表面的待检测区，以检测所述晶圆的刻蚀终点位置驱动单元，包括驱动部和调节部，所述调...

本申请提供了一种温度补偿方法、系统、检测设备、计算机设备及存储介质，本申请获取目标元件经过硬件补偿后的测量数据；采用预先标定的蒙特卡洛增量模型处理测量数据，计算得到各样本轨迹在当前步长的残漂取值；基于各残漂取值重建真实输出数据，得到候选...

本发明公开了一种超声气体浓度检测设备，涉及气体浓度检测设备技术领域，包括：检测本体；换能器组件，包括压电单元与金属耦合层，压电单元受电信号产生机械振动，金属耦合层贴合压电单元表面向腔内气体介质传递振动以生成超声波；变换器组件，包括发射端...

本申请提供了一种光学狭缝安装位置的预标定方法、自动调节方法及装置，预标定方法包括：搭建动力系统；搭建光路系统；将光学狭缝安装在安装槽内并靠近驱动机构的一侧；控制驱动机构运行，以推动光学狭缝在安装槽内朝复位机构移动；探测器实时接收穿过光学...

本发明公开了一种刻蚀终点的图像检测方法，用于刻蚀终点检测，所述图像检测方法包括接收晶圆的输出图像；对所述输出图像的每个像素点进行检测，建立联合掩膜M(x,y)；根据联合掩膜M(x,y)建立检测区域，得到多个待检测终点图像；建立灰度值和时...

本发明提供了一种多区域原位在线检测方法及其装置，多区域原位在线检测方法包括：外延工艺前，将多个探头与外延生长设备内的托盘相对设置；外延工艺过程中，采用多个所述探头获取所述托盘上晶圆表面的反射信号和红外辐射信号；将反射信号和红外辐射信号进...

本申请提供了一种终点检测系统在线校准方法及其装置，其中所述方法包括通过终点检测系统获取刻蚀或薄膜设备腔体内第一光谱信号数据；对第一光谱信号数据进行处理，得到第一有效数据。将第一有效数据与标准数据库中预设物质的特征峰值对比，得到波长误差；...

本发明属于半导体制造领域，提供了一种基于神经网络的外延生长率计算方法及系统，其中方法包括：将不同外延生长工艺下的反射率数据进行标注和预处理得到原始数据集，反射周期数映射模型根据原始数据集进行第一路权重调制和验证得到已训练的反射周期数映射...

本发明公开了一种双光束激光干涉检测装置及检测方法，用于半导体刻蚀和薄膜工艺终点检测，双光束激光干涉检测装置包括成像单元、检测单元和参考单元；检测单元包括第一发射件，用于发射检测光线，检测光线经由成像单元聚焦至晶圆；第一探测器输出第一反射...

本技术提供了一种光谱吸收型气体浓度检测装置，包括光谱发射模组、光谱接收模组和气室；气室具有相对设置的入射端和出射端，入射端通过第一快接组件与光谱发射模组连接，出射端通过第二快接组件与光谱接收模组连接。当装置的气室被污染后，需停机维修，可...

本技术公开了一种基于超声飞行时间的高精度气体浓度监测装置，水平或竖直安装在机台气柜中MFC旁侧对气体浓度进行实时监测。装置结构包括传感器和控制器，其中传感器包括：气体管道、气体腔室、超声腔室、密封环和温度控制组件。通过超声换能器在顺流和...

本技术提供了一种高精度紫外短波段的终点检测装置，用于对机台腔室内刻蚀和薄膜过程所产生的光信号进行检测，包括；信号收集模块和处理模块，所述信号收集模块和处理模块通过信号线连接；所述信号收集模块包括探头和光纤，设于所述机台腔室一侧用于获取机...

本发明提供了一种光谱模组、刻蚀终点检测装置及方法，光谱模组包括壳体，壳体上设置有入光口，壳体内设置有光阑、准直镜、光栅、聚焦镜及探测器，入光口用于连接外接光纤或者使得光进入壳体的内部，光阑用于接收入光口处的光，准直镜用于反射来自光阑的光...

本发明公开了一种激光干涉终点检测的自动对准方法，包括以下步骤：将晶圆表面照亮，将激光光束照射至晶圆表面；接收所述晶圆表面被照亮区域形成的输出图像S1，所述输出图像S1包含晶圆上目标图案形成的目标图像Sg及晶圆反射的激光光斑图像L；计算所...

本发明提供了一种光电探测器增益调控方法、光学探测模组以及原位检测装置，其中，光电探测器增益调控方法包括获取所述光电探测器的设定增益值和所述光电探测器所在环境的环境温度；将所述环境温度和所述设定增益值输入增益调控模型，以输出反偏电压；将所...

本技术提供了一种多通道光学发射光谱终点检测设备，包括：多个信号采集模组，多个信号采集模组分别与多个刻蚀腔体对应连接，多个信号采集模组分别对应采集多个刻蚀腔体中的光信号，再将其传输至多个光谱模组对应接收所述光信号并生成对应的光谱数据；信号...

本发明公开了一种连续变焦激光干涉终点检测系统，用于半导体刻蚀和薄膜工艺终点检测，包括：照明模块、激光干涉模块和成像模块；激光干涉模块包括激光器、分光片、分束立方、镜头和探测器，所述激光器发出的激光光束通过分光片、分束立方和镜头后聚焦至晶...