本发明的金属箔粘贴层叠体包括至少一层聚酰亚胺层、至少一层绝缘性材料层和至少一层金属箔。该聚酰亚胺层由具有通式Ⅰ所示重复单元的聚酰亚胺形成，具有良好的热压接性、溶剂溶解性和耐热性，而且是低介电性的，含有该聚酰亚胺层的金属箔粘贴层叠体适于作...

本发明提供一种在利用半添加剂法形成印制电路板的铜布线的过程中，能够抑制布线宽度的减少以及底割，而且能够在面内形成均匀的布线宽度的技术。在使用半添加剂法制造具有线路／间隔为５０μｍ／５０μｍ以下的微细布线的印制电路板的方法中，使得晶种层的...

本发明涉及柔性贴金属箔层合物，它包含由具有用右述通式，（式中Ｒ和Φ如说明书中所定义）表示的重复单元的聚酰亚胺组成的至少１种聚酰亚胺层和至少１种金属层。所述聚酰亚胺具有溶剂可溶性，耐热性和粘接性好，而且在高频率区域也显示低介电常数。

本发明提供在半添加法印刷布线基板的制造中对作为布线部位的电镀铜选择性地对作为种层的化学铜镀进行蚀刻的蚀刻方法以及在该方法中使用的铜蚀刻液。本发明涉及如下所述蚀刻除去方法以及选择蚀刻液：在半添加法印刷布线基板的制造中，在绝缘树脂层上形成化...

本发明的目的是提供一种可防止因电磁波的反射等而导致的通信障碍、可实现薄型化和轻量化、且具有宽频带衰减特性的电波吸收体。本发明的电波吸收体的特征是：具有依次层叠了由导电体构成的格状导体层（１１）；第１介质层（１２）；具有规定范围的表面电阻...

本发明提供了覆金属箔白色层压体，所述覆金属箔白色层压体中的白色树脂层为与至少一层金属层粘结的粘结层，该白色树脂层是由将白色颜料与具有由特定的化学结构式所示的重复单元的聚酰亚胺混合得到的树脂组合物形成。通过使用反射率以及白色度高且耐光性良...

包含铜箔和含有嵌段共聚物聚酰亚胺和马来酰亚胺化合物的树脂层（该树脂层在铜箔的一个表面上形成）的树脂复合铜箔，其制造方法，使用树脂复合铜箔的覆铜层压板，使用覆铜层压板的印刷线路板制造方法，和通过上述方法获得的印刷线路板。

本发明提供了一种含有氧化剂和唑系化合物、且ｐＨ为１－７的用于除去配线基板的残渣的组合物，以及使用该组合物除去干刻后的配线基板的残渣的配线基板的洗涤方法。通过使用本发明的用于除去残渣的组合物，在制备配线基板时不会腐蚀腐蚀性高的钛或钛合金，...

本发明提供印刷线路板用预浸料和层压板，其在不使用卤化合物、磷化合物作为阻燃剂的情况下，也具有高的阻燃性，面方向的热膨胀系数小。本发明提供包含特定结构的氰酸酯树脂、非卤系环氧树脂、硅酮橡胶粉末及无机填充材料的树脂组合物以及包含该树脂组合物...

一种包括用具有分子式（１）的重复单元的脂肪族聚酰亚胺制成的基片和一种透明导电薄膜层的透明导电膜，其中透明导电薄膜层在基片上提供的，其中Ｒ是含有４～３９个碳原子的四价脂肪族基团，Φ是含有１～３９个碳原子的二价脂肪族基团或含有６～３９个碳原...

用作背面投影屏的菲涅耳透镜片和双凸透镜片的透镜片，它包括塑料基材和位于塑料基材上的透镜元件。塑料基材至少包括第一表面层、中间层和第二表面层。第一表面层和第二表面层每个的饱和吸水率高于中间层的饱和吸水率。

本发明涉及的氢制备装置，包括自热重整催化剂层、用于供给甲醇及水蒸气的混合物的导管、具有流量调节器的用于供给氧的导管、设置在该自热重整催化剂层的下游的氢穿透膜。该氢制备装置具有温度测定器，用于测定从该自热重整催化剂层流出的含氢气体的温度。...

一种碳化产品的生产方法，其特征在于包括以下步骤（ａ）－（ｂ）：　　　　（ａ）将金属或陶瓷制成的多个颗粒状物质加入到一个温度保持在４００℃或更高和７００℃或更低的热处理装置中，并让它们在其中移动，并且将碳化产品前体装入上述装置中和进行热处...

本发明提供了一种在含有一氧化二氮（Ｎ↓［２］Ｏ）的液体中进行物质氧化的方法和所使用的氧化设备。在该方法中，物质的氧化是使物质存在于含一氧化二氮（Ｎ↓［２］Ｏ）的溶液中，并用波长为２４０纳米或更低的光进行照射。

本发明涉及一种采用液相生长法的ＺｎＯ单晶的制造方法，其特征在于，使作为溶质的ＺｎＯ与作为溶剂的ＰｂＦ↓［２］及ＰｂＯ或与作为溶剂的ＰｂＯ及Ｂｉ↓［２］Ｏ↓［３］混合熔解，然后，使种晶或基板与该熔液直接接触，从而使ＺｎＯ单晶在种晶上或基板...

一种光刻胶洗涤组合物包括０．００１—０．５％重量氟化合物，５０—９９％重量醚溶剂和余量是水。由于含有这种特定含量范围的醚溶剂，该光刻胶洗涤组合物在冲洗步骤中用水稀释时表现出减小腐蚀性并可以完全去除光刻胶残余物而不腐蚀电路材料和基片材料。

公开了一种用于透明导电薄膜的湿法蚀刻剂组合物，是包含草酸和聚氧乙烯烷基醚硫酸盐和／或聚氧乙烯烷基苯基醚硫酸盐的水溶液。使用上述的蚀刻剂组合物能够在温和的条件下蚀刻无定形ＩＴＯ，而且一点也不产生蚀刻残渣。

本发明的光刻胶剥离组合物含有至少一种由如下通式１表示的氧甲基胺化合物：其中Ｒ＃＋［１］至Ｒ＃＋［３］如说明书中所定义。对于通式１的氧甲基胺化合物，由如下通式７表示的化合物是一种新的化合物：其中Ｒ＃＋［２］至Ｒ＃＋［５］以及ｎ如说明书中所...

一种防蚀显影组合物，该组合物包括含有１－１０％重量的有机碱。１－１０％重量的糖化合物和１－１０％重量的多元醇的水溶液。

本发明涉及铝／钼层叠膜的蚀刻方法，用含有磷酸、硝酸、有机酸和阳离子生成成分的水溶液构成的湿法蚀刻液，对含有至少一种铝系金属膜和至少一种钼系高熔点金属膜的层叠膜进行蚀刻。通过使湿法蚀刻液中的水分含量维持在１０～３０重量％，可以将层叠膜湿法...