本实用新型公开了一种蚀刻加工设备，一种蚀刻加工设备，包括用于带动原件移动与喷洒蚀刻液的传送装置，所述传送装置一侧设置有用于翻转原件便于进行背面加工的翻转装置，所述翻转装置底部设置有用于挤压锁定原件防止其滑落的固定装置，所述翻转装置一侧设...

本实用新型公开了一种取样试管清洗槽，涉及试管清洗技术领域。本实用新型包括清洗槽本体，清洗槽本体内滑动配合有试管架，洗槽本体相对两侧均装设有两个第二电动推杆，四个第二电动推杆的上端装设有盖板，盖板上端装设有电机，电机输出端装设有第一齿轮，...

本实用新型公开了一种化工仪器清理用超声波清洗机，包括超声波清洗机体，所述超声波清洗机体的外侧后方设置有连接架，所述连接架的内侧壁安装有连接轴，所述连接轴的外侧壁设置有盖板，所述盖板的内侧壁安装有杀菌机构，所述盖板的外侧壁设置有显示面板，...

本实用新型提供一种电镜清洗机，属于清洗机技术领域。包括清洗室，清洗室侧上壁对称设有支撑块，支撑块顶部设有C型支架，C型支架两侧内壁处对称设有滑动槽，滑动槽内设有丝杆，丝杆端部连接有带轮，其中一个带轮顶部连接有第一电机，清洗室上方设有密封...

本实用新型提供一种带吹扫装置的等离子清洗机，属于等离子清洗机技术领域。包括底座，底座顶部对称设有支撑架，支撑架之间内上壁处设有安装板，安装板侧壁上设有等离子清洗机主体，底座顶部设有吹扫装置，吹扫装置包括齿条，齿条上方设有C型支架，C型支...

本实用新型公开了一种膜厚均匀的溅射镀膜机，包括：溅射镀膜机本体、马达和微型伺服电机，所述溅射镀膜机本体的左端固定安装有真空泵，所述溅射镀膜机本体的内端滑动安装有底座，所述底座的上端转动安装有靶材，所述靶材的内端设置有磁条，所述马达固定安...

本发明涉及电路印刷技术领域，提出了等离子体蚀刻机，包括开闭板，开闭板和机体可拆卸连接；进气系统，进气系统包括盖板、进气管和气体净化器，盖板通过多个进气孔和刻蚀腔体连通，气体净化器和进气管连通，气体净化器包括净化箱和多个吸附管，净化箱可拆...

本发明公开了基于电感耦合等离子技术连续流处理导电粉体材料的装置，包括ICP辉光放电系统、真空系统、传动输送搅拌系统、上送与下落储料系统、冷却系统和控制系统；所述控制系统分别连接ICP辉光放电系统、真空系统、传动输送搅拌系统、上送与下落储...

本实用新型公开了基于电感耦合等离子技术连续流处理导电粉体材料的装置，包括ICP辉光放电系统、真空系统、传动输送搅拌系统、上送与下落储料系统、冷却系统和控制系统；所述控制系统分别连接ICP辉光放电系统、真空系统、传动输送搅拌系统、上送与下...

本发明公开了一种石英舱体等离子清洗装置，涉及等离子清洗技术领域，该清洗装置包括石英舱体、等离子体激发电极板、顶盖体和显示操作控制板；还包括样品安装件、至少一个驱动杆体和悬吊盘体，所述悬吊盘体可拆卸安装在石英舱体端口处，样品安装件设在悬吊...

本发明公开了一种基于真空等离子体技术的生物育种诱变装置，属于太空育种设备技术领域，包括真空腔体，所述真空腔体内部活动装配有旋转支架，真空腔体的内壁一侧设置有测温模块，且所述真空腔体一侧连接有抽气孔、泄压孔和进水蒸汽孔，所述抽气孔、泄压孔...

本实用新型公开了一种化学检测用试管振荡装置，属于化学器具技术领域。一种化学检测用试管振荡装置，包括电机架，所述电机架上固设有电机，所述电机架顶面上方设有转动盘，所述转动盘顶面呈环形等间距设有四个转动装置。本实用新型在放置板内部相对于放置...

本实用新型公开了一种具备快速溶解功能的微波消解仪，包括消解仪本体，所述消解仪本体内腔的底部横向固定连接有支撑板，所述消解仪本体底部的中心处固定连接有第一电机，所述第一电机输出端的顶部贯穿至支撑板的顶部并固定连接有固定座，所述固定座内腔的...

本实用新型涉及水处理和水消毒净化设备技术领域，且公开了一种水处理臭氧机，包括增压舱、舱壁、通气管、电磁阀、冲压杆、冲压板和第二密封垫圈，所述增压舱的内部设置有舱壁，所述舱壁的顶部开设有冲压孔，冲压孔的内壁与冲压杆的外壁卡接，所述冲压杆的...

本实用新型公开了一种化学化工实验室用的废液处理装置，包括外壳，在所述外壳内侧中部安装有酸碱中和装置，在所述酸碱中和装置中部安装有用于混合酸性废液和碱性废液的混合装置，在所述外壳顶部上方左右两侧分别安装一个用于过滤废液中多余油脂的滤油装置...