本发明提供一种可实现紧凑化的气体绝缘开关装置及受变电设备。气体绝缘开关装置包括：母线室（2）；第一绝缘间隔件及第二绝缘间隔件（40d、40e），在第三方向上配置于远离母线室（2）的中心的位置，第一绝缘间隔件对第一断路器的第一固定侧电极进...

金刚石自旋传感器包含金刚石衬底和形成于金刚石衬底上的倾斜面，在倾斜面形成有具有电子自旋的色心，形成于倾斜面的色心中的、色心轴与倾斜面垂直的色心以色心轴不与倾斜面垂直的色心的2倍以上的比率存在。

金刚石自旋传感器包含：金刚石，具有带有电子自旋的色心；以及光波导，传输向金刚石照射的激发光以及从金刚石放射的荧光，在金刚石配置于存在1μGy/h以上的放射线的环境的状态下，通过色心测量环境中的磁场、电场或温度。

一种金刚石薄膜的制造方法，向配置有基材的真空容器内供给含有C、H及O的原料气体，使配置在所述真空容器的内部或外部且具有相互串联电连接的导体组件与电容元件的天线中流动高频电流，由此在所述真空容器内生成电感耦合型等离子体，并且通过使用所生成...

变电系统（1）包括：PVT（11），具有在一次侧从电力系统的输电线（PL）接受一次电压的一次绕组（PW）、以及在二次侧输出比所述一次电压低的二次电压的二次绕组（SW）；第一CT（13），位于比PVT（11）更靠上游且比输电线（PL）更靠...

一种离子源，包括：等离子体生成容器，为具有供离子源气体导入的内部空间且呈长条状的容器，在沿着其长边方向的一个侧壁形成有离子引出口；等离子体生成单元，使所述离子源气体电离而在所述内部空间生成等离子体；以及引出电极系统，设置在等离子体生成容...

本发明提供一种等离子体处理装置，其可在使用多个天线使等离子体稳定的同时对处理室的内部的被处理物进行所需的等离子体处理。等离子体处理装置(1)包括：壳体(2)；多个天线(7)，生成用于在壳体(2)的内部产生等离子体的磁场；至少两个电源(8...

本发明提供一种可适当地对基板的温度进行探测的等离子体处理装置。等离子体处理装置(1)包括天线(7)、高频电源(8)、以及对基板(W)的温度进行探测的至少一个探测部(D)，所述高频电源通过使高频电流的大小周期性地增减而间歇地产生等离子体，...

一种离子源，包括：等离子体生成容器，为具有供离子源气体导入的内部空间的容器，在其一个侧壁形成有离子引出口；等离子体生成单元，使所述离子源气体电离而在所述内部空间生成等离子体，且包括天线以及磁场透射窗，所述天线设置在所述等离子体生成容器的...

一种被膜去除方法，使配置有表面具有峰部与谷部交替排列的峰谷结构的工具的真空容器内产生等离子体，使用所述等离子体进行等离子体处理，由此去除所述工具的表面所形成的被膜，所述被膜去除方法将如下工序切换进行一次以上：高压等离子体处理工序，其中将...

一种等离子体处理装置(100)，使高频电流流经在真空容器(1)的外部设置的天线(2)而在真空容器(1)内产生等离子体，所述等离子体处理装置(100)包括：狭缝板(6)，将形成在真空容器(1)的面向天线(2)的位置的开口(1x)堵塞；介电...

等离子体处理装置100包括：真空容器1；天线2，设置在真空容器1的外部；介电板7，将形成在真空容器1的面向天线2的位置的开口1x堵塞；以及距离调整机构8，对天线2与介电板7的距离进行调整，距离调整机构8具有：倾斜面81a，设置在天线2与...

等离子体处理装置(1)包括：真空容器(2)，在内部收容工件(W)；高频窗(WR)，将高频磁场向真空容器(2)的内部导入；天线(7)，设置成与高频窗(WR)相向，产生高频磁场；旋转工作台(3)，在真空容器(2)的内部进行旋转；以及施加机构...

等离子体处理装置(1)包括：真空容器(2)，在内部收容工件(W)；高频窗(WR)，将高频磁场向真空容器(2)的内部导入；天线(7)，设置成与高频窗(WR)相向，产生高频磁场；以及旋转工作台(3)，供工件(W)载置并进行旋转。另外，等离子...

本发明的目的在于提供一种等离子体处理装置，可通过简单的结构充分地确认处理室内的等离子体状态。等离子体处理装置(1，201)包括：至少一根天线(71～73)；以及多个光接收部(PD1～PD5)，对等离子体生成区域的发光强度进行检测，多个光...

一种等离子体处理装置(1)，包括：真空容器(10)，包括由介电体构成的周壁(10a)，且将供被处理物(20)配置的工作台收容在内部；天线(12)，以能够绕周壁旋转的方式设置在真空容器的外部，产生使真空容器的内部产生等离子体的高频磁场；以...

除膜装置(100)包括：真空容器(1)，收容被处理物(W1)；电极(2)，设置在真空容器(1)，具有第一端(21)、以及配置在被处理物(W1)中所形成的凹部(W2)内的第二端(22)；气体供给机构(4)，从第一端(21)向电极(2)的内...

本发明提供一种等离子体处理装置，其可容易地实现天线的长边方向上的等离子体的密度的均匀化。等离子体处理装置(1)包括真空容器(2)、高频窗(3)及天线部(AP)。天线部(AP)包括天线(7)、第一导体(9a)及第二导体(9b)、对天线(7...

本发明提供一种可实时地掌握被实施等离子体处理的被处理物的状态的等离子体处理装置。等离子体处理装置(1)包括：天线(8)；电源(9)，向天线(8)供给用于产生磁场的高频电流；拍摄部，对处理室的内部进行拍摄；以及控制部。电源(9)通过使高频...

本发明提供一种即便在设置有内侧罩的情况下也可提高维护性的等离子体处理装置。等离子体处理装置(1)包括：壳体(2)，设置有将处理室内部与外部连通的开口部(2b)；真空罩(4)，以能够拆装的方式安装于壳体(2)，且闭塞开口部(2b)；棒状的...