本申请涉及一种镀膜载具。本申请实施例提供了一种镀膜载具包括：载盘，所述载盘包含第一表面及与所述第一表面相对的第二表面；中心杆，所述中心杆设置于所述载盘的中心，其中所述中心杆沿垂直于所述载盘的第一表面的方向延伸穿过所述载盘；及隔板，所述隔...

本申请涉及工具件及其涂层结构。根据本申请的部分实施例的一种工具件，其包含基材、过渡层及复合涂层，其中过渡层设置于基材的表面上，且复合涂层设置于过渡层的表面上。复合涂层包含：第一涂层、第二涂层、第三涂层、第四涂层、第五涂层及第六涂层，其中...

本申请涉及复合涂层及包含其的工具件。本申请的一些实施例提供了一种复合涂层，该复合涂层包括：在基材上形成高熵合金涂层及碳化钨层。高熵合金涂层包含通式AlSiCrCuTiZrN表达的高熵合金。碳化钨层设置于高熵合金涂层的表面上。本申请具有复...

一种镀膜架具。所述镀膜架具包括多个夹具。所述多个夹具的每一者由多个工件放置槽组成，将多个微小的工件(比如微钻)组合到夹具的工件放置槽中，适合微小工件的保存，输运，清洗、镀膜、以及后续处理等，防止微小工具在各个环节受到二次损害，也节省手工...

一种镀膜夹具。所述镀膜夹具包括主轴、侧盘组以及夹持机构。所述侧盘组设置于所述主轴的两端。所述侧盘组的侧盘包括定位孔。所述夹持机构与所述定位孔连接设置。所述夹持机构经配置以夹持待加工工件的两端，其中所述夹持机构与所述定位孔连接时可进行旋转...

本申请涉及遮光片及其涂层结构。本申请的一些实施例提供了一种遮光片，该遮光片包括：基材及涂层，其中涂层设置于基材的表面上。涂层为铝铬涂层，铝铬涂层的晶体为单相面心立方结构。本申请实施例提供的遮光片通过表面粗化处理及物理气相沉积处理，能够在...

一种电弧蒸发装置，包括阴极弧蒸发源、第一磁场装置、第二磁场装置以及第三磁场装置。所述阴极弧蒸发源的表面包括经配置以限制阴极弧弧斑的移动并容纳靶材液滴的凹槽结构。所述第一磁场装置设置于所述阴极弧蒸发源的第一侧且经配置以产生第一磁场。所述第...

本申请涉及一种类金刚石复合涂层及其制备方法，类金刚石复合涂层特征在于，所述类金刚石复合涂层包含：在所述金属极板上形成的第一层和第二层，其中所述第一层为未掺杂的类金刚石层，所述第二层是掺杂的类金刚石层；在所述金属极板与所述第一层之间的过渡...

本申请提出一种用于电弧蒸发装置的阴极弧蒸发源。所述阴极弧蒸发源包括靶材。其中所述靶材的表面包括凹槽结构。所述凹槽结构经配置以限制阴极弧弧斑的移动并限制阴极弧弧斑产生的液滴逸出所述靶材的表面。本申请还提出一种电弧蒸发装置，其包括上述阴极弧...

一种电弧蒸发装置，包括腔室、夹具装置以及阴极弧源装置。所述夹具装置设置于所述腔室中。所述夹具装置经配置以夹取待加工工件。所述阴极弧源装置设置于所述腔室中并设置于所述夹具装置上方。所述阴极弧源装置包括经配置以作为靶材的第一阴极弧源和第二阴...

一种镀膜架具。所述镀膜架具包括多个夹具。所述多个夹具的每一者由多个工件放置槽组成，将多个微小的工件(比如微钻)组合到夹具的工件放置槽中，适合微小工件的保存，输运，清洗、镀膜、以及后续处理等，防止微小工具在各个环节受到二次损害，也节省手工...

本申请涉及具有自调节抗沾粘涂层的封装模具以及该封装模具的制备方法。本申请提供了一种封装模具，其包括：封装膜具基体以及涂层。该涂层设置于封装膜具基体的部分表面上，其中涂层包含具有柱状晶结构的金属层，且金属层包含铜或铬中的一者。本申请的封装...

本实用新型的实施例涉及镀膜机转架。该镀膜机转架包含：第一侧板、第二侧板、第一齿轮盘、第二齿轮盘、第一传动轴、第二传动轴以及至少一个阻尼轴。第一齿轮盘和第二齿轮盘的分别连接到第一侧板；第二齿轮盘与第一齿轮盘啮合；第一传动轴的一端连接到第二...

一种功能复合粒子及其制备方法。所述功能复合粒子(10)包括：内核(11)，该内核(11)由功能金属粒子构成，具有外表面(111)；以及壳层(12)，该壳层(12)为生物可相容陶瓷材料构成的物理气相沉积PVD陶瓷层，壳层(12)附着在内核...

本申请涉及一种具有功能复合粒子的纤维布及其制备方法，所述制备方法包括采用蒸发冷凝工艺将由功能金属粒子组成的固体金属块体放入坩埚中，经由加热蒸发到真空物理气相沉积PVD工艺炉中冷凝；对冷凝状态下的功能金属粒子的外表面采用PVD工艺沉积PV...