遮光片制造技术

本申请涉及遮光片及其涂层结构。本申请的一些实施例提供了一种遮光片，该遮光片包括：基材及涂层，其中涂层设置于基材的表面上。涂层为铝铬涂层，铝铬涂层的晶体为单相面心立方结构。本申请实施例提供的遮光片通过表面粗化处理及物理气相沉积处理，能够在钼金属的表面形成一层具有单相面心立方结构的铝铬涂层，以提高钼金属表面的结构强度。因此，本申请提供的遮光片其在高温环境下具有良好的抗热能力、抗腐蚀性及使用寿命。抗腐蚀性及使用寿命。抗腐蚀性及使用寿命。

【技术实现步骤摘要】
遮光片


[0001]本申请涉及涂层领域，更具体地，涉及一种经表面处理的遮光片。

技术介绍

[0002]在舞台灯光下使用的遮光片，钨灯丝的使用功率高达2KW以上，需要长期承受高温的炙烤(温度可达800℃以上)，同时在灯光转换过程中遮光片会产生轻微摩擦，需要基材具有一定的硬度。
[0003]目前主流使用的遮光片材料为钼合金，主要优点是耐高温，其缺点是在高温下钼合金遮光片之间的相互摩擦容易造成边缘锯齿状，从而造成漏光，眩光问题。
[0004]因此，为解决上述问题，如何提高钼合金在高温条件下的使用寿命，业内还有很多技术问题需要解决。

技术实现思路

[0005]本申请实施例的目的之一在于提供一种防眩光耐磨耐高温的遮光片，使之能够满足各类舞台灯光的强度需求。
[0006]在一些实施例中，本申请提供了一种遮光片，该遮光片包括：基材及涂层，其中涂层设置于基材的表面上。涂层为铝铬涂层，铝铬涂层的晶体为单相面心立方结构。
[0007]在一些实施例中，遮光片的涂层的表面的粗糙度为400至1800nm。
[0008]在一些实施例中，遮光片的基材与涂层结合的表面的粗糙度为20μm至200μm。
[0009]在一些实施例中，遮光片的基材为钼金属。
[0010]在一些实施例中，涂层厚度为1μm至5μm。
[0011]在一些实施例中，涂层的硬度为15GPa至28GPa。
[0012]在一些实施例中，涂层的硬度为19GPa至25GPa。
[0013]在一些实施例中，涂层的弹性模量为180GPa至250GPa。
[0014]本申请实施例提供的遮光片通过表面粗化处理及物理气相沉积处理，能够在钼金属的表面形成一层具有单相面心立方结构的铝铬涂层，以提高钼金属表面的结构强度。因此，本申请提供的遮光片其在高温环境下具有良好的抗腐蚀性及使用寿命。
[0015]本申请实施例提供的额外层面及优点将部分地在后续说明中描述、显示、或是经由本申请实施例的实施而阐释。
附图说明
[0016]在下文中将简要地说明为了描述本申请实施例或现有技术所必要的附图以便于描述本申请的实施例。显而易见地，下文描述中的附图仅只是本申请中的部分实施例。对本领域技术人员而言，在不需要创造性劳动的前提下，依然可以根据这些附图中所例示的结构来获得其他实施例的附图。
[0017]图1为根据本申请一实施例的遮光片的纵向截面示意图。
[0018]图2为根据本申请一实施例的涂层的XRD相结构图谱。
[0019]图3为本申请实施例2的遮光片与钼合金遮光片的反射率与波长的曲线图
具体实施方式
[0020]本申请的实施例将会被详细的描示在下文中。在本申请说明书全文中，将相同或相似的组件以及具有相同或相似的功能的组件通过类似附图标记来表示。在此所描述的有关附图的实施例为说明性质的、图解性质的且用于提供对本申请的基本理解。本申请的实施例不应该被解释为对本申请的限制。
[0021]如本文中所使用，术语“约”、“大体上”、“实质上”用以描述及说明小的变化。当与事件或情形结合使用时，所述术语可指代其中事件或情形精确发生的例子以及其中事件或情形极近似地发生的例子。举例来说，当结合数值使用时，术语可指代小于或等于所述数值的
±
10％的变化范围，例如小于或等于
±
5％、小于或等于
±
0.5％、或小于或等于
±
0.05％。举例来说，如果两个数值之间的差值小于或等于所述值的平均值的
±
10％，那么可认为所述两个数值“大体上”相同。
[0022]再者，为便于描述，“第一”、“第二”、“第三”等等可在本文中用于区分一个图或一系列图的不同组件。“第一”、“第二”、“第三”等等不意欲描述对应组件。
[0023]图1为根据本申请一实施例的遮光片的纵向截面示意图。
[0024]如图1所示，根据本申请一实施例的一种遮光片10能够包括：基材100及涂层101。涂层101经物理气相沉积处理设置于基材100的表面上。应理解，基于本申请的说明，本领域技术人员可以根据实际需要调整涂层101在基材100的表面上的覆盖范围。在一些实施例中，涂层101能够覆盖基材100的单侧表面。在一些实施例中，涂层101能够覆盖基材100的双侧表面。在一些实例中，涂层101能够覆盖基材100的表面的部分区域。在一些实例中，涂层101能够覆盖基材100的表面的全部区域。
[0025]基材100在不违背本申请的精神下，可以是本领域中任何合适的工业材料，而不受其限制。在一些实施例中，基材100为钼金属，以具备良好的耐高温性能。在一些实施例中，基材100的厚度为100μm至5000μm，以优化遮光片10的结构强度。
[0026]涂层101为铝铬涂层:Al
x
Cr
y
O
z
N1‑
x
‑
y
‑
z
，其通过本申请实施例所提供的物理气相沉积处理能够形成的具有单相面心立方结构的涂层晶体结构。图2为本申请实施例中铝铬涂层的X射线衍射图(X
‑
ray Diffraction)，如图2所示，本申请实施例中所制备的铝铬涂层的晶体结构为单相面心立方结构，其晶体结构中无六方相的生成，使得铝铬涂层具有良好力学性能，以提高遮光片10的结构强度，并使遮光片10在高温环境下具有良好的抗腐蚀性及使用寿命。
[0027]在一些实施例中，涂层101经光线的投射后能够有效改变其反射的光线图谱，其中反射的光线图谱范围为波长为300nm至850nm的可见光，以提高遮光片对可见光的反射率，进而提升其光线遮蔽与集中的效果。在一些实施例中，遮光片对于波长为300nm至850nm的可见光的反射率为0.55至1。在本文中，反射率为入射光强度与反射光强度的比值，反射率能够通过反射率测定仪进行测量，具体测试方法请参照国家标准GB1726
‑
79(89)漆膜遮盖力的测定。
[0028]在一些实施例中，物理气相沉积处理(PVD处理)包括如下步骤：采用铝铬金属靶
材，靶材中的铝金属含量为20％至70％，且铬金属含量为30％至80％；将待涂覆的基材100放入沉积腔中，沉积腔中的气体压强抽真空至10
‑3Pa以下，并升温至500℃；于沉积腔中通入氮气、氧气或者两者的混合气体，调节压强沉积腔中的气体压强为2Pa至4Pa，开启铝铬金属靶材，其中靶材电流为80A至150A，基体的偏压为
‑
10V至
‑
200V，沉积时间为60min至120min；关闭靶材，遮光片随沉积腔冷却至100℃至150℃后常温冷却即可。
[0029]在一些实施例中，在进行物理气相沉积处理前，还能够包含表面清洗预处理，表面清洗预处理包括如下步骤：对待涂覆的基材100进行超声波震荡清洗，并使用清洗液本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种遮光片，其特征在于，包括：基材；以及涂层，所述涂层设置于所述基材的表面上，其中所述涂层为铝铬，铝铬氧涂层，所述涂层的晶体为单相面心立方结构。2.根据权利要求1所述的遮光片，其特征在于，所述涂层的表面的粗糙度为400nm至1800nm。3.根据权利要求1所述的遮光片，其特征在于，所述基材与所述涂层结合的表面的粗糙度为20μm至200μm。4.根据权利要求1所述的遮光片，...

【专利技术属性】
技术研发人员：贺林青，李庆超，沈学忠，刘军，
申请(专利权)人：纳狮新材料有限公司，
类型：新型
国别省市：