【技术实现步骤摘要】
电弧蒸发装置
[0001]本申请涉及一种装置,详细来说,是有关于一种电弧蒸发装置。
技术介绍
[0002]在现有的电弧蒸发装置中,当在对待加工工件进行镀膜工艺时,电弧蒸发装置的阴极弧蒸发源的靶面金属离化后,会使得等离子体在靶面电磁场做螺旋线运动,以在待加工工件表面形成膜层。但是在等离子体形成过程中,弧斑跑动不够迅速,弧斑在靶面停留时间过长,导致部分熔池温度过高并产生大量中性液体颗粒。液体颗粒会在涂层表面形成贯穿颗粒并容易影响涂层性能。
技术实现思路
[0003]有鉴于此,本申请提供一种电弧蒸发装置来解决上述问题。
[0004]依据本申请的一实施例,提供一种电弧蒸发装置。所述电弧蒸发装置包括阴极弧蒸发源、第一磁场装置、第二磁场装置以及第三磁场装置。所述阴极弧蒸发源的表面包括凹槽结构。所述凹槽结构经配置以限制阴极弧弧斑的移动并容纳靶材液滴。所述第一磁场装置设置于所述阴极弧蒸发源的第一侧。所述第一磁场装置经配置以产生第一磁场。所述第二磁场装置设置于所述阴极弧蒸发源的所述第一侧并环绕所述第一磁场装置设置。所述 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种电弧蒸发装置,其特征在于,包括:阴极弧蒸发源,其中所述阴极弧蒸发源的表面包括凹槽结构,所述凹槽结构经配置以限制阴极弧弧斑的移动并容纳靶材液滴;第一磁场装置,设置于所述阴极弧蒸发源的第一侧,经配置以产生第一磁场;第二磁场装置,设置于所述阴极弧蒸发源的所述第一侧并环绕所述第一磁场装置设置,经配置以产生第二磁场;以及第三磁场装置,环绕所述阴极弧蒸发源、所述第一磁场装置和所述第二磁场装置设置,经配置以产生第三磁场;其中所述第一磁场和所述第二磁场的磁场方向相反,所述第一磁场和所述第三磁场的磁场方向相同。2.如权利要求1所述的电弧蒸发装置,其特征在于,所述凹槽结构包括U型槽。3.如权利要求2所述的电弧蒸发装置,其特征在于,所述U型槽...
【专利技术属性】
技术研发人员:朱国朝,刘琴铭,朱敏杰,袁安素,
申请(专利权)人:纳狮新材料有限公司,
类型:发明
国别省市:
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