本实用新型提供一种真空镀膜室，属于镀膜设备技术领域。真空镀膜室包括镀膜室主体、第一门体和第二门体；镀膜室主体呈框型结构，且镀膜室主体的两侧均形成有敞口部，第一门体和第二门体相对设置在镀膜室主体的两侧，且与镀膜室主体转动连接，以封闭或开启...

本实用新型涉及电渣炉技术领域，尤其涉及一种电渣炉。该电极杆升降装置包括炉体、电极杆、结晶器、冷却机构和抽真空机构；炉体的内部形成有容纳腔，结晶器的内部形成有结晶腔，炉体的底部与结晶器的顶部可拆卸连接，以使容纳腔与结晶腔连通；电极杆可升降...

本申请涉及真空镀膜技术领域，尤其是涉及一种弧源及多弧离子镀膜机，弧源包括：绝缘围挡，形成有容纳空间；磁场组件，设置于容纳空间内，磁场组件在容纳空间形成综合磁场；弧靶，设置于磁场组件的一侧；调距装置，设置于容纳空间内，调距装置与磁场组件连...

本申请涉及真空设备技术领域，尤其是涉及一种立式真空热处理炉，立式真空热处理炉包括：炉体，设置有加热室，加热室能够形成真空环境；炉体设置有第一开口，第一开口设置于炉体的底部；第一炉门，设置于第一开口，并且第一炉门能够相对第一开口开启或关闭...

本申请涉及真空镀膜技术领域，尤其是涉及一种旋转装置，包括：驱动装置、传动机构、第一支撑构件、第二支撑构件、第三支撑构件以及驱动机构；其中，所述第二支撑构件设置于所述第一支撑构件，且所述驱动装置能够驱动所述第一支撑构件连同所述第二支撑构件...

本发明提供的一种喷涂生产线及生产方法，涉及喷涂设备技术领域，以在一定程度上提高工件喷涂生产的效率。本发明提供的喷涂生产线,包括装配区、喷涂区、烘干区、包装区以及物流区；装配区设有承载装置、喷涂区设有喷涂装置，烘干区设有烤房，包装区设有包...

本申请涉及镀膜工艺领域，尤其是涉及一种陶瓷真空镀膜工艺方法。陶瓷真空镀膜工艺方法包括如下步骤：S1：将陶瓷基材放入真空室内并抽真空；S2：向真空室充入惰性气体；S3：开启偏压电源调节偏压电源的参数；开启转架；S4：对陶瓷基材镀膜包括如下...