本发明所述的一种湿法刻蚀设备，包括喷射装置、传输轴以及设置在传输轴上的多个滚轮，位于同一根所述传输轴上的多个所述滚轮中，设置在中间的滚轮的直径大于设置于传输轴两侧的各滚轮的直径；本发明所述的湿法刻蚀设备借助薄型基板本身的挠性，通过改变设...

本发明公开一种有机发光显示装置及其制造方法，该有机发光显示装置包括平坦化层以及有机发光元件，平坦化层的第一表面包括平坦区域及与平坦区域连接的凹凸不平区域，平坦区域与凹凸不平区域交替间隔设置；有机发光元件包括有机发光层以及反射层，有机发光...

本发明提供一种色彩显示处理方法及系统，该方法包括：获取图像中每个像素三基色的灰阶值，每个像素的三基色包括R子像素、G子像素和B子像素；分别计算每个像素的R子像素和G子像素之间的第一灰阶差值、G子像素和B子像素之间的第二灰阶差值、以及R子...

本发明的一种AMOLED白平衡的调整方法和调整系统，首先，获取AMOLED中红、绿和蓝三色高分子发光材料的亮度和寿命衰减曲线，使用时再根据所述预定的调整时间和亮度和寿命衰减曲线对流经所述像素的电流进行调整，维持该像素的白平衡。由于AMO...

本发明所述的一种平板显示装置，与第一电极同层形成有由若干相连或不相连的导线组成的导电图形，导电图形与第一电极不相连，通过导电图形与电源线并联，实现电源线电阻的有效降低，减小电源线的电压降，提高所述平板显示装置的显示均匀性，从而提升使用品...

本实用新型公开了一种检查设备，包括检查机构、出料机构及复检机构，所述复检机构与所述出料机构转动连接，所述检查机构控制所述复检机构在能够接收待检产品的接收位置及用于复检的确认位置之间转动。而在操作人员确认的过程中，检查机构可正常检查，因此...

本实用新型揭示了一种OLED显示装置，包括层叠设置的第一基板和第二基板，在所述第二基板远离第一基板的一侧形成有外偏光层，所述第一基板和第二基板之间形成有内偏光层，所述内偏光层的吸收轴和外偏光层的吸收轴之间具有80～100度的夹角。本实用...

本发明所述的一种有机发光显示装置，有机发光二极管中的第一电极层与所述电容器中电容下电极同层以同种材料形成，薄膜晶体管中的源/漏电极层与所述电容器中的电容上点击同层以同种材料形成，电容介质层独立制备，可根据所述有机发光显示装置的需求进行电...

本发明所述的一种有机发光显示装置，电极电源线上直接形成有辅助导电层，并露出电极电源线的部分区域；第二电极延伸至所述非显示区域，并连续覆盖辅助导电层远离电极电源线的表面和电极电源线露出的表面。第二电极与电极电源线以及辅助导电层接触面积大，...

本发明公开了一种窄边框有机发光显示器，其包括提供像素区域和非像素区域的阵列基板以及与该阵列基板对应的封装罩体，在阵列基板与封装罩体之间并贴合于该阵列基板上设有形成扫描驱动电路的多层膜结构，在非像素区域内，由封装罩体至多层膜结构依次设有封...

本发明提供一种像素电路及其驱动方法及一种有源矩阵有机发光显示装置。其中的像素电路通过在晶体管T2的栅极和晶体管T6的栅极之间串联电容器C3，相当于将晶体管T6的阈值电压的信息存储到电容器C3上，晶体管T6的阈值电压发生波动时，可以通过电...

本发明公开了一种阵列基板剥离系统及其剥离方法，系统依次包括传送单元、返工单元、光刻胶剥离单元、清洗单元、干燥单元、传出单元和除氯单元，阵列基板通过传送装置依次进入各单元中，除氯单元设置于光刻胶剥离单元与清洗单元之间，除氯单元内设有用于清...

本发明公开了一种阵列基板的制备方法、阵列基板和有机发光显示器件。该制备方法包括：1）在基底上依次形成覆盖薄膜晶体管区和电容器区的第一金属层、第一绝缘材料层和第二金属层；2）在第二金属层上利用光刻胶和半色调掩膜对第二金属层、第一绝缘材料层...

本发明公开了一种有机发光显示装置，其包括有依次贴合设置的第一导电电极、有机电致发光层及第二导电电极，所述第一导电电极包括依次贴合设置的第一透明电极层、反射导电电极层及透明导电薄膜，该透明导电薄膜内掺杂有卤化银纳米粒子及催化剂，其中该有机...

本发明提供一种半导体器件的制备方法，采用直接向半导体层注入高浓度杂质离子的工艺，避免透过电容介质层进行高浓度杂质离子注入以减少对电容介质层的影响，在不增加工艺步骤的前提下，有效解决了由于电容介质层受到损伤造成的电容器耐压性下降的问题，提...

本发明公开了一种薄膜晶体管的制造方法，在薄膜晶体管的制备过程中，包括如下步骤：以截面为倒梯形的掩膜作为遮挡对半导体层进行掺杂形成薄膜晶体管的源、漏电极区，源、漏电极区包括沟道区、沟道区两侧的轻掺杂区以及轻掺杂区外侧的源电极区和漏电极区。...

本发明所述的一种通孔刻蚀方法属于平板显示装置制造领域，将传统的物理干法刻蚀和化学干法刻蚀相结合并分两步进行；在通孔的刻蚀过程中，先采用物理干法刻蚀工艺，然后再进行化学干法刻蚀进行补刻蚀，不但可以避免物理干法刻蚀中常出现的过刻蚀现象，而且...

本发明公开了一种有机发光显示器件，在有机发光显示器件的有效显示区域内包括多个发光区，所述有机发光显示器件的阴极包括低功函数阴极和导电阴极，其中，所述低功函数阴极覆盖所述发光区，所述导电阴极分别与所述低功函数阴极和外接电源电连接，且所述导...

本发明公开了一种刻蚀酸雾抽离器，其用于湿式刻蚀中，该刻蚀酸雾抽离器包括有抽风管道、冷凝器、接液盘及回流管，该抽风管道内为负压并抽离刻蚀机腔室内形成的酸雾，该冷凝器位于抽风管道下方并连通该抽风管道，该冷凝器将抽离后的酸雾凝集成酸液，该接液...

本实用新型公开了一种触控泡棉结构及显示组件，该触控泡棉结构包括依次层叠设置的泡棉、第一绝缘层、触控单元和遮光胶带，其中，所述触控单元包括依次层叠设置的第一导电层、第二绝缘层和第二导电层，所述第一导电层设置于所述第一绝缘层上，所述遮光胶带...