本发明公开了客户工单信息自动更新方法、系统及存储介质，其中客户工单信息自动更新方法包括如下步骤：判断邮件信息是否与工单信息相关；在判断与工单信息相关后，登录客户官网并获取工单数据；将工单数据更新至数据库。本发明实现了邮箱程序对用户收到邮...

本发明公开了芯片封装设备，包括：壳体、设置于壳体的空气系统，设置于壳体内的架体、设置在架体上的涂布机台；架体包括分隔板，分隔板将壳体内空间分成上部腔室和下部腔室，涂布机台设置在上部腔室，分隔板上设置有若干连通上部腔室和下部腔室的通孔；空...

本技术涉及半导体制造领域，具体公开了一种等离子体发生装置和晶圆加工设备，其中等离子体发生装置包括罐体、穿过所述罐体的通气管、设于通气管一侧的激发元件，所述罐体包括具有腔室的内壳、位于内壳外侧的外壳、形成于内壳和外壳之间的夹层，所述通气管...

本技术提供了一种卷带传输装置，其包括固定座、转动安装于固定座的卷带输送轮、活动组件和驱动组件，所述活动组件包括活动组装于固定座的中间座、活动附载于中间座的活动座以及设于活动座的卷带张紧杆；所述驱动组件包括第一驱动件和第二驱动件，第一驱动...

本发明公开了半导体制造装置，包括：显影机台、固化机构和抽气系统，显影机台包括箱体和设置于箱体内的显影承载台；固化机构包括设置于显影承载台旁侧的烤盘、与烤盘配合的盖体和罩设在烤盘及盖体外的绝热壳，烤盘、盖体及绝热壳均设置于箱体内；烤盘包括...

本技术提供了一种卷带收放料装置，其包括料盘和支撑组件，所述料盘包括中心轴、于所述中心轴的轴向上相对设置的两个侧板，所述支撑组件包括与中心轴相连接的调节杆、沿轴向运动配接于调节杆的活动件以及至少两个连接臂，所述连接臂具有与活动件相连接的连...

本发明公开了凸块的成型方法，包括如下步骤：提供基板，所述基板的上表面成型有焊垫和绝缘层，所述焊垫自绝缘层上的绝缘层开口向外暴露；在绝缘层及焊垫的上表面成型种子层；在所述种子层的上表面成型光阻结构，其中，所述光阻结构包括向外暴露所述焊垫的...

本技术公开了一种晶圆洗边系统，用于半导体制造，包括：承载台、药液系统和防反溅机构，承载台用于支撑晶圆；药液系统包括洗边针头，所述洗边针头设置在所述承载台的上方并位于所述承载台的边缘；防反溅机构包括具有腔室的防护罩和与所述腔室连通的抽吸装...

本发明公开了用于芯片散热贴的取标机构，包括：标头本体、设置在标头本体底部的真空吸附孔、设置在标头本体内的气流通道和封堵单元；标头本体的截面整体呈矩形，并具有长度方向和宽度方向，若干真空吸附孔沿标头本体的长度方向排布以形成真空吸附孔组，若...

本实用新型提供了一种卷带传输装置，卷带上设置有链孔，所述卷带传输装置包括输送轮、第一压轮和第二压轮。所述输送轮具有与链孔啮合的齿柱，所述输送轮的外周面具有与卷带贴合的工作段，所述输送轮绕转轴转动以传输卷带。所述第一压轮和第二压轮分设于工...

本实用新型公开了芯片托盘的防反治具，包括筛选框和用于固定支撑筛选框的支撑架；所述筛选框具有框体和设置在所述框体上的托盘穿孔，所述托盘穿孔的形状与芯片托盘相适配，所述框体上位于托盘穿孔的边角位置设置有与芯片推盘的缺口相适配的突起部。本实用...

本实用新型公开了一种半导体制造装置，包括壳体和承载机构，壳体具有工作腔；承载机构具有设置在工作腔底部的承载盘和设置在承载盘上的若干调节件；承载盘朝向工作腔的一侧具有承载面，调节件具有朝工作腔方向突伸出承载面的支撑端，调节件可活动的安装固...

本实用新型揭示了一种供液系统及具有该系统的涂布机，其特征在于，包括：除泡装置，用以与一供液管路连接且设有第一出液口；回吸装置，通过一第一管路与所述除泡装置连接且设有第二进液口，所述第一管路连接所述第一出液口及第二进液口；控温装置，套设于...

本实用新型提供了一种倒装芯片与覆晶封装结构，所述倒装芯片包括芯片本体、形成在所述芯片本体一侧的金属种子层及层叠设置在所述金属种子层背离所述芯片本体一侧表面上的金属凸块，在平行于所述芯片本体的方向上，所述金属凸块超出所述金属种子层；所述倒...

本实用新型公开了联轴器对中校准机构，包括：相对设置的一对对中组件，所述对中组件包括用于与轴连接固定并与轴同轴设置的紧固件和设置在紧固件上的对标件，所述紧固件具有轴向方向和与轴向方向垂直设置的径向方向，所述对标件沿所述紧固件的径向方向延伸...

本实用新型公开了一种用于晶圆转运的机械手臂，包括：手臂，所述手臂具有手臂本体和设置在所述手臂本体上的若干吸附件，若干所述吸附件呈环形排布在所述手臂本体上，所述吸附件的吸附口朝手臂本体的正面开口；第一传感设备，设置在所述手臂本体上，所述手...

本申请公开一种光阻供液系统及光阻涂布机，所述光阻供液系统光阻供液系统，包括储液罐、光阻泵及供液管路，所述供液管路的前端连接于所述储液罐，所述供液管路的后端设置有喷嘴；所述光阻供液系统还包括保湿装置，所述保湿装置包括向上开放并用以存放既定...

本申请公开一种涂胶装置及光阻涂布设备，所述涂胶装置包括罩体、设置在所述罩体内且可旋转设置的承载盘；所述涂胶装置还包括设置在所述承载盘下方的防溢盖、自下向上穿过所述防溢盖的清洗喷头，所述清洗喷头的位置可调节且所述清洗喷头设置为至少两个。采...

本实用新型公开了一种可光学对准的晶圆定位手臂及晶圆打标机，其中，可光学对准的晶圆定位手臂，包括支撑件和设置在支撑件上的吸附件；所述支撑件包括上支撑环和下支撑环，所述吸附件定位在所述上支撑环和下支撑环之间；所述吸附件上设置有若干用于吸附晶...

本实用新型公开了用于覆晶薄膜的柔性基板搭接治具，包括：支撑板、设置在支撑板上的若干定位柱；所述支撑板具有长度方向和宽度方向；两个所述定位柱沿所述支撑板的宽度方向排布并形成一定位组，若干定位组沿所述支撑板的长度方向排布以形成定位单元；一对...