工业化制备邻羟基扁桃酸钠的方法，在叔胺和催化量的三价金属阳离子存在下，在温度低于１００℃，在惰性气氛中让苯酚与二羟乙酸在含水溶液中进行缩后反应，该方法是在至少两个串联安装的反应器（Ｒ１……Ｒｎ）中连续进行的，第一个反应器由装有二羟乙酸和...

半导体材料层或绝缘材料层的机械－化学研磨方法，半导体材料比如是多晶硅、外延单晶硅、非晶硅；绝缘材料比如是磷硅酸盐玻璃或硼磷硅酸盐玻璃，这都是在半导体微电子工艺中常用的，不包括制作集成电路板时所用的初制硅，在该方法中对半导体材料层或绝缘层...

一种使用抛光组合物对铜基材料表层的机械化学抛光方法，其特征在于所述抛光组合物包括彼此未以硅氧链连接的单个胶体二氧化硅颗粒的一种水悬浮液，其平均粒度在１０－１００ｎｍ之间，且水悬浮液的ｐＨ在１－５之间。

一种用于机械化学抛光低介电常数聚合物类绝缘材料层的组合物，包含阳离子化的胶态氧化硅的酸性水悬浮液，该悬浮液中含有彼此非硅氧链合的个体化的胶态氧化硅微粒和作为悬浮介质的水，对低介电常数聚合物类绝缘材料层的机械化学抛光方法和用于机械化学抛光...

本发明涉及式（Ｉ）的新苯酚化合物，它们与碱金属，碱土金属和胺的盐，式中Ｒ是Ｃ＃－［３］－Ｃ＃－［１７］二烷氧基甲基，任选地被一个或多个Ｃ＃－［１］－Ｃ＃－［８］烷基在４位和／或５位取代的１，３－二氧戊环－２－基或者任选地被一个或多个Ｃ＃...