一种卡盘，包括卡盘表面和分布在卡盘表面上的可伸缩端口组件。每个可伸缩端口组件包括：可连接到吸力源的导管；以及从卡盘表面向远侧延伸的管，该管的远端在与工件接触时形成密封，并且该管在形成密封之后可通过由吸力源施加的吸力而收缩。多个不可伸缩真...

一种卡盘，包括卡盘表面和分布在卡盘表面上的多个真空端口

一种用于夹持工件的夹具，包括具有平坦夹具表面的主体。夹具表面包括分布在夹具表面上的多个开口，每个开口可连接到抽吸源。至少一个限流器位于该多个开口和夹具到抽吸源的连接器之间，以限制通过该多个开口中的每个开口的流入。当对该多个开口施加抽吸，...

一种卷材张紧装置，包括压力源和固定的壳体。可平移单元可平移到壳体的腔中和离开壳体的腔，并且可平移单元包括可连接到压力源的入口。可平移单元的远侧端部包括具有开口的张紧表面，以使得加压流体能够流出，从而在卷对卷加工中向卷材施加推力。近侧开口...

一种晶片定位装置，包括：至少一个固定止动件，定位在卡盘表面上的夹持位置的周边处；以及可伸长的指状物。指状延伸机构朝向卡盘表面的中心向外延伸指状物，并且远离卡盘表面的中心缩回指状物。当晶片放置在卡盘表面上并且指状延伸机构操作以向外延伸指状...

一种非接触式支撑平台系统，被配置为支撑工件并且包括散布在工作台的顶表面上的多个压力端口和多个真空端口。这些端口沿多个列布置，使得压力端口与真空端口沿每列交替。这些列包括至少一个纵列，该纵列基本上平行于工件的运动方向定向。相互平行的旋转列...

一种开环控制的无接触支撑平台，包括：表面，通过流动穿过多个嘴件的流体的流体承载来支撑工件；供给系统，连接到表面并且构造为通过施加压力以使流体从多个嘴件的子集中流出，从而保持流体承载；以及控制器，使用开环回路控制供给系统中的流体流，以当工...

一种非接触支撑系统，包括具有端口层的工作台，该端口层具有散布的压力端口和真空端口的图案。压力管道层包括可连接到压力源的压力管道的网格图案，每个压力端口位于穿过至少两个压力管道的交点并且基本上正交于压力管道的网格图案的轴线上。真空管道层包...

一种用于运送基板的真空轮，包括：固定管道，其能连接到抽吸源。位于真空轮的外周上的真空表面包括围绕外周分布的真空开口，使得轮的转动引起真空开口相继流体地连接到固定管道。当抽吸施加到固定管道时，抽吸施加到实时流体地连接到固定管道的一个或多个...

非接触支撑平台包括在非接触支撑平台的PV台的外表面上的多个压力喷嘴。该压力喷嘴连接到压力源以产生通过压力喷嘴的流体流出。多个真空吸嘴与压力喷嘴穿插在外表面上，并通过一个或多个软管连接到真空歧管，以产生通过真空吸嘴的流体流入。至少一个流量...

一种非接触支撑平台包括分布在工作台表面上的压力端口，该压力端口各自连接至压力源。真空端口分布在该工作台表面上，该真空端口各自连接至真空源。通过该压力端口的向外流动和通过该真空端口的向内流动形成流体垫层以在距该工作台的非零距离处支撑工件。...

一种用于输送基板的系统包括用于支撑基板的非接触支撑平台。真空轮与支撑平台相邻地定位。真空轮的轮缘包括在轮缘的外部与真空轮的内部之间敞开的穿孔。固定的抽吸表面在该真空轮内部并包括可连接到抽吸源的导管的开口。腔室由抽吸表面、真空轮的壁以及周...

本发明公开了一种用于从晶片叠堆中分离前端晶片的装置。该装置包括用于抓取所述前端晶片的夹具，该夹具与机械臂相连，并可围绕至少一个轴、关于所述机械臂旋转，从而使得所述夹具大致平行地与所述前端晶片对齐。固定机构用于将夹具固定在理想方位的。所述...

本发明提供了用于支撑基本扁平的物体的非接触式支撑平台系统。所述系统包括具有多个第一压力口和多个第一真空口的平台，所述多个第一压力口和多个第一真空口用于产生流体垫以将所述物体支撑在与所述平台相隔一定距离的位置。所述系统还包括位于所述平台的...