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JSR株式会社专利技术
JSR株式会社共有1438项专利
耐油性橡胶用聚合物的制法、耐油性橡胶用聚合物、耐油耐候性橡胶用组合物及橡胶成型体制造技术
本发明涉及耐油性橡胶用聚合物的制造方法,在不饱和腈-共轭二烯系共聚物[A成分]的水分散体中添加含有选自含腈基单体[B-1成分]、(甲基)丙烯酸酯单体[B-2成分]和芳香族乙烯基化合物单体[B-3成分]中的至少1种单体的单体组合物[B成分...
改性共轭二烯系聚合物的制造方法、改性共轭二烯系聚合物及橡胶组合物技术
本发明的改性共轭二烯系聚合物的制造方法,具备下列工序:工序(A):进行一次改性反应,得到一次改性共轭二烯系聚合物,该改性反应使含有两个以上特定官能团的杂累接双键化合物与乙烯基含量低于10%且顺-1,4-键含量为75%以上的具有活性末端的...
改性共轭二烯系聚合物的制造方法、改性共轭二烯系聚合物及橡胶组合物技术
本发明涉及可以获得低发热性和耐磨耗性优异的改性共轭二烯系聚合物的改性共轭二烯系聚合物的制造方法,其具备下列工序:改性工序(A):使用顺-1,4-键含量为98.5%以上且具有活性末端的共轭二烯系聚合物,进行使具有包含烷氧基甲硅烷基的2个以...
改性共轭二烯系聚合物的制造方法、改性共轭二烯系聚合物及橡胶组合物技术
本发明的改性共轭二烯系聚合物的制造方法是如下的方法,通过进行改性反应,得到改性共轭二烯系聚合物,该改性反应使含有特定化合物的改性剂与顺-1,4-键含量为98.5%以上的具有活性末端的共轭二烯系聚合物反应,从而使所述改性剂导入所述共轭二烯...
抗蚀剂下层膜形成用组合物及图案形成方法技术
本发明涉及抗蚀剂下层膜形成用组合物,含有在富勒烯骨架中至少键合有一个氨基的(A)氨基化富勒烯和(B)溶剂,蚀刻耐性优异,且在干蚀刻工艺中下层膜图案难以折曲,可以将抗蚀剂图案忠实地、再现性良好地转印在被加工基板上。
改性聚合物的制造方法、由该方法得到的改性聚合物及其橡胶组合物技术
本发明提供制造硫化橡胶时滚动阻力小、拉伸强度等机械特性、抗湿滑性和耐磨耗性优异的改性聚合物的制造方法及采用该方法得到的改性聚合物,以及使用了该改性聚合物的橡胶组合物。该改性聚合物的制造方法具有如下工序:进行使烷氧基硅烷化合物与具有碱金属...
树脂组合物及其用途制造技术
本发明的课题在于提供一种树脂组合物,其含有苯乙烯系共聚物和降冰片烯系聚合物,具有优异的相溶性而不会相分离,并且容易成膜。此外,本发明的课题在于提供以该树脂组合物为主要成分、具有优异的透明性的光学膜,进而显示逆波长分散性的光学膜,以及其的...
化学机械研磨用水系分散体以及化学机械研磨方法技术
本发明的化学机械研磨用水系分散体包含(A)在主干聚合物部具有阴离子性官能团的接枝聚合物和(B)磨粒。
液晶取向剂以及液晶取向膜的形成方法技术
本发明涉及液晶取向剂,其含有射线敏感性聚有机硅氧烷,所述射线敏感性聚有机硅氧烷是使下式(1)(式(1)中,RI是氢原子或碳原子数为1~40的一价有机基团,RⅡ、RⅣ和RV分别独立地为氢原子、甲基、氰基或氟原子,RI为氢原子时RⅢ是碳原子...
感光性树脂组合物、感光性薄膜和图案形成方法技术
提供可形成高精度的图案、同时有机成分的热分解性优异、且烧结后的收缩少、含有至少具有1个SH基的碱溶性树脂(A)、多官能(甲基)丙烯酸酯(B)、光聚合引发剂(C)和无机颗粒(D)的感光性树脂组合物;以及使用该组合物的图案形成方法。
铝膜形成用组合物以及铝膜的形成方法技术
本发明涉及铝膜形成用组合物,该组合物含有下式(1)所示的络合物和下式(2)所示的络合物,下式(1)所示的络合物与下式(2)所示的络合物的摩尔比为40∶60-85∶15,AlH3.NR1R2R3(1);AlH3.(NR1R2R3)2(2)...
液晶取向剂、液晶取向膜的形成方法以及液晶显示元件技术
本发明涉及一种液晶取向剂,其含有射线敏感性聚硅氧烷,所述射线敏感性聚硅氧烷是使选自具有下式(1)表示的重复单元的聚硅氧烷、其水解物和水解物的缩合物中的至少一种与具有选自烯基和炔基中的至少一种基团的桂皮酸衍生物反应得到的。(式(1)中,Y...
含有氧化物微粒的有机无机杂化聚合物组合物及其制造方法技术
本发明的含有氧化物微粒的有机无机杂化聚合物组合物,其通过在有 机溶剂中,在碱性化合物、酸性化合物或金属螯合物的存在下,将(A) 硅氧化物微粒和/或金属氧化物微粒与(B)有机无机杂化聚合物混合,使 上述氧化物微粒(A)分散在有机溶剂中而得...
有机硅树脂组合物和沟槽隔离的形成方法技术
本发明涉及有机硅树脂,其特征在于:由下述示性式(1)表示: (H2SiO)n(Si1.5)m(SiO2)k(1);(式(1)中,n、m和k分别为数,n+m+k=1时, n为0.05以上,m超过0但为0.95以下,k为0~0.2),该树脂...
有机金属化合物、捕捉水分和氧气用的组合物、固化物和有机EL元件制造技术
本发明涉及一种选自由下式(I)和(II)表示的化合物构成的群组的至少一种有机金属化合物,和含有该化合物和聚合物的、捕捉水分和氧气用的组合物。[式(II)中,R1分别独立地表示选自氢原子、碳原子数为0~6的直链烷基、支链烷基、环烷基或它们...
液晶取向剂、液晶取向膜的形成方法和液晶显示元件技术
本发明涉及一种液晶取向剂、液晶取向膜的形成方法和液晶显示元件。本发明的液晶取向剂含有选自采用下述式(1)表示的二胺制得的聚酰胺酸及其酰亚胺化物构成的群组中的至少一种聚合物,式(1)中,Ar表示2价的芳香族基团,S1和S2相互独立地表示2...
膜形成用材料、以及含硅绝缘膜及其形成方法技术
本发明提供一种含硅膜形成用材料,含有右述通式(1)所示的有机硅烷化合物。(式中,R↑[1]~R↑[4]相同或不同,表示氢原子、碳原子数1~4的烷基、乙烯基、苯基,R↑[5]表示碳原子数1~4的烷基、乙酰基、苯基,n表示1~3的整数,m表...
液晶取向剂、液晶取向膜的形成方法及液晶显示元件技术
本发明的液晶取向剂含有使肉桂酸衍生物和具有氧杂环丁烷环的聚有机硅氧烷反应而获得的放射敏感性聚有机硅氧烷,所述肉桂酸衍生物具有选自羧基、羟基、-SH、-NCO、-NHR(其中,R为氢原子或碳原子数为1~6的烷基)、-CH=CH2和-SO2...
砜化合物、磺酸盐和放射线敏感性树脂组合物制造技术
本发明涉及具有通式(1)表示的部分结构的化合物。(通式(1)中,R1各自独立地表示氢原子或烃基,R2表示烃基,Rf表示氟原子或全氟烷基,L表示0~4的整数,n表示0~10的整数,m表示1~4的整数。)
液晶取向剂、液晶取向膜的形成方法以及液晶显示元件技术
液晶取向剂,其含有射线敏感性聚有机硅氧烷,所述射线敏感性聚有机硅氧烷是使下式(1)(式(1)中,R1、R2和R3分别独立地为氢原子或一价有机基团,其中R3不为氢原子时R1和R2中的至少一方为羧基或具有羧基的有机基团,R1和R2可以相互键...
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