本发明涉及一种液晶取向膜和相位差薄膜的制造方法、以及液晶取向剂、液晶取向膜和相位差薄膜。其目的在于提供一种能在更低温且短时间热处理的条件下有效地制造膜硬度和贴紧性优异的液晶取向膜的生产性高的液晶取向膜的制造方法、以及液晶取向性和热稳定性...

本发明涉及一种聚硅氧烷组合物、聚硅氧烷组合物的制造方法、显示元件的固化膜及其形成方法。本发明提供可以使保护膜及层间绝缘膜等显示元件的固化膜所需特性得到高水平且兼顾平衡的聚硅氧烷组合物。该聚硅氧烷组合物含有以下成分[A]～[D]：[A]由...

本发明涉及碱性着色剂、着色组合物、滤色器以及显示元件。本发明提供比以往耐热性优异的碱性着色剂。该碱性着色剂具有下式(1)表示的阴离子。式(1)中，R表示由1～16个原子构成的n价有机基团，n表示2～4的整数，其中所述原子不包括氢原子。R...

本发明涉及用于绝缘电线等的止水处理剂用试剂盒、电线止水材料、经止水处理的电线以及止水处理方法。电线止水材料用试剂盒由下述组合物(I)和(II)构成，用于将它们以任意的容量比混合而制备下述电线止水材料。(I)：含有下述(A)～(C)中的1...

本发明涉及发光元件和含粒子层形成用组合物。本发明提供发光效率和耐久性得到改善的发光元件。发光元件(10)具备：基板(11)、第1电极(13)、发光层(15)、第2电极(17)和含粒子层(18)。含粒子层18是含有选自硅氧烷系聚合物、钛氧...

本发明涉及一种液晶取向剂、液晶取向膜、液晶显示元件、聚酰胺酸以及聚酰亚胺。提供用于得到兼具优异的液晶取向性和电压保持性质的液晶显示元件的液晶取向剂。一种液晶取向剂，该液晶取向剂含有由四羧酸二酐和二胺反应得到的聚酰胺酸及其酰亚胺化聚合物中...

本发明涉及一种胆甾醇型液晶显示器的制造方法、胆甾醇型液晶显示器以及液晶取向剂。本发明的目的是提供一种胆甾醇型液晶显示器、以及该胆甾醇型液晶显示器的制造方法、以及用于形成液晶取向膜的液晶取向剂。该胆甾醇型液晶显示器由于具备具有优良液晶取向...

本发明涉及固化性组合物和防反射用层叠体。本发明提供能够形成透明性和防污性优异的固化膜的固化性组合物、具备由该固化性组合物形成的固化膜的防反射用层叠体。本发明的防反射用层叠体，其特征在于，在透明基材上，具有由固化性组合物形成的固化膜，该固...

本发明涉及一种放射线敏感性树脂组合物、固化膜、固化膜的形成方法、滤色器以及滤色器的形成方法。本发明的目的在于提供一种兼具保存稳定性和低温焙烧性能、且具有充分的敏感性的放射线敏感性树脂组合物；以及耐溶剂性、相对介电常数和硬度均优异的作为层...

本发明涉及一种着色组合物、着色组合物的制造方法、着色图案、滤色器、彩色显示元件以及滤色器的制造方法。本发明提供一种使保存稳定性和低温焙烧并存的着色组合物，以及耐显影性、耐热性、耐溶剂性、电压保持率等都优良的着色图案。本发明的着色组合物含...

本发明涉及一种放射线敏感性树脂组合物、固化膜、固化膜的形成方法、滤色器以及滤色器的形成方法。本发明的目的是提供一种兼具保存稳定性和短时间的低温焙烧，且具有足够敏感度和显影性的放射线敏感性树脂组合物；压缩特性、耐热性、相对介电常数、耐溶剂...

本发明涉及一种放射线敏感性树脂组合物、固化膜、固化膜的形成方法和显示元件。该放射线敏感性树脂组合物兼具保存稳定性和低温焙烧的优点，且具有足够的分辨率和放射线敏感度，该固化膜作为固化膜的要求特性的耐热性、耐光性、耐试剂性、平坦性、电压保持...

本发明提供一种橡胶组合物，其可以制备适合于制造耐磨损性、破坏强度、滚动阻力性、抗湿滑性等优异的充气轮胎等的硫化橡胶，该橡胶组合物含有(A)橡胶成分和(B)填充剂，所述(A)橡胶成分含有二烯系橡胶，该二烯系橡胶含有20质量％以上的(a1)...

本发明涉及抗蚀剂图案涂布剂，其在包括：使用第一放射线敏感性树脂组合物，在基板上形成第一抗蚀剂图案的工序（１）、用抗蚀剂图案涂布剂对上述第一抗蚀剂图案进行处理的工序（２）和使用第二放射线敏感性树脂组合物，在用抗蚀剂图案涂布剂处理过的基板上...

亲合层析用填充剂是含有包含交联性乙烯基单体和含环氧基的乙烯基单体的单体混合物的共聚物的多孔性母粒子，配体结合在所述多孔性母粒子上，所述多孔性母粒子具有使该多孔性母粒子所含的环氧基开环而得到的开环环氧基。

本发明的目的在于，提供一种放射线敏感性树脂组合物及使用有该树脂组合物的抗蚀剂图案形成方法，其中，所述放射线敏感性树脂组合物得到的图案形状良好，灵敏度、析像度、ＬＷＲ、显影缺陷、图案抗坍塌性等抗蚀剂基本性能优异，且在液浸曝光时显现出可以抑...

一种放射线敏感性树脂组合物，其含有聚合物（Ａ）、放射线敏感性的酸产生剂（Ｂ）、酸扩散抑制剂（Ｃ）和溶剂（Ｄ），上述聚合物（Ａ）是具有下述通式（ａ－１）表示的重复单元（ａ－１）的聚合物，上述酸扩散抑制剂（Ｃ）含有下述通式（Ｃ－１）表示的碱...

本发明提供一种有效制造Ｎ－羧基氨基酸酐的方法。该Ｎ－羧基氨基酸酐的制造方法的特征在于，包含使氨基酸有机盐化合物与碳酸二酯反应的工序。

本发明提供正型放射线敏感性组合物，其可用于包含进行二次曝光作为规定工序的抗蚀图案形成方法，所述正型放射线敏感性组合物含有（Ｂ）具有酸不稳定基团和交联基团的聚合物、（Ｃ）放射线敏感性酸产生剂和（Ｄ）溶剂。

本发明提供一种放射线敏感性树脂组合物，其可形成分辨性能优异且纳米边缘粗糙度小的化学增幅型抗蚀剂。该放射线敏感性树脂组合物含有（Ａ）具有下述通式（１）所示的部分结构的放射线敏感性酸产生剂、和（Ｂ）树脂。通式（１）中，Ｒ１表示１价烃基等。