本发明提供一种可形成逸气产生少的硬化膜的组合物、硬化膜、有机EL元件及液晶显示元件。所述组合物含有：树脂(A)，具有式(A1)所示的结构单元(A1)与包含环状醚基的结构单元(A2)，且所述结构单元(A1)的含量在所有结构单元100质量％...

本发明涉及一种硬化性组合物、硬化物、发光装置及其制造方法。本发明提供一种由于在涂布对象上的润湿扩展性优异而膜不均少，且硬化后逸气产生少的硬化性组合物。一种硬化性组合物，其含有：(A)20℃下的饱和蒸气压未满0.1kPa的聚合性化合物、(...

本发明提供一种即使温度变化，粘合特性的变化也小的粘合剂用组合物，提供一种生产率和成型加工性、粘合性优异的粘合膜。提供一种能够形成与集电体、隔离件的密合性优异的层、并且能够制造充放电特性优异的蓄电设备的蓄电设备用组合物。本发明的组合物的特...

一种氢化共轭二烯系聚合物，是具有来自共轭二烯化合物的结构单元和来自芳香族乙烯基化合物的结构单元的共轭二烯系聚合物的氢化物，共轭二烯化合物含有丁二烯，该氢化共轭二烯系聚合物是将来自该丁二烯的结构单元的乙烯基键含量为55摩尔％以上的聚合物进...

一种氢化共轭二烯系聚合物，是具有来自共轭二烯化合物的结构单元和来自芳香族乙烯基化合物的结构单元的共轭二烯系聚合物的氢化物，共轭二烯化合物含有丁二烯，该氢化共轭二烯系聚合物相对于聚合物所具有的来自单体的全部结构单元具有30质量％以上的来自...

一种氢化共轭二烯系聚合物，是具有来自共轭二烯化合物的结构单元和来自芳香族乙烯基化合物的结构单元的共轭二烯系聚合物的氢化物，共轭二烯化合物含有丁二烯，该氢化共轭二烯系聚合物是将来自丁二烯的结构单元的乙烯基键含量为50摩尔％以下的聚合物进行...

一种具有来自共轭二烯化合物的结构单元的共轭二烯系聚合物，使用在聚合物末端具有式(1)表示的基团的共轭二烯系聚合物。其中，式(1)中，R

本发明是一种焊料电极的制造方法，其包括：步骤(1)，在具有电极垫的基板上形成感光性树脂组合物的涂膜；步骤(2)，通过将所述涂膜选择性曝光，进而进行显影，而在与电极垫对应的区域形成具有开口部的抗蚀剂；步骤(3)，在所述开口部填充熔融焊料；...

本发明是一种焊料电极的制造方法，其包括：步骤(1)，在具有电极垫的基板上形成感光性树脂组合物的涂膜；步骤(2)，通过对所述涂膜选择性地进行曝光，进而进行显影，而形成在与所述电极垫对应的区域具有开口部的抗蚀剂；步骤(3)，对所述抗蚀剂进行...

本发明提供保持高的免疫球蛋白结合能力和耐碱性的亲和色谱用载体。一种免疫球蛋白结合蛋白质，包含至少1个改性免疫球蛋白结合结构域，该改性免疫球蛋白结合结构域是由如下的氨基酸序列构成的多肽，该氨基酸序列是针对金黄色葡萄球菌蛋白A的选自B结构域...

本发明的课题在于提供一种入射角依存性小，可减少近红外光自倾斜方向入射时的多重反射的光学滤波器。本发明光学滤波器的特征在于：包括基材与所述基材的至少一个面上的电介质多层膜，基材具有含有在600nm以上且小于750nm的波长中具有最大吸收的...

本发明提供一种抑制对被处理体的金属配线等造成的损伤、且可自被处理体的表面有效地去除污染的半导体处理用组合物及使用其的处理方法。本发明的半导体处理用组合物含有3×10

本发明提供一种抑制对被处理体的金属配线等造成的损伤、且可自被处理体的表面有效地去除污染的半导体处理用组合物及使用其的处理方法。本发明的半导体处理用组合物含有钾及钠，当将所述钾的含量设为MK(ppm)、将所述钠的含量设为MNa(ppm)时...

本发明提供一种在应用光取向法的情况下，即便在对膜进行光照射后不进行特别的处理，也可获得耐热性良好且显示出良好的液晶取向性及残像特性的液晶元件的液晶取向剂、液晶取向膜及其制造方法、液晶元件、聚合物以及化合物。液晶取向剂中含有具有式(1)所...

本发明提供一种即便进行低温的后烘烤，也难以进行色移，且耐溶剂性及与基板的密接性良好的着色硬化膜的制造方法。一种着色硬化膜的制造方法，其特征在于：包括下述的步骤(1)～步骤(4)，步骤(1)：将含有(A)着色剂、(B)聚合性化合物及(C)...

本发明是具有下述式(1－1)、(1－2)或者(1－3)表示的第1结构单元和下述式(2)或者(3)表示的第2结构单元的聚合物。下述式(1－1)～(1－3)、(2)和(3)中，R

本发明的聚合物具有下述式(1)表示的第1结构单元、下述式(2)表示的第2结构单元和下述式(3)表示的第3结构单元。R

本发明涉及医疗器材的制造方法和医疗器材，该制造方法包括将器材与含有具有下述重复单元(A)和下述重复单元(B)的聚合物的溶液一起加热的工序、或者使器材与含有具有下述重复单元(A)和下述重复单元(B)的聚合物的溶液的加热物接触的工序。(A)...

本发明的化学机械研磨用处理组合物的特征为：含有(A)水溶性胺、(B)具有含芳香族烃基的重复单元的水溶性聚合物、及水系介质，优选含有(C)具有芳香族烃基的有机酸，且pH为9以上。

使在聚合物末端具有碱金属或碱土金属的共轭二烯系聚合物与式(1)所示的化合物反应来制造改性共轭二烯系聚合物。R