着色硬化膜的制造方法及像素图案的形成方法技术

本发明专利技术提供一种即便进行低温的后烘烤，也难以进行色移，且耐溶剂性及与基板的密接性良好的着色硬化膜的制造方法。一种着色硬化膜的制造方法，其特征在于：包括下述的步骤(1)～步骤(4)，步骤(1)：将含有(A)着色剂、(B)聚合性化合物及(C)感放射线性聚合起始剂的着色感放射线性组合物涂布在基板上而形成涂膜的步骤；步骤(2)：对所述步骤(1)中所获得的涂膜照射放射线(1)的步骤；步骤(3)：对所述步骤(2)中所获得的涂膜进行显影的步骤；步骤(4)：对所述步骤(3)中所获得的涂膜照射放射线(2)的步骤，其中，放射线(1)与放射线(2)可相同，也可以不同。

【技术实现步骤摘要】
着色硬化膜的制造方法及像素图案的形成方法
本专利技术涉及一种着色硬化膜的制造方法及彩色滤光片的像素图案的形成方法。
技术介绍
作为彩色滤光片的制造方法，已知有例如喷墨方式、电沉积法、印刷法、光刻法等，但近年来，光刻法正成为主流。当通过光刻法来制造彩色滤光片时，例如采用如下的方法：将着色感放射线性组合物涂布在基板上而形成涂膜后，隔着具有规定的开口图案的光掩模曝光放射线，继而进行显影来将未曝光部分溶解去除，由此形成图案(专利文献1)。而且，在形成图案后，为了确保耐热性或耐溶剂性、对于基板的密接性、电特性等的可靠性，通常在200℃～250℃的温度下进行30分钟～60分钟左右的后烘烤，由此促进涂膜的硬化。近年来，柔性显示装置受到瞩目，正在研究从先前的玻璃基板替换成柔性的塑料基板。但是，塑料基板通常耐热性低，在200℃～250℃的后烘烤温度下容易引起塑料基板的伸长或收缩。考虑在使用此种塑料基板的情况下不进行后烘烤、或以更低的温度进行后烘烤，但涂膜的硬化容易变得不充分，因此当通过光刻法来反复涂布着色感放射线性组合物时，产生朝邻接的其他颜色的图案进行色移、或者着色图案的耐溶剂性或与基板的密接性下降本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种着色硬化膜的制造方法，其特征在于包括下述的步骤1～步骤4，步骤1：将含有A着色剂、B聚合性化合物及C感放射线性聚合起始剂的着色感放射线性组合物涂布在基板上而形成涂膜的步骤；步骤2：对所述步骤1中所获得的涂膜照射放射线1的步骤；步骤3：对所述步骤2中所获得的涂膜进行显影的步骤；步骤4：对所述步骤3中所获得的涂膜照射放射线2的步骤，其中，放射线1与放射线2可相同，也可以不同。

【技术特征摘要】
2016.04.26 JP 2016-088111;2016.11.18 JP 2016-225171.一种着色硬化膜的制造方法，其特征在于包括下述的步骤1～步骤4，步骤1：将含有A着色剂、B聚合性化合物及C感放射线性聚合起始剂的着色感放射线性组合物涂布在基板上而形成涂膜的步骤；步骤2：对所述步骤1中所获得的涂膜照射放射线1的步骤；步骤3：对所述步骤2中所获得的涂膜进行显影的步骤；步骤4：对所述步骤3中所获得的涂膜照射放射线2的步骤，其中，放射线1与放射线2可相同，也可以不同。2.根据权利要求1所述的着色硬化膜的制造方法，其特征在于：放射线2包含波长405nm及波长436nm，且相对于波长405nm的峰值强度及波长436nm的峰值强度中的更小的峰值强度，波长313nm及波长365nm中的峰值强度为1/4以下。3.根据权利要求1或2所述的着色硬化膜的制造方法，其特征在于：A着色剂含有染料。4.根据权利要求1或2所述的着色硬化膜的制造方法，其特征在于：着色感放射线性组合物进而含有D感放射线性酸产生剂，所述D感放射线性酸产...

【专利技术属性】
技术研发人员：柳政完，杉田光，河合孝広，田中圭，佐藤光央，
申请(专利权)人：JSR株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP