本发明公开了一种具备清洗功能的显影设备，具体涉及到显影技术领域，型材架上设置有中控台，中控台控制整体设备的电控程序，型材架上设置有亚克力板，亚克力板对内部结构进行防护，亚克力板内设置有点胶机构，点胶机构对晶片进行点胶、匀胶和去边，亚克力...

本发明公开了一种具有胶头保湿防凝结功能的匀胶设备，属于匀胶机技术领域，包括底座，所述底座上固定安装有主机，所述主机内还滑动安装有点胶机臂，所述点胶机臂远离主机的一端滑动安装有储胶罐，所述储胶罐内设置有点胶管，所述点胶管为圆柱形，所述点胶...

本实用新型涉及机械密封技术领域，公开了一种抗漏液密封装置，包括：从上到下依次排列并设置在排液管外部的上部压片、中部压片和下部压片；连接在所述中部压片顶部和底部的密封圈；其中，所述中部压片的顶部和底部均开有与所述密封圈相匹配的密封槽，所述...

本发明涉及半导体领域，尤其涉及一种匀胶显影集成式工作台。技术问题：提供一种能够将每个功能的模块集成起来的匀胶显影集成式工作台。为了解决上述技术问题，本发明包括有支撑架、工作台和上片组件等；工作台呈圆形并置于支撑架上，工作台沿周向开有多个...

本实用新型公开了一种半导体方形晶圆校正装置，包括机体，所述机体上表面的两侧对称固定有夹持组件和位置感应组件，所述位置感应组件位于机体的一端，所述夹持组件位于位置感应组件的一端，所述机体上表面中部滑动安装有移动手臂，所述移动手臂包括限位板...

本实用新型涉及一种烘烤装置，尤其涉及一种匀胶显影机用光刻材料烘烤装置。本实用新型提供一种一次性可以对多个晶圆进行烘烤，烘烤效率高的匀胶显影机用光刻材料烘烤装置。一种匀胶显影机用光刻材料烘烤装置，包括有底架、外框、放置框和拉杆等，外框底部...

本实用新型涉及晶圆拿取技术领域，具体涉及一种匀胶显影机的晶圆拿取装置。本实用新型提供一种能多角度拿取晶圆的匀胶显影机的晶圆拿取装置。本实用新型提供了这样一种匀胶显影机的晶圆拿取装置，包括有基座、控制终端、电机和辅助拿取机构等；基座上设置...

本实用新型涉及匀胶显影机技术领域，尤其涉及一种匀胶显影机显影液便捷更换设备。本实用新型的技术问题为：提供一种采用抽屉式存储显影液的匀胶显影机显影液便捷更换设备。本实用新型提供了这样一种匀胶显影机显影液便捷更换设备，包括有显影机本体、储液...

本实用新型涉及一种喷洒装置，尤其涉及一种匀胶显影机的显影液喷洒装置。本实用新型提供一种喷洒均匀的匀胶显影机的显影液喷洒装置。一种匀胶显影机的显影液喷洒装置，包括有工作台、承载架和放置架等，工作台前侧连接有承载架，工作台顶部连接有用于放置...

本实用新型涉及一种冷却装置，尤其涉及一种匀胶显影机的晶圆冷却装置。提供一种能够提升效率、冷却效果好的匀胶显影机的晶圆冷却装置。一种匀胶显影机的晶圆冷却装置，包括有密封室、冷却室、晶圆托盘、循环水机构、输液管、辅助装料机构和循环水机构等；...

本实用新型涉及一种固定装置，尤其涉及一种匀胶显影机的安装固定底座。提供一种能够进行高度调节的匀胶显影机的安装固定底座。一种匀胶显影机的安装固定底座，包括有显影机、支撑块、底架、滑杆、上升块、气缸、显影机和限位机构等；两个底架共同固接支撑...

本实用新型涉及匀胶显影机清洗技术领域，具体涉及一种匀胶显影机表面清洗装置。本实用新型提供一种具有清洗高效且工人劳动强度小的匀胶显影机表面清洗装置。本实用新型提供了这样一种匀胶显影机表面清洗装置，包括有显影机壳体、储液箱和挡板等；显影机壳...

本实用新型涉及一种烘干装置，尤其涉及一种匀胶显影机硅片烘干装置。本实用新型提供一种能够让硅片均匀受热、提高烘干效率的匀胶显影机硅片烘干装置。一种匀胶显影机硅片烘干装置，包括有壳体、伺服电机、连接轴、承托盘、支撑架和安装架等；壳体内下部安...

本实用新型涉及废液回收技术领域，具体涉及一种匀胶显影机的废液回收装置。本实用新型提供一种能对匀胶显影机的废液进行充分过滤和净化的匀胶显影机的废液回收装置。本实用新型提供了这样一种匀胶显影机的废液回收装置，包括有储液箱、滤网、排污管和活性...

本实用新型涉及一种冷却装置，尤其涉及一种光刻胶匀胶显影机的冷却装置。本实用新型的技术问题：提供一种可以进行接触式的冷却，冷却效率较高的光刻胶匀胶显影机的冷却装置。一种光刻胶匀胶显影机的冷却装置，包括有冷液存放盒、支撑架、放置台和冷却管等...