花王株式会社专利技术

花王株式会社共有4110项专利

  • 本发明提供一种研磨液组合物,其含有采用硅酸盐制造的胶体氧化硅和水,所述胶体氧化硅的一次粒子的平均粒径不小于1nm且不足40nm,其中所述胶体氧化硅表面的硅烷醇基密度相对于每1g胶体氧化硅为0.06~0.3mmol;提供一种所述研磨液组合...
  • 本发明涉及研磨液组合物及研磨粒子调配液,含有研磨材料和水,pH值为0.1~7,且满足以下条件:(1)在每1cm↑[3]的研磨液组合物或研磨粒子调配液中,大于等于0.56μm但不足1μm的研磨粒子为500000个或以下,(2)大于等于1μ...
  • 本发明提供一种玻璃基板用研磨液组合物,其含有一次粒子的平均粒径为1~100nm的氧化硅、具有磺酸基的聚合物和水;并提供使用该玻璃基板用研磨液组合物的玻璃基板的制造方法以及玻璃基板的表面污染的减少方法。本发明的玻璃基板用研磨液组合物,例如...
  • 本发明提供一种表面活性剂组合物,该组合物含有阳离子性表面活性剂(以下称之为化合物(A))、选自阴离子性芳香族化合物和溴代化合物之中的1种或多种化合物(以下称之为化合物(B))、和阳离子性聚合物(C),其中,将化合物(A)的水溶液S↓[A...
  • 本发明提供一种研磨液组合物,以及使用该研磨液组合物的基板的研磨方法。所述研磨液组合物含有二氧化硅、酸、表面活性剂和水,其中(a)25℃时酸在水中的溶解度大于等于1g/100g饱和水溶液,(b)表面活性剂为以通式(1)或(2)所示的磺酸或...
  • 本发明提供了硬盘基板用研磨液组合物以及使用了该研磨液组合物的硬盘基板的制造方法,该研磨液组合物优选含有氧化铝粒子和水,其中氧化铝粒子的二次粒子的体积中值粒径为0.1-0.7μm,氧化铝粒子中的粒径为1μm以上的粒子的含量为0.2重量%以...
  • 本发明提供含有阴离子性芳香族化合物、阳离子性表面活性剂、比表面积为5000cm↑[2]/g以上的无机粉末的粉末状流变改性剂。
  • 本发明提供一种玻璃基板用研磨液组合物,其含有平均粒径为5~100nm的二氧化硅粒子,其特征在于:在通过电子显微镜照片的图像解析而求出的该二氧化硅粒子的投影图像中,该二氧化硅粒子的投影面积(A1)与该二氧化硅粒子的最大内接圆面积(A)的面...
  • 本发明为一种液态流变改性剂,其含有化合物(A)、化合物(B)和二羧酸(C),所述化合物(A)、化合物(B)是从下述组合中选择的:(1)选自阳离子性表面活性剂的化合物(A)和选自阴离子性芳香族化合物的化合物(B)的组合、(2)选自阳离子性...
  • 一种研磨液组合物,含有研磨材、水、和有机酸或其盐,其剪切速度1500s↑[-1]时的在25℃的特定粘度为1.0-2.0MPa.s;一种端面下垂降低剂,由具有用下式表示(粘度降低量=基准研磨液组合物的粘度-含有端面下垂降低剂的研磨液组合物...
  • 本发明的发热体含有被氧化性金属、保湿剂、水分、用作氧化助剂的电解质和粒状硬化抑制剂。优选所述粒状硬化抑制剂是具有所述被氧化性金属的平均粒径的25%以下的平均粒径的微小粉体。优选所述被氧化性金属和所述粒状硬化抑制剂的质量含量比为所述被氧化...
  • 一种存储硬盘用基板的研磨液组合物,含有水和二氧化硅粒子,其中二氧化硅粒子具有如下的粒径分布,其中,粒径(R)和累积体积频率(V)的关系满足式(1)和式(2),该关系体现在粒径一累积体积频率的图中,该图通过绘制二氧化硅粒子的累积体积频率(...
  • 本发明提供含有阳离子性表面活性剂(b)的粉体的制造方法,其中,将混合阴离子性芳香族化合物(a)、阳离子性表面活性剂(b)和水而获得的增稠体加热至规定温度后供于干燥工序。
  • 提供一种胶粘用水性乳液,其生产方法为按单体混合物的总重量计,将至少含50重量%的其烷基部分的碳原子数为9~13的(甲基)丙烯酸长链烷基酯的单体混合物,在表面活性剂水溶液中乳化成平均粒径为2.0μm以下的微颗粒,然后在水溶性的聚合引发剂的...
  • 本发明提供了混砂的造型性良好的刮型造型用粘合剂组合物。该粘合剂组合物包含碱性酚醛树脂水溶液(A)、有机环氧化合物及/或有机酯(B)及含氧阴离子化合物(C),(B)和(C)的含量分别对应于(A)有特定比例。
  • 本发明涉及一种抛光组合物,它含有氧化硅颗粒、水和聚氨基羧酸的铁盐和/或铝盐;本发明还涉及一种使用该抛光组合物的抛光方法;涉及一种制造磁盘基片的方法,它包括用该抛光组合物抛光基片的步骤;还涉及使用该抛光组合物制得的磁盘基片。
  • 本发明涉及一种含磨料和水的抛光组合物,其中所述磨料的粒度分布是:(1).D90与D50的比值(D90/D50)为1.3-3.0,(2).D50为10-600纳米,其中所述的D90定义为累积粒度分布中在数目基础上从小粒度一侧计数至90%的...
  • 一种抛光组合物,它包含平均初级粒度为200纳米或更小的磨料、氧化剂、pK1为2或更小的酸和/或它的盐、和水,其中抛光组合物的酸值为20~0.2毫克KOH/克;一种减少基片上微小擦痕的方法,它包括使用上述的抛光组合物抛光欲被抛光的基片;以...
  • 一种抛光液组合物,其为含有水和硅石粒子的、用于存储器硬盘所用基板的抛光液组合物,对通过透射式电子显微镜(TEM)观察前述硅石粒子测定得到的该硅石粒子的粒径(nm)从小粒径侧开始的累积体积频率(%)进行绘图得到的该硅石粒子的粒径对累积体积...
  • 本发明涉及非水性颜料分散剂和颜料分散组合物。该非水性颜料分散剂由具有(a)源于在单末端具有乙烯性不饱和双键的含氮原子聚合性大分子单体的结构单元和(b)源于具有能与形成(a)的大分子单体共聚的乙烯性不饱和双键的单体的结构单元的共聚物,或者...