本发明提供一种歧管阀组件，其用于构成在半导体制造工序等中为了分析作为晶片和化学品的污染源的金属等元素而将微量试样传送至分析仪的工序中需要的多个组合的阀组件，并且阀的组合没有限制，减少阀内部的停滞区域，具有优化试样的使用、改善污染问题的效...

本发明提供一种用于容易处理供应至检测晶片等的污染度的分析仪的化学品和纯净水等工序化学物质的化学品压力容器，具体地提供一种化学品压力容器，其使用由金属元素产生的污染较少的氟材料，以避免来自高反应性化学物质的工序污染，并且，在高压下不存在破...

本发明涉及扫描系统，更详细地，涉及一种对于进行标准试样化处理的晶圆的斜面区域进行扫描，并能够迅速地洗涤在扫描工艺中使用的斜面喷嘴的扫描系统。为此，本发明的扫描系统，包括：斜面扫描喷嘴部(10)，其在斜面喷嘴的下端侧形成有使得晶圆的斜面部...

本发明的基板污染物分析装置，作为接受引入的半导体制造工艺中的监控晶圆并进行气相沉积之后，将利用扫描喷嘴扫描所述监控晶圆的样品溶液通过流路从所述扫描喷嘴移送到分析器为止，以所述分析器进行分析的基板污染物分析装置，其特征在于，包括：再生单元...

本发明公开一种基板污染物分析装置及基板污染物分析方法。根据本发明的基板污染物分析方法，包括隔着时间间隔向所述分析对象基板顺次供应用于蚀刻分析对象基板的蚀刻溶液的液滴和用于所述蚀刻溶液的稀释的稀释溶液的液滴的过程，所述蚀刻溶液及所述稀释溶...

本发明涉及在线污染监测系统及方法。本发明的在线污染监测系统特征在于，包括：取样单元(100)，通过与使用、存储或供应化学制品的点连接的线而导入所述化学制品，并生成要传输的传输样品；主系统(200)，从所述取样单元接收所述传输样品而通过分...

本发明的基板污染物分析装置，作为将从分析对象基板利用扫描喷嘴扫描的样品溶液通过流路从所述扫描喷嘴移送到分析器的基板污染物分析装置，其特征在于，包括：样品管，具有装载所述样品溶液的空间；转换阀，与所述样品管结合，至少具有将所述样品溶液装载...