化学品压力容器制造技术

本发明专利技术提供一种用于容易处理供应至检测晶片等的污染度的分析仪的化学品和纯净水等工序化学物质的化学品压力容器，具体地提供一种化学品压力容器，其使用由金属元素产生的污染较少的氟材料，以避免来自高反应性化学物质的工序污染，并且，在高压下不存在破损、变形、漏气等问题，且提高结构安全性。且提高结构安全性。且提高结构安全性。

【技术实现步骤摘要】
化学品压力容器


[0001]本专利技术涉及一种化学品压力容器，为了检查空气、化学气体、液体和半导体基板等的污染度，而将含有化学品(chemical)和纯净水(DIW)等工序化学物质的储存液单独储存并保管，并提供至分析仪或晶片等，所述储存液的保管前或后，迅速清洗/稀释容器内部，减少污染发生，能够顺利移送高纯度储存液，具体涉及如下的化学品压力容器，由几乎没有金属污染源的材料的容器和盖制成，即使因吹扫气体等而容器内部的压力发生变化，也能够保持密封状态。

技术介绍

[0002]一般的半导体晶片制造工序包括各种工序，每道工序都要对半导体设备或晶片表面进行金属异物检查，测定其金属含量，分析晶片等的金属异物的污染程度。
[0003]尤其，在半导体器件制造中用作基板的硅晶片，在晶片制造和半导体器件制造过程中由于受到硅晶片的表面和内部所含的铁、铜、铝、镍等金属异物的污染，性能受到很大影响。即，即使在半导体制造工序中存在微量的这样的金属异物，也会对特性造成很大影响，严重时整个半导体装置不能发挥其功能，而需要废弃整个半导体装置，导致半导体装置整体的收率降低等本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种化学品压力容器，其为用于储存并移送提供给分析仪或晶片扫描设备、外部装置的储存液的化学品压力容器，其特征在于，包括：容器本体部，提供用于收纳含有试样或工序化学物质的储存液的内部空间；以及盖部，覆盖所述容器本体部，以封闭所述内部空间；出入部件，设置在所述盖部或容器本体部，将储存液引入所述容器本体部的内部空间；固定部件，用于将所述盖部和容器本体部相互结合并固定，所述容器本体部和盖部由氟树脂形成，以对所述储存液具有耐化学性或耐腐蚀性。2.根据权利要求1所述的化学品压力容器，其特征在于，所述出入部件包括：第一管线，用于将含有试样或工序化学物质的储存液供应至所述容器本体部的内部空间；以及第二管线，用于向所述容器本体部的内部空间供应惰性气体，所述容器本体部的内部空间中储存的储存液通过所述惰性气体产生的内部压力供应至分析仪或晶片扫描设备、外部装置，或者排出到压力容器的外部。3.根据权利要求2所述的化学品压力容器，其特征在于，所述出入部件还包括用于将所述容器本体部的内部空间中储存的储存液供应至分析仪或晶片扫描设备、外部装置的汲取管，所述汲取管的一端以浸渍在所述储存液的状态配置。4.根据权利要求2所述的化学品压力容器，其特征在于，所述容器本体部为用于承受所述惰性气体产生的内部压力的结构，由所述盖部封闭的部分的面积形成为小于内部空间的截面积。5.根据权利要求2所述的化学品压力容器，其特征在于，所述容器本体部在底部设有用于排出所述储存液的排出部或者在上部一侧设有溢流排出部，以对内部空间进行清洗。6.根据权利要求1所述的化学品压力容器，其特征在于，还包括密封部件，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：林光信，朴准虎，金成哲，金延花，
申请(专利权)人：非视觉污染分析科学技术有限公司，
类型：发明
国别省市：