东丽株式会社专利技术

东丽株式会社共有4103项专利

  • 本发明提供一种触控式面板用复合透明导电性基材,其可满足描绘型触控式面板所必需的特性,该触控式面板用复合透明导电性基材在结构上顺序地层合有由聚合物薄膜或聚合物片构成的基材(A)、透明导电层(B)和介电层(C),介电层(C)由在温度20℃、...
  • 本发明涉及多孔碳片,该多孔碳片是将分散的碳短纤维用树脂碳化物粘接而成,上述片所具有的微孔的微孔模径为45~90μm、上述碳短纤维的平均纤维直径为5~20μm。该多孔碳片是将含有单位面积重量为15~30g/m↑[2]的碳短纤维和单位面积重...
  • 本发明公开了一种双轴取向叠合聚酯薄膜,它具有至少两层的叠层结构。至少薄膜最外层之一是厚度不大于3μm的薄叠合层A。在层A中,存在着内部形成的颗粒和特定的聚集颗粒或单分散性颗粒,或者存在少量的单分散性颗粒。当该聚酯薄膜用作磁性记录介质的基...
  • 本发明是在用芳香族聚酰胺或芳香族聚酰亚胺制成的片基一面涂敷磁性层的磁性记录介质。本发明是关于以满足以下指标为特征的磁性记录介质:其片基涂敷磁性层一面的表面粗大突起个数H↓[2]、非磁性层一面的表面粗大突起个数H↓[3]满足: H↓...
  • 通过非晶相和结晶相之间的相变化来进行信息的记录和抹除,并在纹间表面和沟纹两方进行记录的光记录媒体,其特征在于至少具有记录层、电介质层和反射层;镜面部分的结晶状态的反射率大于15%而小于35%。本发明的光记录媒体其沟纹深度形成重放光的波长...
  • 本发明涉及磁记录介质,其中在由芳香族聚酰胺制成的基底薄膜的至少一面上设置磁性层,其特征在于该基底薄膜至少一个方向上的拉伸杨氏模量为700kg/mm↑[2]以上,二氯甲烷提取物含量在0.5%以下,该基底薄膜纵长方向上每1mm↑[2]施加1...
  • 一种聚酯组合物,含有聚酯组分(a)和聚合物微粒(b)。聚合物微粒(b)的至少一个最外层是有羟基的聚合物。该聚合物可以制成特别适用作磁性记录介质的基质的薄膜。
  • 本发明提供移行性和耐擦痕性优良的、作为磁记录介质时的S/N之比良好的薄膜。一种以芳族聚酰胺和/或芳族聚酰亚胺为主成分、并在该成分中含有粒子的薄膜,在该膜的至少一面,粒子浓度最初显示极大值的深度作为dmax,比dmax深从表面到1μm的范...
  • 本发明涉及芳香族聚酰胺薄膜,其特征在于,在该薄膜的至少一面,高20nm-50nm突起的数目为10↑[3]-10↑[6]/mm↑[2],高50nm-100nm突起的数目为0-3x10↑[4]/mm↑[2]。此外,本发明还提供制备芳香族聚酰...
  • 平面性优异、即使在加工时或制品使用时的高温下也不发生卷缩等平面性恶化的薄膜。本发明的薄膜是从芳香族聚酰胺和/或芳香族聚酰亚胺制成的薄膜,在薄膜的断面方向上从喇曼光谱求出的取向度最大值Pmax,最小值Pmin和平均取向度Pavr满足下式:...
  • 一种光记录媒质具有高硬度层、第一绝缘层、记录层、第二绝缘层和反射层。高硬度层的硬度大于第一绝缘层的硬度,并且第二绝缘层的厚度在3到50mm的范围内。这种可重写相变化式光记录媒质显示出在频繁重写扇区的写开始部分和写结束部分中减少损坏,并且...
  • 本发明提供了芳族聚酰胺树脂类模塑制品,该模塑制品包括至少一个具有下述性能的表面,其均方根糙度等于或大于1.0纳米、10点平均糙度等于或小于80纳米,两种糙度均以原子力显微镜测定,至少一个方向的拉伸杨氏模量等于或大于9.8GPa。这类芳族...
  • 本发明提供芳族聚酰胺膜和在该膜的一面设有磁性层的磁记录媒体,本发明膜的特征在于:在80kg/cm↑[2]的负荷下,220℃的横向热收缩率为0.2~8%,设有磁性层面的相反面的十点平均粗糙度Rz为10~200纳米。使用高温热收缩率及表面性...
  • 本发明的芳香族聚酰胺薄膜为由至少2层构成的层合膜,其特征在于,该薄膜的至少一侧最外层(A层)含有芳香族聚酰胺和一种以上的异种聚合物,该异种聚合物的含量为0.1重量%~10重量%,而且,当A层的厚度为d(μm)、异种聚合物的相当于圆的直径...
  • 本发明提供一种相变型光记录介质,在其衬底中至少依次层叠有第一介电层、与记录层接触的第一边界层和记录层。第一边界层主要包括从周期表中从第二到第六周期的ⅢA族到ⅥB族的元素的氧化物、碳化物或氮化物,碳,或碳和氧和/或氮的复合物中选择的一种物...
  • 擦除特性好且图象跳动小、难于产生交叉擦除、品质难于劣化且保存耐久性好的可改写相变化型光记录媒体和光记录装置。在基板上边依次至少具备第1电介质层、第1边界层、记录层、第2边界层、吸收量修正层和反射层,具有特定的记录层组成,且第1边界层和第...
  • 磁记录介质,以芳族聚酰胺为主成分的基膜的至少一面上直接设置的磁性层表面10nm以上的突起数Na#-[(10)](个/mm#+[2])、50nm以上的突起数Na#-[(50)](个/mm#+[2])及基膜磁性层设置侧的同一面上10nm以上...
  • 提供从制品的卷芯部分至表层部分全长电磁变换特性优、记录信号失漏少、适于制数字录像磁带的基膜。至少由聚酯层A和聚酯层B叠层的膜,层A侧表面中心线面平均粗糙度(SRa值)为2~4nm、10点平均面粗糙度(SRz值)为10~40nm、层B中含...
  • 提供一种磁道偏移小、运行耐久性和保存稳定性优良的、适用于作为高密度磁记录媒体用带基薄膜的双轴取向聚酯薄膜及其制造方法。本发明的目的是通过在49℃、90%RH的条件下,在纵向施加32MPa荷重的状态下放置72小时时的横向尺寸变化率(A)在...
  • 本发明的目的在于提供一种特别是用于磁记录介质时,电磁转换特性、走行耐久性和对磁头的走行性优良的高品质双向取向薄膜。本发明的目的是通过下述双向取向薄膜实现的,其特征在于它由以聚酯(聚合物1)和聚酯以外的热塑性树脂(聚合物2)作为必须成分的...