【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及聚酯组合物和由其制造的薄膜。更具体地说，本专利技术涉及能够模塑形成产物特别是具有很好的滑爽性和耐磨性能薄膜的聚酯组合物和由其制造的薄膜。聚酯由于其极好的性能，所以广泛地用于各个领域，例如，用作磁带、电器应用，照像、覆金属和包装用的薄膜。聚酯薄膜，特别是聚乙烯对苯二甲酸酯薄膜和聚乙烯-2，6-萘酸酯薄膜在平坦度、机械强度、化学性能、二维稳定性等方面是很好的，并且适用作磁记录介质等的基膜。用于磁记录介质的基膜需要薄膜的表面有很好的平坦度、滑爽性和耐磨性能等。例如，用于作录像磁带，需要基膜的表面较平，以达到较高的精度。但是，如果该表面变得较平，滑爽性会下降，表面的磨擦和磨损就增加，因此使得产生很多缺陷，例如表面伤痕和磨屑。在这种情况下，如果薄膜的表面耐磨性能很差，在生产磁带的过程中，薄膜就会产生很多磨屑，并且当其用磁层涂覆时，其就不能很好的被涂覆，留下一些未涂的部分，使得该部分就不能磁录(遗失信息)。此外，使用磁带时，当使用普通的录/放模式时，其就在与录制机导销接触的情况下运行，或者在生产软带等的高速翻印机中高速翻印的过程中其在与机械部件接触的情况下...
【技术保护点】
一种聚酯组合物，含有（ａ）一种聚酯组分和（ｂ）聚合物微粒，该聚合物微粒选自：（ｉ）包括有羟基的聚合物的微粒，这些微粒的体积平均粒径为０．００５－２．０μｍ；和（ｉｉ）微粒，是多层微粒，其至少一个最外层是由聚合物提供的，该聚合物带有羟 基。
【技术特征摘要】
JP 1995-7-27 192317/951.一种薄膜，其含有(a)一种聚酯组合物作为基质组分，(b)一种作为颗粒组分的聚合物微粒，该聚合物微粒占薄膜重量的0.005-3.0％并选自(i)含有具有羟基的聚合物的微粒，这些微粒的体积平均粒径为0.005-2.0μm；和(ii)微粒，是多层微粒，其至少一个最外层是由聚合物提供的，该聚合物带有羟基。2.根据权利要求1的薄膜，其中聚合物微粒的体积平均粒径为0.02-1.0μm。3.根据权利要求1的薄膜，其中所说的微粒的至少一个最外层含有具有由式(1)所表示的结构单元的聚合物， 式(1)。4.根据权利要求3的薄膜，其中所说的微粒的至少一个最外层含有具有由式(2)所表示的结构单元的聚合物， 式(2)5.根据权利要求1的薄膜，其中所说的羟基的含量为每克微粒含1×10-5-1×10-2摩尔羟基。6.根据权利要求5的薄膜，其中所说的羟基的含量为每克微粒含1×10-4-5×10-2摩尔羟基。7.根据权利要求1的薄膜，其中所说的具有羟基的聚合物有交联的聚合物部分，至少一部分所说的羟基位于所说的交联的聚合物部分。8.根据权利要求1的薄膜，其中所说的具有所说的羟基的聚合物，另外含有不饱和一价酸的残基。9.根据权利要求1的薄膜，其中所说的聚合物微粒的至少一个最外层基本上是由含有由(i)不饱和一价酸B和具有至少两个缩水甘油基的化合物A的加成物和(ii)具有至少一个乙烯基的化合物C衍生的残余物的共聚物组成的。10.根据权利要求9的薄膜，其中所说的化合物A具有至少一个环结构单元。11.根据权利要求10的薄膜，其中所说的环结构单元含有选自苯、环己烷、环己烯和环己二烯环的一个环。12.根据权利要求10的薄膜，其中所说的化合物A具有至少二个环结构单元。13.根据权利要求12的薄膜，其中所说的化合物A含有由选自双酚A和其衍生物的化合物衍生的残余物。14.根据权利要求1的薄膜，其中聚合物微粒的热分解温度至少是350℃。15.根据权利要求1的薄膜，其中所说的聚酯是聚对苯二甲酸乙二酯。16.根据权利要求1的薄膜，其中所说的聚酯是聚2，6-萘二酸乙二酯。17.根据权利要求1的薄膜，其中，除了所说的颗粒组分(b)之外，还含有0.005-3.0％(重)的微粒A，微粒A的体积平均粒径为0.005-1.0μm，比所说的聚合物微粒(b)至少小0.1μm，微粒A的比表面积是10m2/g和其莫斯硬度至少是6。18.根据权利要求17的薄膜，其中所说的微粒A是由至少一种选自氧化硅、氧化铝、氧化锆、氧化钛、尖晶石和氧化铁的物质制成的。19.根据权利要求1的薄膜，其中，除了...
【专利技术属性】
技术研发人员：青山雅俊，小岛博二，铃木胜，
申请(专利权)人：东丽株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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