本申请提供一种大型立式高温旋转炉，包括：热熔炉、加热件、托盘和快冷机构，热熔炉包括炉盖、炉体和炉底盘，炉盖连接于炉体一端，炉底盘被配置为可远离和靠近炉体；加热件位于炉体内；托盘转动设置于炉底盘上，且炉底盘上设置有用于驱动托盘转动的旋转机...

本申请涉及一种剪叉自锁防脱限位式吊具，其包括吊具本体，包括第一吊件和第二吊件，所述第一吊件和所述第二吊件均包括钩挂夹持部、铰接部和开合部，所述第一吊件和所述第二吊件的铰接部铰接形成剪叉式结构，所述钩挂夹持部用于伸入炉底的大孔并与大孔底部...

本申请涉及阀板水路系统的领域，尤其是涉及一种闸阀用不易堵塞的水路结构，其包括阀板，设置在闸阀内，将闸阀分割成两部分，所述阀板在闸阀内上下移动，用于隔断两端的水路；外部水路，设置在所述阀板的至少一侧，所述外部水路用于将所述阀板的外部进行降...

本申请涉及真空热处理的技术领域，尤其是涉及一种真空水冷电机气路机构。真空水冷电机气路机构包括主管道、充气阀、放气阀、抽真空阀；所述主管道设置有用于与气源连接的进气端和用于与水冷电机连接的出气端，所述充气阀设置在进气端和出气端之间；所述放...

本申请涉及一种

本申请涉及一种微小型电极装置及真空热处理设备，涉及热处理设备的技术领域，电极装置包括电极杆和电极法兰，电极法兰与电极杆相互连接，电极法兰厚度方向沿电极杆轴向设置，电极法兰上沿自身厚度方向贯穿开设有若干个安装定位孔；电极法兰上贯穿开设有若...

本申请涉及一种网格化设计的磁控溅射防腐镀膜用托盘，涉及镀膜设备技术领域，为了解决待镀膜工件的尺寸不一，普通托板不易对不同尺寸的待镀膜工件进行固定的问题，其包括框型基座

本申请涉及线缆施工的技术领域，具体涉及一种立式放线架及放线装置，放线装置包括堆叠的至少2个立式放线架，每个立式放线架包括底座；中心轴承，其沿径向定位于所述底座上方；转盘，其同轴支撑于所述中心轴承上，且相对于所述中心轴承沿径向定位，其中，...

本申请涉及晶体加工设备的技术领域，具体涉及一种连续直拉单晶加料坩埚及单晶炉，单晶炉包括炉体；导流筒，其可升降支撑设于炉体内，直拉单晶时，导流筒底端距离石英坩埚内生长液面

本实用新型公开了一种具有水冷流道的蒸镀装置，涉及蒸镀装置冷却的技术领域，包括：真空容器设置有腔室横板，腔室横板上开设有第一通孔；法兰盘，固定连接在腔室横板的外侧壁，法兰盘开设有第二通孔，第二通孔与第一通孔相互连通；电子枪，与法兰盘固定连...

本申请公开了一种

本申请公开了一种蒸镀用电子束偏置设计方法及蒸镀设备，涉及蒸镀的技术领域，包括如下步骤：确定入射角度初始值

本申请涉及一种

本申请属于磁控溅射领域，尤其是涉及一种防基材磁化的

本申请涉及一种用于单晶炉副室内晶棒的稳定装置，涉及单晶硅生产设备的技术领域，稳定装置包括若干个夹具机构，若干个夹具机构呈圆周分布；夹具机构包括安装座

本申请涉及金属有机物化学气相沉积的领域，尤其是涉及一种MOCVD用石墨盘烤盘炉，包括石墨盘本体、用于放置需清洁的石墨盘本体的炉体、设置在所述炉体内用于对所述炉体内部进行加热的加热器、设置在所述炉体底部的石墨盘旋转装置、用于向所述炉体内部...

本申请涉及一种防料盘倾覆的双层自动上下料系统，包括辊道架、传送辊道、防倾覆料架和转运机构；传送辊道沿辊道架的长度方向传动，传送辊道上方设置有防倾轮组，防倾轮组沿辊道架宽度方向间隔设置有两组，防倾轮组包括多个沿辊道架长度布设的防倾轮，两组...

本申请涉及一种微小型电极装置及真空热处理设备，涉及热处理设备的技术领域，电极装置包括电极杆和电极法兰，电极法兰与电极杆相互连接，电极法兰厚度方向沿电极杆轴向设置，电极法兰上沿自身厚度方向贯穿开设有若干个安装定位孔；电极法兰上贯穿开设有若...

本申请属于磁控溅射领域，尤其是涉及一种防基材磁化的PVD磁控溅射设备，其包括多个阴极磁棒和与阴极磁棒一一对应的靶材，靶材为套设于阴极磁棒外围的靶料圆筒，阴极磁棒包括至少三个磁条，磁条贴附于靶材的内壁，且与靶材平行等长；每个阴极磁棒中的磁...

本申请涉及金属有机物化学气相沉积的领域，尤其是涉及一种MOCVD用石墨盘烤盘炉，包括石墨盘本体、用于放置需清洁的石墨盘本体的炉体、设置在所述炉体内用于对所述炉体内部进行加热的加热器、设置在所述炉体底部的石墨盘旋转装置、用于向所述炉体内部...