浜松光子学株式会社专利技术

浜松光子学株式会社共有2224项专利

  • 屏蔽板以及测定装置
    屏蔽板是用于测定对象的温度的非接触测定的屏蔽板,具备能够调整温度的基材,基材具有形成于屏蔽板的中心屏蔽部、形成于中心屏蔽部周围的开口部、在基材的一个面上以包含夹持中心屏蔽部而与开口部相对的部分的方式形成并且放射红外线的黑体面。
  • 法布里‑珀罗干涉滤光片以及光检测装置
    本发明所涉及的法布里‑珀罗干涉滤光片的特征在于:具备:基板,具有互相相对的第1表面以及第2表面;第1层结构体,被配置于第1表面;第2层结构体,被配置于第2表面;在第1层结构体中设置通过空隙互相相对并且互相的距离为可变的第1反射镜部以及第...
  • 表面增强拉曼散射单元
    表面增强拉曼散射元件具备:基板,其具有主面;成形层,其包含形成在主面上的支撑部以及形成在支撑部上的微细构造部;以及导电体层,其堆积在微细构造部上并构成产生表面增强拉曼散射的光学功能部。微细构造部具有直立设置在支撑部上的多个支柱。在支撑部...
  • 调制图案计算装置、光控制装置、调制图案计算方法、调制图案计算程序以及存储介质
    调制图案计算装置(20)的迭代傅里叶变换部(22a)对包含强度谱函数以及相位谱函数的波形函数进行傅里叶变换,在傅里叶变换后进行了基于所期望的波形的时间强度波形函数的置换之后进行傅里叶逆变换。迭代傅里叶变换部(22a)使用对表示所期望的波...
  • 调制图案计算装置、光控制装置、调制图案计算方法、调制图案计算程序以及存储介质
    调制图案计算装置(20)具备迭代傅里叶变换部(23a)、滤波处理部(23b)以及调制图案计算部(24)。迭代傅里叶变换部(23a)对包含强度谱函数以及相位谱函数的波形函数进行傅里叶变换,在傅里叶变换后进行了基于所期望的波形的时间强度波形...
  • 放射线检测器及其制造方法
    本发明的放射线检测器具备:光检测面板,其具有受光部、及与受光部电连接的接合垫;闪烁器层,其以覆盖受光部的方式设置于光检测面板上;及保护层,其以覆盖闪烁器层的方式设置于光检测面板上。保护层的外缘部具有:在闪烁器层与接合垫之间的区域与光检测...
  • 距离测定装置
    本发明所涉及的距离测定装置的处理部控制重置开关并在从将蓄积区域连接于重置电位直至下一次将该蓄积区域连接于重置电位为止的帧期间(Tf)内的多个电荷传送循环中,在一个以上的放出期间使光源部放出调制光并且在一个帧期间(Tf)内使电荷传送循环(...
  • 光检测装置
    本发明的光检测装置(1A)包括:法布里‑珀罗干涉滤光器(10);光检测器(3);间隔件(4),其具有供载置干涉滤光器(10)的底面中的光透过区域(11)外侧的部分的载置面;及粘合构件(5),其对干涉滤光器(10)与间隔件(4)进行粘合。...
  • 光检测装置
    半导体光检测元件(10)包含:多个雪崩光电二极管(APD),其以盖革模式动作并且形成在半导体基板(1N)内;灭弧电阻(R1),其相对于各个雪崩光电二极管(APD)串联连接并且配置在半导体基板(1N)的主面(1Na)侧;以及多个贯通电极(...
  • 半导体装置
    本发明的半导体装置(1)包含:半导体基板(2),其形成有贯通孔(7);第1配线(3);绝缘层(10);及第2配线(8),其在绝缘层(10)的开口(10a)中电连接于第1配线(3)。绝缘层(10)具有:第1弯曲部(101),其在第1开口(...
  • 投影显示装置
    投影显示装置具备:光源(2),其射出投影显示用的第1激光(L1)及检查用的第2激光(L2);扫描用驱动镜(3),其反射并扫描自光源(2)射出的第1激光(L1)及第2激光(L2);光扩散部(4),其具有使由扫描用驱动镜(3)扫描的第1激光...
  • 投影显示装置
    投影显示装置(1)具备:光源(2),其射出投影显示用的第1激光(L1)及检查用的第2激光(L2);扫描用驱动镜(3),其反射并扫描自光源(2)射出的第1激光(L1)及第2激光(L2);光扩散部(4),其使通过扫描用驱动镜(3)扫描的第1...
  • 光检测装置
    本发明的半导体基板(1N)具有:配置有多个像素的第一区域(RS1),及从主面(1Na)与主面(1Nb)相对的方向观察、以被第一区域(RS1)包围的方式位于第一区域(RS1)的内侧的第二区域(RS2)。在半导体基板(1N)的第二区域(RS...
  • 半导体装置的制造方法
    半导体装置的制造方法包含:第1工序,其在半导体基板(2)的第1表面(2a)设置第1配线(3);第2工序,其在第1表面(2a)安装光透过基板(5);第3工序,其以半导体基板(2)的厚度小于光透过基板(5)的厚度的方式将半导体基板(2)薄型...
  • 半导体装置
    本发明所涉及的半导体装置(1)中的贯通孔(7)为垂直孔。对于包含贯通孔(7)的中心线(CL)的平面来说在分别着眼于中心线(CL)的两侧区域的情况下,将连结对应于绝缘层(10)的开口(10a)的边缘的第1点(X1)和对应于第2开口(7b)...
  • 半导体装置及其制造方法
    半导体装置(1)包含:半导体基板(2),其形成有贯通孔(7);第1配线(3),其设置于半导体基板(2)的第1表面(2a);绝缘层(10),其设置在贯通孔(7)的内表面(7c)及半导体基板(2)的第2表面(2b);及第2配线(8),其设置...
  • 激光加工装置
    本实用新型提供一种激光加工装置,其能够使用激光的波长相互不同的多个激光光源。激光加工装置(200)具备:装置框架(210)、安装于装置框架(210)且支撑加工对象物(1)的支撑台(230)、相对于装置框架(210)可装卸的激光输出部(3...
  • 激光加工装置
    本实用新型提供一种激光加工装置,能抑制装置的大型化,同时使聚光光学系统侧的结构相对于加工对象物移动。激光加工装置(200)具备:装置框架(210)、安装于装置框架且支撑加工对象物(1)的支撑台(230)、安装于装置框架的激光输出部(30...
  • 激光输出装置
    本实用新型提供一种激光输出装置,其相对于激光加工装置可以容易地进行装卸。激光输出装置(300)具备:射出激光L的激光振荡器(310)、调整激光L的输出的λ/2波长板单元(330)及偏振光板单元(340)、将激光L向外部射出的反射镜单元(...
  • 激光加工装置
    本实用新型提供一种激光加工装置,其能够将反射型空间光调制器的反射面上的激光的图像容易且高精度地向聚光光学系统的入射光瞳面传像。激光加工装置具备:支撑加工对象物的支撑台、射出激光(L)的激光振荡器、调制并反射激光(L)的反射型空间光调制器...