本发明适用于本发明属于化工技术领域，具体提供一种用于含硅基材的原位清洗组合物及清洗方法。该组合物包含第一聚合物、第二聚合物、表面活性剂和pH调节剂，其中所述第一聚合物和第二聚合物都为亲水性非离子聚合物。本发明提供的原位清洗组合物可以改善...

本发明适用于本发明属于化工技术领域，具体提供一种用于碳化硅基材的化学机械抛光组合物及化学机械抛光方法。该组合物包含氧化铝磨粒、氧化剂和粘土，所述磨粒在组合物中在7.5至9.5的pH下具有负的zeta电位，其中所述粘土具有由动态光散射测得...

本发明适用于化工技术领域，具体涉及一种用于金属合金的化学机械抛光组合物及抛光方法。该组合物包含氧化铝磨粒、氧化剂和分散剂，其中，所述分散剂为纳米粘土，所述纳米粘土具有至多1000nm的z平均粒径，且所述纳米粘土的Zeta电位的值为至少‑...

本发明适用于化工技术领域，具体涉及一种用于金属合金的化学机械抛光组合物及抛光方法。该组合物包含氧化铝磨粒、氧化剂、分散剂、pH调节剂，其中，所述分散剂为纳米粘土，所述纳米粘土具有至多1000nm的z平均粒径。本发明提供的CMP组合物能用...

本发明适用于本发明属于化工技术领域，具体提供一种用于硅基材质的化学机械抛光组合物及化学机械抛光方法。该组合物包含磨料、第一聚合物和第二聚合物，其中所述磨料部分或全部为胶体二氧化硅磨粒。本发明提供的CMP组合物可以改善含硅基材的抛光效果，...

本发明涉及化学机械抛光组合物以及使用可用于边缘抛光的相同组合物对包含硅材料的基材进行化学机械抛光的方法。本发明具体涉及一种化学机械抛光组合物，其包含胶体二氧化硅磨粒、第一含氮化合物、第二含氮化合物和阴离子聚合物，其中所述胶体二氧化硅磨粒...

本发明涉及化学机械抛光组合物和用该组合物进行化学机械抛光的方法。本发明具体涉及包含氧化铝磨粒、粘土、水溶性聚合物的化学机械抛光组合物，其特征在于所述氧化铝磨粒在组合物中在2.5至4的pH下具有至少8mV的zeta电位，并且所述水溶性聚合...

本发明涉及化学机械抛光组合物以及使用可用于抛光硅晶片的相同组合物对含有硅材料的基材进行化学机械抛光的方法。本发明具体涉及一种化学机械抛光组合物，其包含胶体二氧化硅磨粒、含氮化合物、螯合剂、阴离子聚合物，其特征在于所述胶体二氧化硅磨粒在组...

本发明涉及化学机械抛光组合物和用相同组合物对包含硅氧化物材料的基材进行化学机械抛光的方法。本发明尤其涉及包含二氧化铈磨粒的化学机械抛光组合物，所述磨粒的特征在于立方形态、在组合物中在1

本实用新型公开了一种半导体化学机械抛光液回收处理装置，其通过过滤器过滤钨抛光废液泡沫和微米级的大颗粒，于重力分离罐内调整废液pH值以生成铁/钨氢氧化物胶体颗粒，并通过重力分离罐将废液中铁/钨氢氧化物胶体颗粒及剩余固体颗粒浓缩于重力分离罐...

本实用新型公开了一种可真空吸附抛光垫的抛光平台，包括：抛光垫、抛光盘、中空旋转轴、圆筒状底座和真空泵，所述抛光盘内部设置有真空腔，所述抛光盘的上表面开设有若干真空吸附孔，所述抛光盘的底面中部设置在所述中空旋转轴上，所述中空旋转轴通过真空...

本实用新型公开了一种抛光时同步清洁抛光垫的带式抛光装置，带式抛光垫循环往复地依次通过抛光区和清洁区，并于与抛光区相对的位置设有向带式抛光垫喷射抛光液的进液管和支撑抛光对象的支撑单元，于与清洁区相对的位置设有清理带式抛光垫上残留物的刷子工...

本实用新型公开了一种可以重复使用的化学机械抛光研磨垫组件，通过在抛光盘的外周套设可拆卸的固定圈，并在固定圈上设置承载平板，将抛光垫粘合在承载平板相对抛光板朝向的一面，由此需要更换或卸下抛光盘上的抛光垫时，可将抛光垫随固定圈和承载平板一起...

本实用新型公开了一种抛光过程中脉冲换液的化学机械抛光平台，通过在抛光盘的外围设置与其滑动配合的可升降环形挡板，并在抛光垫上设置一向抛光件倾斜的导液条，由此，在滴液前可驱动环形挡板上升以避免研磨液被甩出抛光垫外，减少研磨液损耗，并通过导液...

本实用新型公开了一种再生晶圆的粗抛光设备，包括：抛光机、储液容器、硅溶胶容器、螯合剂容器和PH容器，所述硅溶胶容器通过第一计量泵与所述储液容器连接，所述螯合剂容器通过第二计量泵与所述储液容器连接，所述PH容器通过第三计量泵与所述储液容器...

本实用新型公开了一种带有鱼鳞状凸起的化学机械抛光垫，包括抛光垫基体，所述抛光垫基体为圆形，所述抛光垫基体的表面均匀设置有若干排鱼鳞状分布的凸起，每一所述凸起的横截面设置呈圆形，且所述凸起的中心厚边沿薄，每排所述凸起靠近所述抛光垫基体边沿...

本实用新型公开了一种钻石环上的加压装置，转盘上设置有抛光垫，钻石环设置在抛光垫上，钻石环内依次堆叠有若干砝码，加压装置包括悬挂支架、螺杆和四滑槽，悬挂支架为两个倒U型支架交叉设置而成，两倒U型支架的交叉连接处开设有用于螺杆穿设的通孔，四...

本实用新型公开了一种化学机械抛光垫，包括抛光垫基板，抛光垫基板为圆形，抛光垫基板设置有以其中心为圆点的若干同心环形凸起，若干同心环形凸起间隔设置，若干同心环形凸起沿抛光垫基板的径向方向上的宽度一致，若干同心环形凸起沿抛光垫基板的直径方向...

本实用新型公开了一种带有凸起结构的化学机械抛光垫，包括：抛光垫基板和均匀分布设置在所述抛光垫基板上的若干凸起，相邻的两所述凸起间隔设置形成有沟槽；每一所述凸起的顶面呈内凹球面或外凸球面设置；所述内凹球面或所述外凸球面的半径小于所述凸起的...

本实用新型公开了一种具有工件摆动装置的化学机械抛光设备，包括：工作台、转盘、砝码组、限位环和摆动组件，工作台中部开设有容纳转盘的避位开口，转盘转动设置在避位开口内，转盘上设置有抛光垫，限位环设置在抛光垫上，砝码组设置在限位环内，砝码组用...